【課題】従来の技術の有する上記した問題点１乃至問題点７を解消するようにして、高い気密性と安定した電磁的遮蔽効果とを実現する。
【解決手段】上方の開口部において開口し、略矩形形状に形成された底面部の全領域にわって収容物が載置可能な収容部と、上記収容部の上記開口部の外周縁部全周にわたって配設される介在部材と、上記介在部材に当接して上記収容部の上記開口部を被覆する第１の蓋と、上記第１の蓋を上記収容部の上記開口部側に向かって付勢するようにして上記収容部に固定的に配設される第２の蓋とを有する。 （もっと読む）

【課題】 従来の歪み発生増幅器よりも大きな歪み成分を発生させることができる歪み補償装置を提供する。
【解決手段】 特徴的な歪み発生回路１７を備えた歪み補償装置とする。歪み発生回路１７は、入力端子１６に入力された入力信号を電力分配器５１で２つの線路に分配するとともに、これらの２つの線路の出力を電力合成器５６で合成する。一方の線路には、第１移相器５２と第１歪み発生器５３とを直列に挿入接続する。他方の線路には、第２移相器５４と第２歪み発生器５５とを直列に挿入接続する。第１移相器５２および第２移相器５４は、第１移相器５２から第１歪み発生器５３を介して電力合成器５６に入力される信号と、第２移相器５４から第２歪み発生器５５を介して電力合成器５６に入力される信号との位相差が略１８０度となるようにし、従来の２倍のレベルの歪み成分を出力する。
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【課題】搬送手段から落下した被処理物が堆積することがないようにして、搬送手段から落下した被処理物に起因して生じる不具合の発生を未然に防止する。また、被処理物を搬送するベルトコンベアのベルトの伸びに影響されることなく、被処理物を安定して搬送する。
【解決手段】所定の搬送方向に沿って搬送される被処理物にマイクロ波を照射して処理するマイクロ波照射処理装置において、載置した被処理物を所定の搬送方向に沿って搬送する搬送手段と、上記搬送手段によって搬送される上記被処理物にマイクロ波を照射する照射手段と、上記搬送手段の下方側に配設され、上記搬送手段に載置されて搬送される上記被処理物が上記搬送手段から落下する位置に配置された斜面部と、上記斜面部の下端に配置された排出孔とを備えた排出手段とを有する。 （もっと読む）

【課題】 従来の赤外線温度計測装置では計測することができなかった遮へい物内部の物体または遮へい物に遮られた物体の温度計測を可能にする非接触温度計測装置を提供する。
【解決手段】 計測対象となる物体Ｘから放射されるマイクロ波またはミリ波帯の信号をアンテナ部１１で受信し、受信した信号の成分の振幅値と既知の温度値とから所定の換算式による換算の際に使用される係数値を算定し、この係数値を校正テーブル１６に保存する。計測時には、物体Ｘについて計測した振幅値と校正テーブル１６に保存されている係数値とを上記の換算式に代入することによって、物体Ｘの振幅値を温度値に変換する。
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【課題】マイクロ波の照射を処理物の上下面のみならず側面からも照射可能にし、処理物の乾燥ムラまたは加熱ムラを確実に防ぐマイクロ波照射処理装置を提供する。
【解決手段】処理槽１０内に処理物１を搬入して上下面の両方から導波管１６を介してマイクロ波発生器１２ａ、１３ａで発生させたマイクロ波を導入及び照射して乾燥または温度を上げるマイクロ波照射処理装置であって、処理物１を前面から後面に搬送して処理するコンベア１１の処理槽１０を備え、この処理槽１０にマイクロ波を上下面の両方から照射可能な第１照射手段１２と、この第１照射手段１２に加えて処理物１両方の側面からも照射可能な第２照射手段１３とを備える。ここで、マイクロ波発生器１２ａ、１３ａには、処理槽１０に導波管１６を介して各方向からそれぞれ同時または別々にマイクロ波を照射可能に制御する制御手段１９を接続する。 （もっと読む）

【課題】薄板状またはシート状の被洗浄物の洗浄でも槽両側の振動子により定在波を発生させる調節ができ、洗浄液を励起して均一な洗浄が可能な超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄液を貯留した超音波洗浄槽１０内側の両側面にお互い平行に対向する一対の振動子１２を備えてこの振動子１２の間に被洗浄物１を設置して超音波洗浄する超音波洗浄装置であって、超音波洗浄槽１０内に延在して振動子１２が対向する間を遮断するとともに内部に密閉した中空部１４ａを備えて両側面を薄板状の隔壁１４ｂにより形成することでこの中空部１４ａを介した隔壁１４ｂが振動子１２による両側からの超音波を各々外側に反射して干渉を防止する反射板１４を備え、この反射板１４から両側の振動子１２までの距離Ｌをλ／４＋１／２＊ｎにして定在波を発生させ、この定在波が発生した反射板１４の両側で薄板状またはシート状の被洗浄物を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】装置内の空間を乾燥前と後とに区切ることができ、乾燥後の洗浄物に微小な液滴や微粒子が浮遊して付着することを抑えて品質の低下を防止する乾燥装置を提供する。
【解決手段】湿式洗浄後の薄膜または薄板状の洗浄物１を乾燥させる装置で洗浄物１を装置１０内で複数配列したローラ１１により移送する途中に上下から気体を吹き付けて乾燥させる気体噴射手段１３を有した乾燥装置であって、この装置１０内で洗浄物１を搬入して気体噴射手段１３の上下間を通過させて気体を吹き付けるまでの第１部屋１０ａと、洗浄物１が気体を吹き付けた後に移動して搬出されるまでの第２部屋１０ｂとの各部屋間に延在し、洗浄物１が通過する気体噴射手段１３の上下間の移送口１３ａを残して区切る仕切板１２を設けるとともに、第２部屋１０ｂに精密フィルタを介して清浄な空気を洗浄物１に向かって供給する空気供給部１４を備える。 （もっと読む）

【課題】 帯域外減衰特性の劣化及び導体損失の増加を防ぐマイクロストリップライン・フィルタを提供する。
【解決手段】 アルミナのような誘電体の基板上に、伝送系の特性インピーダンスよりも低い特性インピーダンスのバンド・パス・フィルタ（ＢＰＦ）１を形成するとともに、基板上に形成された信号入力端４とＢＰＦ１、信号出力端５とＢＰＦ１との間に、伝送系の特性インピーダンスとインピーダンス整合をとるためのマイクロストリップ型のインピーダンス変成部２，３を配備することにより、導体損失の増大を抑えたマイクロストリップライン・フィルタを構成する。 （もっと読む）

【課題】マイクロ波信号の伝搬時間とインピーダンス特性とを同時に調整することのできるマイクロ波信号伝送線路を提供する。
【解決手段】マイクロ波信号回路内においてマイクロ波信号を伝送するマイクロ波信号伝送線路を、空間を通る少なくとも１本以上の可撓性のある線により構成する。 （もっと読む）

【課題】一対の平板電極の電極主面間に発生する電界強度の分布を均一化するようにして、一対の平板電極の電極主面間においてほぼ一様の電界強度を得ることができるようにしたプラズマ発生装置を提供する。
【解決手段】所定の間隔で電極主面１０ａ，１２ａ同士を対向して配置した一対の平板電極１０、１２を有し、電極主面１０ａ，１２ａ間の空間にプラズマ放電を励起させるプラズマ発生装置において、一対の平板電極１０の接続点Ｐ、Ｑに給電線１８を接続するようにした。 （もっと読む）