【課題】 簡易な構成で、熱負荷によるガラス基板の割れなどを誘発することなく、１枚のガラス基板から複数枚のパネルを省エネルギーのもとに調製することを可能にする、基板への蒸着被膜の形成方法および当該方法を実施するための搬送トレイを提供すること。
【解決手段】 搬送トレイを、四角形状の枠体と、枠体の対向する枠辺と枠辺の間に、その両端を枠体の各枠辺と弾性部材を介して連結することでテンションを付加して架設した薄体状部材とから構成し、複数本の薄体状部材を、基板が搬送トレイに載置されている状態を形成するための保持部材として機能させるとともに、基板における２つ以上の蒸着被膜形成領域を画定するためのマスク部材として機能させる。 （もっと読む）

【課題】 長期に亘って成膜材料の補給を必要とせずに真空蒸着装置を連続運転することが可能であり、かつその間、成膜材料を常に一定の供給速度でリングハースへ安定して供給することができる成膜材料供給装置を提供すること。
【解決手段】 成膜材料供給室１０内において、例えば２週間程度は成膜材料の補給を必要としない量のＭｇＯペレットを収容し得る成膜材料ホッパー１１と、成膜材料ホッパー１１から排出されるＭｇＯペレットを計量して一定量のＭｇＯペレットを収容する計量ホッパー２１と、計量ホッパー２１から排出されるＭｇＯペレットを受けてそのまま成膜室２０内へ導く漏斗状ホッパー３１と、成膜室２０内において、漏斗状ホッパー３１からの受けるＭｇＯペレットをリングハース５０へ一定の速度で供給し、供給量が所定の値になると計量ホッパー２１から補給される回転円筒フィーダ４１とからなる成膜材料供給装置。 （もっと読む）

【課題】 簡易な構成で、熱負荷によるガラス基板の割れなどを誘発することなく、複数枚のガラス基板から複数枚のパネルを省エネルギーのもとに調製することを可能にする、複数枚の基板への蒸着被膜の同時形成方法および当該方法を実施するための搬送トレイを提供すること。
【解決手段】 搬送トレイを、四角形状の枠体と、枠体の対向する枠辺と枠辺の間に、その両端を枠体の各枠辺と弾性部材を介して連結することでテンションを付加して架設した薄体状部材とから構成し、複数本の薄体状部材を、複数枚の基板が搬送トレイに載置されている状態を形成することができる保持部材として機能させるとともに、基板における蒸着被膜形成領域を画定するためのマスク部材として機能させ、所定の薄体状部材の所定の位置に、複数枚の基板を載置した際、隣接する基板同士を仕切るための仕切り部材を設ける。 （もっと読む）

【課題】 生産性を向上させるとともに、省スペース化した真空処理装置を提供する。
【解決手段】 基板を真空処理する真空処理室１３０と、基板を載置して搬送する基板キャリア１２と、基板を大気側と真空側間とで搬入、搬出する予備室１２０Ａ、１２０Ｂとを具備した真空処理装置において、予備室１２０Ａ、１２０Ｂと真空処理室１３０間に、基板キャリア１２を搬出入させる基板キャリアスライド室３０を設けるとともに、この基板キャリアスライド室３０は、基板キャリア１２を滞在させる最小限の２対のレール３２Ａ、３２Ｂを有し、これらのレール３２Ａ、３２Ｂを予備室１２０Ａ、１２０Ｂ、又は、真空処理室１３０に基板キャリア１２を搬出入する位置に制御する位置制御機構を備える構成とした。
この場合位置制御機構は、ボールネジ３４Ａ、３４Ｂと直動ガイド４０とで構成すると良い。 （もっと読む）

【課題】 印加高周波電場が互いに干渉することなく、高密度のプラズマを形成することができ、また、対向電極に所定の値の高周波電圧を印加することができ、マスクの耐性を向上させると共に、良好なエッチ速度を達成することが可能な、簡単な構造を有する安価なエッチング装置の提供。
【解決手段】 基板電極と対向する位置に浮遊電極を設け、高周波電源からプラズマ発生用高周波アンテナコイルへ至る給電路の途中に分岐路を設けて、対向電極にコンデンサーを介して分岐した高周波電力を印加するように構成し、さらに、浮遊電極に印加される高周波電圧を一定に制御する機構を設ける。 （もっと読む）

【課題】 弾性波素子により構成される化学センサーにおいて、検出部への液接触面積を一定とするとともに、電極側に液状物を移動させないように構成することにより、検出精度を高めた化学センサー及びこれを用いた装置を提供することを目的とする。また、製造効率及び搬送効率の高い化学センサー及びこれを用いた測定装置を提供する。
【解決手段】 弾性波素子から構成される化学センサーであって、前記弾性波素子の導波路上に形成された検出部を疎水性部により囲んだことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】バリア性の高いバリア膜の形成方法を提供する。
【解決手段】
本発明に用いるターゲット４５ａ、４５ｂは、ＣｒとＡｌとを含有するフェロシリコンを主成分としており、そのようなターゲット４５ａ、４５ｂは耐久性が高いので、ターゲット４５ａ、４５ｂ割れに起因するピンホール等の欠陥が成膜される薄膜に発生し難い。また、耐久性が高いので、樹脂フィルム１１の長い成膜領域に成膜を行う場合であっても、ターゲット４５ａ、４５ｂを交換する必要がない。 （もっと読む）

【課題】 従来では、金属微粒子が付着した処理基板を作製する際に、触媒として作用する金属微粒子の粒径を制御することは困難であった。この場合、直径や層数の揃ったカーボンナノファイバーを得ることができない。
【解決手段】 基板に塗布した後に焼成するとポーラス膜が形成される所定の溶液を用い、この溶液にカーボンナノファイバーを成長させる際に触媒として作用する金属を溶解する。次いで、この金属が溶解した溶液を基板上に塗布した後に焼成して、金属微粒子が付着した処理基板を作製する。次いで、この処理基板の触媒層上にカーボンナノファイバーを成長せしめる。 （もっと読む）

【課題】 従来法によりカソード基板を作成した場合、カーボン系エミッタ材料Ｃが不均一に成長していると、電解電子放出特性分布が悪くなり、また、カーボン系エミッタ材料が所定の膜厚を超えて成長していると、このカーボン系エミッタ材料Ｃを介してカソード電極層とゲート電極層とが短絡する虞があった。
【解決手段】 処理基板１１上に順次積層したカソード電極層１２、絶縁層１３及びゲート孔開口部１４ａを形成したゲート電極層１４を備え、この絶縁層に形成したホール１３ａの底部に触媒層１６を形成し、この触媒層上にカーボン系エミッタ材料Ｃを成長させてなるカソード基板において、前記カーボン系エミッタ材料を、前記触媒層を所定の膜厚に設定してその成長が飽和するまで成長させたものとする。 （もっと読む）

【課題】バリア性に優れたバリア膜を提供する。
【解決手段】真空槽内に基板を搬入して(Ｓ₁)、昇温させ(Ｓ₂)、含窒素ガスと含高融点金属ガスのうち、一方のガスを導入し(Ｓ₃)、該一方のガスを真空排気した後(Ｓ₄)、他方のガスを導入し(Ｓ₅)、該他方のガスを真空排気する(Ｓ6)。この工程を複数回繰り返して行うと(Ｓ₉)、基板表面に吸着された一方のガスと、後から導入された他方のガスとの間でＣＶＤ反応が生じるので、コンタクトホール内にバリア膜がコンフォーマルに成長し、ステップカバレージのよいバリア膜を得ることができる。ＣＶＤ反応を行う毎にパージガスを導入し(Ｓ₇)、真空排気すると(Ｓ₈)、基板や真空槽に吸着された副生成物ガスや未反応ガスがパージガスと交換されるので、より高純度なバリア膜を得ることが可能となる。 （もっと読む）