【課題】 空気中に含まれる窒素酸化物を空気の流れを利用して高活性炭素繊維に接触させて酸化吸着し降雨（雨水）及び場合によっては高湿度に空気によって洗浄除去することが可能で設置スペースの制約を受けず稼動用エネルギー及び保守管理作業を必要としない窒素酸化物の除去システムを提供する。
【解決手段】 空気中に含まれる一酸化窒素及び二酸化窒素のいずれか一方又は双方を含む窒素酸化物の除去システム１０であって、空気の流れる場所に、窒素酸化物を捕捉する高活性炭素繊維を集めた板状物１６を１又は２以上備えた浄化ユニット１５を、雨水及び空気のいずれか１又は双方に曝される状態で配置し、高活性炭素繊維に空気を接触させて含まれる窒素酸化物を酸化吸着し、酸化吸着した窒素酸化物を雨水及び高湿度の空気のいずれか１又は双方によって洗浄除去し、高活性炭素繊維を再生する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、足底圧感覚の障害者が行う歩行において、足底圧力の情報を皮膚感覚提示手段によってリアルタイムに提示し、かつ、位置によって異なる足底圧力の弁別が容易であり、さらに、提示が周囲に影響を与えず、装置全体を身体に着用することが可能である足底圧力提示装置を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明は足底圧センサ、AD変換機能、DA変換機能、演算機能を有するマイクロコンピュータと皮膚感覚提示装置を備え、身体に装着することが可能な足底圧力提示装置である。足底圧感覚障害者の歩行における足底内の複数の部位に作用する圧力を足底圧センサにより計測し、コントローラにおいて足底圧力データから皮膚刺激データを計算し、足底部位に対応した複数の皮膚感覚提示装置によって足底圧感覚の障害者に足底圧力を提示するものである。 （もっと読む）

【課題】被検査物における音速の周波数依存性に関する情報を得ることができ、その被検査物の物理特性をより正確に把握すること。
【解決手段】トランスデューサ１４はパルス励起されることによって超音波を生体組織２１に向けて照射するとともに、生体組織２１からの反射波を受信する。ＣＰＵ３１は、ガラス基板２０からの反射波を用いてデコンボリューション処理を行うことで、生体組織２１からの反射波を補正する。ＣＰＵ３１は、補正した反射波から、生体組織２１の表面での反射波及び裏面での反射波を時間領域で分離する。ＣＰＵ３１は、分離した各反射波をそれぞれ周波数領域で解析することにより、周波数に応じた生体組織２１の音速を算出する。 （もっと読む）

【課題】被検査物の音速及び音響インピーダンスを求め、それらを用いて被検査物の物理特性をより正確に把握すること。
【解決手段】トランスデューサ１４はパルス励起されることによって超音波を生体組織２１に向けて照射するとともに、生体組織２１からの反射波を受信する。ＣＰＵ３１は、ガラス基板２０からの反射波を用いてデコンボリューション処理を行うことで、生体組織２１からの反射波を補正する。ＣＰＵ３１は、補正した反射波から、生体組織２１の表面での反射波及び裏面での反射波を時間領域で分離する。ＣＰＵ３１は、分離した各反射波をそれぞれ周波数領域で解析することにより、複数の周波数についての音速及び音響インピーダンスを求める。 （もっと読む）

【課題】摩擦撹拌作用により作製した異種金属材料接合体を，接合界面で容易に分離し，接合前の異種金属材料ごとに分離する。
【解決手段】摩擦撹拌作用により，接合面に脆弱な異種金属間化合物相を形成することなく接合した異種金属材料接合体に対し，大気中で加熱処理を行うことにより，当該接合界面近傍に，意図的に脆弱な異種金属間化合物相を形成し，当該化合物相の脆弱性を利用し，異種金属材料接合体に対する外部負荷により，異種金属間化合物相を優先的に破壊することにより，異種金属材料接合体を接合界面近傍で容易に破断させる。 （もっと読む）

【課題】シリコン半導体結晶を用いたＭＯＳ型ＦＥＴを製作する際に、界面準位密度を再現よく大幅に低減させる製造方法を提供すること。特に、シリコン結晶主表面として通常用いられる（１００）面以外の（１１１）面にも有効な製造方法を提供すること。
【課題を解決するための手段】ＭＯＳ型ＦＥＴを製作する工程で、半導体基板と該基板主表面に、少なくとも絶縁膜と多結晶シリコン膜を堆積した構造において、イオン打ち込みと熱拡散法を用いて、半導体界面もしくは表面にフッ素（Ｆ）を存在させ、かつ、その半導体基板に対して水素（Ｈ_２）ガスを含む雰囲気において所望条件のアニール処理を行なうことで、従来のＣＭＯＳデバイスを製作する上で性能の劣化原因となっていた界面準位密度を著しく低減でき、優れた電界効果移動度特性が実現できる。また、この方法は、半導体基板結晶面としては、通常用いられる (１００)結晶面とそれ以外の（１１１）や（１１０）面にも適用可能である。
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【課題】ナノカーボン材料を効率よく連続的に製造することができ、製造効率の向上が可能なナノカーボン材料の製造装置及び製造方法を提供すること。
【解決手段】ナノカーボン材料の製造装置１は、ＣＶＤ反応を行う反応チャンバ２と、反応チャンバ２内を加熱するヒータ２１と、基板６を冷却する冷却チャンバ４と、反応チャンバ２内に原料ガスを供給するガス供給手段と、反応チャンバ２内のガスを排気する排気手段と、基板６を支持すると共にＣＶＤ反応を行う反応位置２０２へ移送可能な基板支持部２２と、基板６を反応チャンバ２から冷却チャンバ４へ移送する移送手段とを有している。反応チャンバ２と冷却チャンバ４との間には、両者の間を連通させる排出用気密連通路５２が設けられており、排出用ゲート５２１の開閉により両者の間の連通状態と遮断状態とを切り替えることができるように構成されている。 （もっと読む）

【目的】一部に真空アークプラズマを用いて、ドロップレットの影響を受けることなく高純度に、かつ円滑に単一膜、混合膜及び積層膜を成膜するプラズマ表面処理方法、プラズマ処理装置及びこれらを用いて処理された目的物を提供する。
【構成】２種類の第１プラズマ１６及び第２プラズマ１７を使用する。各プラズマは、第１プラズマ発生部２、第２プラズマ発生部３において真空雰囲気下に設定されたアーク放電部で真空アーク放電を行って発生させる真空アークプラズマであり、第１と第２プラズマ導入路２２、２３を介して共通輸送ダクト１０に導入される。このとき、第１及び第２プラズマ１６、１７を共通輸送ダクト１０に導入するタイミングを制御して、プラズマ処理部１内のワークＷ表面に対して積層膜形成等の表面処理加工が行われる。各プラズマ導入路のプラズマ導入角度は共通輸送ダクト１０の輸送方向に対して鋭角に設定されている。 （もっと読む）

【課題】 攪拌子やシャフト、または特殊器具を用いることなく、少量（特に1ml以下）かつコンタミネーションの虞の少ないW/Oエマルジョンを作成する方法を提供すること。
【解決手段】 乳化に必要な容量（1ml以下）の油と水溶液を容器６に入れ、電圧電極３を容器６内部に設置し、容器６の外側に接地電極８を置く。容器６には誘電体で形成されているものを用い、交流電圧１０を印加することで、容器６内部の油と水溶液を混合させる。なお、電圧電極３は、容器６の外側に配置することもできる。この方法は、小型化することが容易で、攪拌部分が単純な構造であるので、安価で使い捨てにすることができ、電界を利用することから、並列処理にも適している。 （もっと読む）

【課題】物体の３次元形状の計測の高速化を図り、物体の３次元形状を計測する際の計測時間を短縮化する。
【解決手段】駆動電極と帰還電極とを有する圧電振動板と、上記圧電振動板に固着された針とを有し、上記駆動電極に交流電圧を印加することにより上記針が微小振動する一方で、上記帰還電極からは上記針の振動に応じた帰還電圧が出力される接触式触覚センサの制御方法において、所定の基準振幅値と現在の振幅値との差分から接触式触覚センサと測定対象物との相対距離を得る第１のステップと、上記第１のステップで得た相対距離の変化の履歴に基づいて、上記接触式触覚センサの速度を得る第２のステップとを有する。 （もっと読む）