説明

国立大学法人豊橋技術科学大学により出願された特許

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【課題】1つのセルで低濃度から高濃度に至る幅広い濃度を有する被測定液の濃度測定を容易にかつ高精度で行いうる、小型でかつ薄型のマイクロセルを提供する。
【解決手段】光路長が異なる複数の流路が形成してあり、光検出部と当該光検出部から出力された検出信号を処理するための電気回路とを一体に設けた半導体基板と、その基板の表面に貼り付けられるカバー部材とを備えており、前記半導体基板と前記カバー部材とのいずれか一方に有底溝が形成してあり、前記半導体基板と前記カバー部材とのいずれか他方で前記有底溝の開口部を閉塞して前記流路が形成してあるようにした。 (もっと読む)


【課題】フロンを再生する時間を短くでき、消耗品をなくすことによりランニングコストが安くなり、且つ装置の小型化を図ることができるフロン再生方法を提供する。
【解決手段】回収されたフロンを充填してあるボンベからガス化し、接続されている配管を通すことにより、フロンに含まれている不純物を配管の摩擦で帯電させる。その後、電界集塵装置でその電荷をもった微粒子を集塵し、除去する。短時間でフロンの純度を高めることができる。 (もっと読む)


【課題】高密度配線基板及びそれを用いた電子装置、電子機器の提供。
【解決手段】リジット配線基板、FPC、TAB用配線テープなどの高密度配線基板の製法において、銅箔などの金属箔のケミカルエッチン用、または銅などの導電性アディティブめっき用のレジストパターンの形成に、石英基板、サファイア基板、金属基板などにミクロン、サブミクロン、あるいはナノメートルサイズのパターンを形成した印刷版によるインプリント方式を用いる。さらに金属箔上へのレジスト膜形成、ケミカルエッチング、またはアディティブめっき、レジストパターン剥離工程の全工程、またはこれらの一部の工程に、レジストパターン形成のためのインプリント工程を、インラインとして含むことを特徴とする、高密度配線基板の製造方法、およびこれを用いて製造した配線基板ならびにこれを用いた電子装置、電子機器。 (もっと読む)


【課題】
下肢運動障害者の歩行運動を補助することを目的とした従来の装置は、あらかじめ脚の動きがプログラムされており、自ら、歩幅や脚の速度を調整することができないという問題があった。本発明は下肢運動障害者が自ら動かすことができない下肢の運動を、下肢運動障害者が自ら調整可能な下肢運動補助装置の制御装置とその制御法を提供することを目的とする。
【解決手段】
本発明は、下肢運動障害者が自ら動かすことの可能な部位の運動を計測するセンサのデータからその部位の移動距離と運動時間を決定する手段を備え、この移動距離と運動時間に基づいて、下肢運動障害者の下肢に取り付けられた動力に軌道追従制御を行うことによって、下肢運動障害者の下肢の運動を引き起こす.本発明に依れば、下肢運動障害者は自ら動かすことが可能な部位の運動によって下肢の運動を調整しながら歩行することが可能となる。
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【課題】微粒子自体が物質変換に関わるという機能を有した高分子超微粒子を得ることを目的とする。すなわち、本発明は医薬品、化粧品、染料、塗料などの製造に適用できる微粒子自体が物質変換に関わるなどの機能を有した高分子超微粒子を得ることを目的とする。
【解決手段】酸化還元系を形成する化合物を側鎖官能基として持つブロック共重合体を酸化剤と反応させることにより種々の化合物に対して変換機能をもつ数十ナノメートルの球状高分子超微粒子が得られることを見出した。 (もっと読む)


【課題】 ポリ乳酸廃棄物から回収される乳酸の光学純度を所定の範囲ごとに分離しつつ行う方法及び装置を提供すること。
【解決手段】 2点以上の相異なるポリ乳酸の融点を備えたポリ乳酸混合廃棄物を水分と共に高温処理機21の内部で約110℃〜約200℃の高温とし、約1時間以上の初期処理の後、約110℃〜約200℃の温度で熱処理を行いつつ、約10分間〜約24時間の所定の時間区分ごとに反応液を回収することにより、所定の光学純度を備えた乳酸を分離回収することができる。 (もっと読む)


【課題】高度な微細加工技術を用いることなく、また、試料を汚染させることなく、微細流路中の流体を操作可能な微小ポンプを提供すること。
【解決手段】微細流路1と微小電極2を組み合わせることにより電極が設置された流路を作製する。微小電極間に交番電圧を印加すると共に、電極近傍にレーザーを照射することにより微細流路中の流体に駆動力を発生させる。この方法は、簡単な微小電極を作成するだけなので、ポンプの構造を容易に作成することができ、電界を利用することから、脈流もなく自動制御にも適している。 (もっと読む)


【課題】半導体基板の表面を酸化膜で保護しつつ、金属酸化物薄膜形成時に酸化膜の酸素を還元して成膜を行うことで、高品質な金属酸化物薄膜を得る。
【解決手段】半導体基板2を化学溶液に浸し、半導体基板2上に酸化膜4を形成する。その後、半導体基板2を成膜装置に導入し、単結晶金属酸化物薄膜6を成膜させる。半導体基板2を加熱した状態で、成膜装置内で、金属原子および酸化ガスを半導体基板2の酸化膜4に供給する。酸化膜4は金属原子に還元され、半導体基板2の表面に単結晶金属酸化物薄膜6が成膜される。 (もっと読む)


【課題】 材料の無駄を削減し、切削時の損傷に起因する工具コストを削減することができる接合方法および接合体を提供する。
【解決手段】 金属基複合材料10と軟質金属20とを接合する方法において、軟質金属を摩擦攪拌することにより生じた塑性流動により、金属基複合材料と軟質金属とを接合する。この場合、金属側に接合ツールのピンを挿入し軟質金属を摩擦攪拌することにより、界面で塑性流動を引き起こし接合する。これにより、構造物の作製を容易にし、バルク材から切り出し成形する必要がなくなる。その結果、大型の鋳型が不要となり、材料の無駄を削減することができる。また、切削時の損傷に起因する工具コストを削減することができる。 (もっと読む)


【課題】ロータ12の振れ回り接触振動が発生したとしても、振れ回り接触振動を継続させることなく、振れ回り接触振動の状態から離脱することができる回転体機器1を提供する。
【解決手段】回転体機器1は、ケース11に対して回転可能に配置されるロータ12を備える。このロータ12は、円形断面外周面からなるロータ軸12aを有する。さらに、回転体機器1は、ロータ軸12aの円形断面外周面との間に所定間隙δを形成する円形断面内周面を有するガイドリング15と、ケース11に対してガイドリング15を回転計方向にばね支持する弾性支持部16とを備える。そして、弾性支持部16の第1方向のばね剛性kxと第1方向に直交する第2方向のばね剛性kyとは異なるようにされている。 (もっと読む)


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