光電池モジュール、少なくとも２つのモジュールを含む光電池アレイ、およびモジュールの形成方法を提供する。モジュールは第１最外層および第１最外層上に配置した光電池を含む。モジュールはまた光電池上に配置し、光電池を第１最外層との間に挟む第２最外層を含む。モジュールの形成方法は、光電池を第１最外層上に配置する工程、シリコーン組成物を光電池上に配置する工程、ならびに第１最外層、光電池および第２層を圧縮して光電池モジュールを形成する工程を含む。
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本発明は、建設基材、例えば建築構成材のような基材の撥水性を向上させる組成物を提供する。この組成物は、水と、シリコーン樹脂、アルコキシシランまたはポリシロキサンである少なくとも１つの撥水性ケイ素含有化合物と、アルキル基が１〜６個の炭素原子を含有するアルキルポリ（エチレンオキシ）シロキサン基およびアルキルシロキサン基を含有するシロキサン界面活性剤とを混合することにより形成した混合物を含有する。組成物は前処理した基材、より一般的には湿潤または浸透しにくい基材に対して用いることができる。 （もっと読む）

ビスアミノシラシクロブタンと、窒素供給ガス、酸素供給ガスおよびこれらの混合物から選択した原料ガスとの反応ガス混合物の熱重合によるシリコン含有薄膜の生成方法。堆積膜は窒化ケイ素、炭窒化ケイ素、二酸化ケイ素または炭素ドープ二酸化ケイ素であってもよい。これら膜は、半導体デバイスにおける誘電体、不動態化膜、バリア膜、スペーサ、ライナおよび／またはストレッサとして有用である。
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アミノ官能末端ブロックシリコーンポリエーテルコポリマーを含有するパーソナルケア組成物を開示する。アミノ官能末端ブロックシリコーンポリエーテルコポリマーは、もつれた髪のほぐしやすさ、コーミング、しなやかさ、滑らかさ、滑りやすさおよびスタイリング上の利点を含むコンディショニングをもたらすヘアケア製剤に特に有用である。 （もっと読む）

【課題】良好な表面品質を有する押出物をもたらす熱可塑性樹脂組成物の加工方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）１００重量部の熱可塑性樹脂；（Ｂ）０．０１〜１重量部の数平均分子量が少なくとも１０，０００であるヒドロキシ官能性ジオルガノポリシロキサン；及び（Ｃ）０．００１〜１重量部の有機燐化合物を含む熱可塑性樹脂組成物をニッケルダイを通じて押出すことにより表面荒さの程度が低い押出物を提供する熱可塑性樹脂組成物の加工方法。 （もっと読む）

液体洗浄製品用の織物、繊維、毛髪または皮膚コンディショニング添加剤をケイ素含有ポリマーネットワークからなるシェル内にカプセル化する。 （もっと読む）

シリコーンテキスタイル処理剤の懸濁シリケートシェルのマイクロカプセルを含有する組成物を開示する。かかる組成物は、疎水性、柔軟性および難燃特性をもたらすテキスタイル処理剤として特に有用である。 （もっと読む）

本発明は、水反応性ケイ素化合物を水中油型エマルジョンに添加し、これによって、水反応性ケイ素化合物を縮合および重合させて、前記エマルジョンの油相を含むコアを有するシリケートシェルマイクロカプセルを形成させる工程を含む、シリケートシェルマイクロカプセルの製造方法を提供する。この水反応性ケイ素化合物は、テトラアルコキシシランと、アミノまたは第四級アンモニウムが置換したアルキル基を有するアルコキシシランとを含む。 （もっと読む）

少なくとも３０％のマイクロカプセルの体積分率を有し、５０℃で少なくとも１か月間ゲルを含まないシリケートシェルマイクロカプセルの水性懸濁液、およびそれらを得るための方法を開示する。シリケートシェルマイクロカプセルの水性懸濁液の連続相の不揮発性固形分を０．３質量パーセント未満まで低減することを含むシリケートシェルマイクロカプセルの水性懸濁液の安定性を向上させる方法を開示する。シリケートシェルマイクロカプセルおよびコロイド状シリケート粒子の水性懸濁液にコロイド状シリケート封鎖剤を添加することを備えるシリケートシェルマイクロカプセルの水性懸濁液の安定性を向上させる方法も開示する。 （もっと読む）

本発明は、ナノ粒子の合成のための低圧超高周波パルス・プラズマ反応器システムを提供する。このシステムには、少なくとも１つの基板を受け取るように構成され、選択した圧力まで排気することができるチャンバが含まれる。このシステムには、少なくとも１つの前駆体ガスからプラズマを生成するためのプラズマ源と、選択した周波数でプラズマに連続又はパルスの無線周波数電力を供給するための超高周波無線周波数電力源とがさらに含まれる。この周波数は、パルス無線周波数電力とプラズマとの間の結合効率に基づいて選択される。ＶＨＦ放電及びガス前駆体のパラメータはナノ粒子の特性に基づいて選択される。ナノ粒子の平均サイズ及び粒子サイズ分布は、放電を通るガス分子滞留時間に対するグロー放電の滞留時間（パルシング・プラズマ）と、１つのナノ粒子前駆体ガス（又は複数のガス）の質量流量とを制御することによって操作される。
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