【課題】排水中に含まれる金属元素の分析のためのサンプリング及び排水の前処理を長時間安定して行うことのできる前処理装置を提供する。
【解決手段】試料液を容器に採取する手段と；容器内の試料液に一定量の酸を添加する酸添加手段と；ガラスボールフィルターと；容器の内外にガラスボールフィルターを挿抜する手段と；ガラスボールフィルターと試料液出口を繋ぐ試料液配管と；試料液配管に空気を供給する空気配管と；試料液配管に洗浄水を供給する洗浄水配管と；受取容器内の試料液をガラスボールフィルターを介して試料液配管に通し、試料液出口から排出させる試料液輸送手段と；試料液出口から排出される試料液を受け取る測定槽とを備えた試料液中の金属濃度分析のための前処理装置。 （もっと読む）

【課題】 イリジウムおよびイリジウム以外の白金族を含有する溶媒抽出剤を少量含む塩化アンモニウム溶液を出発原料として高純度イリジウム溶液を得る、高純度イリジウムの回収方法。
【解決手段】 溶媒抽出剤を少量含む塩化アンモニウム溶液であり、かつ、イリジウ
ムおよびイリジウム以外の白金族も含有する溶液から溶媒抽出剤を除去する第一工程
その後、大部分が塩化イリジウム酸アンモニウム塩からなる晶析物を得る第二工程、
晶析物に対して酸化剤を添加し、晶析物を溶解して高濃度イリジウム溶液を得、そ
の際にイリジウム以外の不純物を不溶解性残渣として除去する第三工程、からなる高純度イリジウムの回収方法。 （もっと読む）

【課題】ルテニウムを含むスクラップから、効率よくルテニウムを分離回収する方法を見出すことである。
【解決手段】ルテニウムを含むスクラップから、ルテニウムを回収する方法において、粉体状のスクラップに塩化ナトリウムをルテニウムの可溶性塩化反応に必要とする量の１〜7倍、炭素粉を必要とする量の０．５〜１２倍を混合し、これを塩素ガス雰囲気中で７００から８５０℃にて加熱し、可溶性のルテニウム塩を得る。これを水に溶解したものに酸化剤に臭素酸ナトリウムを用いてルテニウムを四酸化ルテニウムに変換して酸化蒸留し、塩酸溶液中にルテニウムを精製、回収する方法。 （もっと読む）

【課題】良好なサイクル特性を有するリチウム二次電池用負極及びその製造方法を提供する。
【解決手段】銅又は銅合金箔基材上の片面もしくは両面にＬｉと合金化するＳｎとＬｉと合金化しない金属との合金薄膜活物質層を形成してなる薄膜負極において、ＣｕＫα線をもちいた該負極活物質のＸ線回折法での最大ピークの半値幅が２θで０．２〜０．５５°であることを特徴とするリチウム二次電池用負極。 （もっと読む）

【課題】 隔膜電解槽を用いた電解採取法において、陰極室内の液組成不均一が生じるのを防止して、電着不良無く安定した金属ニッケルを製造する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】陽極室液面より高く維持した陰極室液面よりさらに高い位置まで隔膜を設けて、陰極室上部の液を滞留させずに側面の隔膜から安定して流すことで液組成分布の不均一発生を防ぐ方法。 （もっと読む）

【課題】特定の結晶方位に揃えた従来のターゲットに比べて、成膜速度が大きく、膜の均一性（ユニフォーミティ）に優れ、またアーキングやパーティクルの発生が少ない成膜特性に優れたタンタルスパッタリング用ターゲットを提供する。
【解決手段】タンタルターゲットの表面において、全体の結晶配向の総和を１とした時に、（１００）、（１１１）、（１１０）のいずれの配向を有する結晶も、その面積率が０．５を超えないことを特徴とするタンタルスパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】電解液中に含まれる微量ニカワを再現性良く定量分析することのできる方法を提供する。
【解決手段】電解質成分を含む電解液中に含まれるニカワの定量分析方法であって、両親媒性ポリマーに電解液を接触させて電解液中に含まれるニカワを該ポリマーに吸着させる工程と、該ポリマーに溶離液を接触させて吸着されたニカワを溶出させる工程と、溶離液中のニカワを検出器で検出する工程とを含む分析方法。 （もっと読む）

【課題】 リチウム電池滓から三元系Li金属塩からMn、Co、Ni及びLiといった有価金属を回収する。
【解決手段】 ほぼ等量のCo,Ni及びMnを含有するリチウム酸金属塩を含有するリチウム電池滓を、250g/l以上の濃度の塩酸溶液にて攪拌浸出、または、200g/l以上の濃度の硫酸溶液にて65〜80℃に加熱しながら攪拌浸出、または、200g/l以上の濃度の硫酸溶液と20g/l以上の過酸化水素溶液を混合した溶液にて攪拌浸出処理し、浸出液につきMn、Co及びNiの3種の金属の98％以上を酸性抽出剤で溶媒抽出し、それぞれの金属を含有する溶液を生成し、これらの溶液と抽出後のLiを含む残液からMn、Co、Ni及びLiといった有価金属を回収する。 （もっと読む）

【課題】材料特性への影響が少ない新たな手段によって耐金型磨耗性が良好なＣｕ−Ｃｒ−Ｓｎ−Ｚｎ系合金を提供する。
【解決手段】Ｃｒを０．１〜０．４質量％、Ｓｎを０．１〜０．３質量％、Ｚｎを０．１〜０．３質量％含有し、残部がＣｕ及び不可避的不純物からなるＣｕ−Ｃｒ−Ｓｎ−Ｚｎ系合金であって、Ｏ濃度が１質量％以上である表面酸化層の厚みが０．６μｍ以内であり、表面酸化層の下に形成されるＣｒ欠乏層の厚みが０．２〜１μｍ以内であるＣｕ−Ｃｒ−Ｓｎ−Ｚｎ系合金。 （もっと読む）

【課題】相変化光ディスクの記録層と保護層との間中間層として、リアクティブスパッタリングによって成膜されるＧｅＣｒＮ系層の成膜速度及び膜組成のばらつきを抑制し、製品歩留まりを上げることができるＧｅ−Ｃｒ合金スパッタリングターゲット及びその製造方法を提供する。
【解決手段】Ｃｒ５〜５０ａｔ％を含有するＧｅ−Ｃｒ合金スパッタリングターゲットにおいて、相対密度が９５％以上であることを特徴とするＧｅ−Ｃｒ合金スパッタリングターゲット及び平ふるい下７５μｍ以下のＣｒ粉と、ふるい下２５０μｍ以下でありかつＢＥＴ比表面積０．４ｍ^２／ｇ以下であるＧｅ粉を均一に分散混合させた後、焼結することを特徴とするＧｅ−Ｃｒ合金スパッタリングターゲットの製造方法。 （もっと読む）