【課題】本発明は、ホログラムによる再生物体像と再生光源の位置関係に着目し、光源位置によって変化のない再生物体像と、各々の光源位置によって変化する立体的影像を同時に再生することにより、目視による真偽の判定が容易であり、かつ、偽造・改ざん・変造を困難とする偽造防止媒体及び転写箔を提供する。
【解決手段】ホログラムまたは回折構造物（以下、回折構造物を含めてホログラムと称する）層を有し、再生光照射方向とホログラム層の位置関係に対応した再生物体像と立体的影像とが同時に再生でき、且つ、再生光照射方向の変化に対応して、前記立体的影像のみが変化する事を特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 カードゲーム用カードにおいて、視覚表現を実現させこれをゲームとして楽しむ。
【解決手段】 複数枚のカードを重ね合わせることによりカードの正面に視覚表現を実現させるためのカードゲーム用カードであって、該カードは少なくとも一部に光透過性の表示部を有し、該表示部には有色および／または無色の点（ドット）が多数配置されてなり、複数枚のカードの重ね合わせ時に、前記点（ドット）の重なりによって色彩が変化する。 （もっと読む）

【課題】個人認証用の情報が認識でき、かつ、偽造防止対策が付与された情報表示体とその製造に用いる転写箔を提供すること。
【解決手段】少なくとも一部に光学的に情報を機械読み取り可能なＯＶＤ１６を有する情報表示体において、情報が記録されたＯＶＤ部分の一部あるいは全面に反射性薄膜層１５が積層され、それ以外のＯＶＤ部分に透明性反射層１４が積層されてなる。情報が記録されたＯＶＤ部分に反射性薄膜層が積層され、該反射性薄膜層を含むＯＶＤ層の全面あるいは一部分に透明性反射層が積層された構成としても良い。 （もっと読む）

【課題】個人認証用の情報が確認でき、かつ、偽造防止対策が付与された情報表示体とその製造に用いる転写箔を提供すること。
【解決手段】情報が記録されたＯＶＤ部分の一部あるいは全面に反射性薄膜層１６が設けられ、かつ、それ以外のＯＶＤ部分に透明性反射層１４が設けられてなる情報表示体において、少なくとも反射性薄膜層１６の下側に耐熱層１５が設けられ、該耐熱層１５はガラス転移温度が１７０℃以上である樹脂成分を６０％以上含む材料からなる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、単一波長のレーザー光でコンタクトコピーを試みても、体積ホログラムの模倣を困難とする体積ホログラム積層体および簡易な工程で製造できるその製造方法の提供を課題とする。
【解決手段】本発明の体積ホログラム積層体は、基材上に部分的に樹脂層が設けられると共に、該樹脂層上に隣接し、かつ前記基材上に体積ホログラム層が積層された体積ホログラム積層体であって、前記樹脂層には体積ホログラムが形成されると共に、体積ホログラム積層体における樹脂層が設けられた部分と樹脂層が設けられていない部分とで再生中心波長が相違するものである。 （もっと読む）

【課題】本発明は、コピー防止効果が高く、直接観察では目視確認が不可能で、かつ、真偽判定を行う専用の検証器を事前に準備、配布または入手する必要がなく、真偽判定が簡易に行うことのできる偏光潜像デバイス部と検証部とが一体となっている潜像の可視化と目視確認を可能とする偽造防止体、偽造防止体の真偽判定方法、およびこの偽造防止体を用いた偽造防止ラベル、偽造防止印刷物を提供する。
【解決手段】光吸収／反射層として機能とする着色遮光性鏡面基材の一部の領域に異なる偏光軸からなる偏光パターンと偏光子を積層して形成してなる偏光潜像デバイス部と、該偏光潜像デバイス部領域以外の前記遮光性鏡面基材の表面に潜像を顕像化させて視認可能とする検証部とが一体となっていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】正規品本体に直接記録され、真贋判定パターンによる意匠性が損なわれることがなく、それでいて簡単・確実に真贋判定ができ、かつ容易に複製されることがないようにした成形体、半導体メモリ等の電子機器、及び真贋判定方法を提供する。
【解決手段】成形体１１表面の形状記憶樹脂に、ナノインプリント法により凹凸形状による真贋判定パターン１２が一次賦形として転写された構成とする。また、一次賦形の真贋判定パターンそのままの状態で真贋判定ができる。さらには、この一次賦形の真贋判定パターンを二次賦形させて置き、常時は凹凸形状の周期的な構造に起因する文字、記号あるいは文様等の表示、発色などを消失させた状態にして置くことも可能になる。 （もっと読む）

【課題】高分子液晶材料を含んだ転写材層を基材から物品上へと部分的に転写させる場合に、より小さな力で基材を剥離可能とするか又はバリや欠けなどの不良を生じ難くする。
【解決手段】本発明の転写箔１０は、基材と、これと向き合い且つ高分子液晶材料を含有した複屈折性層を備え、基材に剥離可能に支持された転写材層と、これを被覆した接着層とを具備し、転写材層は、可視像及び／又は潜像が記録されており、基材から被転写体へと転写される表示領域Ｒ１ａ，Ｒ１ｂと、表示領域Ｒ１ａ，Ｒ１ｂを縁取っており、表示領域Ｒ１ａ，Ｒ１ｂの転写の際にその輪郭に沿った破断を生じる縁取り領域Ｒ２とを含み、縁取り領域Ｒ２のうち、表示領域Ｒ１ａ，Ｒ１ｂを転写する際に破断の起点となる破断開始部において、高分子液晶材料のメソゲン基は表示領域Ｒ１ａ，Ｒ１ｂの剥離方向と交差する方向に配向していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】偽造がされ難く、通常の可視光源下では判り難く、特定の偏光フィルムや特定の検証機等を使わずに、極簡単な検証方法で、隠しパターンを確認出来る偽造防止構造体及びそれを用いた偽造防止枚葉体並びにその真偽判定方法の提供にある。
【解決手段】一方の面に凹凸部を有する回折構造体２と、該凹凸部を覆うように設けられている反射層３と、該反射層３と反対側の面に全面に設けられている偏光子４とからなる偽造防止構造体１であって、前記回折構造体２は、４００ｎｍ以下の周期と０．３以上のアスペクト比を有する回折格子構造、又はクロスグレーティング構造を有していることを特徴とする偽造防止構造体１及び偽造防止枚葉体並びにその真偽判定方法である。 （もっと読む）

【課題】複雑な視覚効果を有しており且つ偽造が困難な光学素子を実現可能とする。
【解決手段】本発明の光学素子１０は、幅方向に配列した複数の第１溝Ｇ１からなり、前記第１溝Ｇ１の長さ方向に垂直な方向から波長が可視光域内にある照明光を照射したときに正の射出角で１次回折光を射出し得る第１パターンと、前記複数の第１溝Ｇ１とは長さ方向が異なり、前記複数の第１溝Ｇ１と比較してより短い中心線間距離で幅方向に配列し、開口部から底部へ向けて幅が小さくなっている複数の第２溝Ｇ２から各々がなり、各々が前記第２溝Ｇ２の長さ方向に垂直な方向から波長が可視光域内にある照明光を照射したときに正の射出角で１次回折光を射出せず、前記複数の第２溝Ｇ２の長さ方向が互いに異なっている複数の第２パターンとが設けられた凹凸構造面を含み、前記複数の第２パターンの各々は前記第１パターンと少なくとも部分的に重なり合っていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】意匠性及び偽造防止効果の向上に適したセキュリティデバイスを提供する。
【解決手段】反射層１上に形成されている中間層２上に潜像形成層３が形成されており、その上に保護層４が形成されている。潜像形成層３は潜像形成層３を構成する液晶分子が、凹凸パターンに沿って配向し、重合によって固定される事により形成される。液晶分子が配向する事により、偏光子を介して観察する事により視認可能となる。潜像形成層３の膜厚や配向方向を変化させることによって観察される色を制御する事が可能となる。更に、反射層或いは中間層２に散乱性を付与し、潜像形成層３における反転パターンが存在する面に接する層の屈折率を制御する事により、偏光子を介さない状態において視認を困難にする事が可能となる。 （もっと読む）

【課題】偽造防止用であることが比較的悟られ難く且つ高い偽造防止効果を有している偽造防止媒体を提供する。
【解決手段】本発明の表示体１０は、一主面に複数の凹部が設けられた基材２０と、前記複数の凹部の各々の壁面を部分的に被覆した被覆層３０とを備え、前記主面を第１方向から観察した場合には、前記被覆層３０のうち前記壁面を被覆している部分は、前記複数の凹部の壁面のうち前記被覆層３０で被覆されていない部分と比較して視認が容易であり、前記主面を前記第１方向とは異なる第２方向から観察した場合には、前記複数の凹部の壁面のうち前記被覆層３０で被覆されていない部分は、前記被覆層３０のうち前記壁面を被覆している部分と比較して視認が容易であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ホログラム、磁気ストライプまたは集積回路ならびに他の取引カード構成要素を含むことができる光学的に認識可能な透明または半透明の取引カードの製造および使用に関する。
【解決手段】取引カードを目に見えない、光学的に認識できる赤外線インクおよび／またはフィルムの化合物により、ＡＴＭまたはカード組立ラインでセンサによって検出することができるようにする。カードをＡＴＭ装置に挿入すると、赤外線ＬＥＤからのビーム光が赤外線のインクまたはフィルムによってさえぎられ、それによってフォトトランジスタを不活性にする。さらに、取引カードの製造の間、光学的に認識することができるカードは個人化装置からの赤外線ＬＥＤのビーム光、検査装置または計数器装置が組立ラインで製造される取引カードの数を数えるのを可能にする。 （もっと読む）

【課題】 情報を付与している部分の特定が困難であり、高精度に真偽判別を行うことが可能な情報記録媒体及びその貼付物を提供する。
【解決手段】 微細にディメタライズされた線部３１ｂ、３２ｂにより幾何学的模様を構成した情報記録媒体３０であって、共振領域３２の線部３２ｂに導通部を設けることで、共振領域を他の非共振領域と区別することを困難なものとし、情報が付与されていることが認識されにくいものとしている。 （もっと読む）

【課題】識別情報を記録する配列を小さな領域で構成することを容易とし、識別情報が不正に読取られるリスクを小さくする。
【解決手段】本発明の情報記録媒体１０は、散乱反射層１２０と、これと向き合うと共に固化された液晶材料からなり、第１情報として潜像を保持している潜像形成層１５０と、潜像形成層１５０と向き合い、潜像形成層と向き合った主面は複数の単位配向領域を含み、前記複数の単位配向領域は潜像形成層１５０中に潜像を形成している光透過性の配向層１４０と、潜像形成層１５０及び配向層１４０の少なくとも一方を間に挟んで又はそれらを間に挟まずに散乱反射層１２０の一部と向き合い、複数の単位配向領域の一部に対応して配列した複数の光吸収部を含み、これら光吸収部の配列は第１情報とは異なる第２情報を構成している像形成層１３０とを具備したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】情報を付与している部分の特定が困難であり、高精度に真偽判別を行うことが可能な情報記録媒体及びその貼付物を提供する。
【解決手段】微細にディメタライズされた線部３１ｂ、３２ｂにより幾何学的模様を構成した情報記録媒体３０であって、共振領域３２の線部３２ｂ上に導通部を設けることで、共振領域を他の非共振領域と区別することを困難なものとし、情報が付与されていることが認識されにくいものとしており、かつ真偽判別が可能である。 （もっと読む）

【課題】固化した液晶材料を含んだ光学素子が表示する像の観察条件に応じた変化の多様性を高めると共に、液晶材料の使用量を低減可能とする。
【解決手段】本発明の光学素子１０は、長さ方向が揃い且つ前記長さ方向と交差する方向に隣り合った複数の第１溝が各々に設けられた複数の凹部形成領域１３１乃至１３３を一方の主面が含んだ光透過性の凹部形成層１３と、前記主面に支持されると共に固化された液晶材料からなる液晶層１５と、前記凹部形成層１３の他方の主面と向き合うと共に光散乱性を有する第１反射層１２とを具備し、前記複数の凹部形成領域１３１乃至１３３は各々が前記液晶層１５によって被覆されている１つ以上の第１凹部形成領域１３１，１３２と、各々が前記液晶層１５によって被覆されていない１つ以上の第２凹部形成領域１３３とを含んだことを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、透明な基材と、少なくとも１つの、基材上に配置された安全要素とを備えた安全文書及び／又は有価文書に関し、安全要素は、少なくとも２つの部分模様から成る、基材上に印刷された模様を有し、その際、部分模様は正確な位置合わせで横方向に基材上で互いに接し合って接続しており、ｉ）第１の部分模様が非ホログラフィックであり、第２の部分模様がホログラフィック露光されたＨＲＭ（ホログラフィー記録材料）から構成されているか、又はｉｉ）第１の部分模様及び第２の部分模様がそれぞれホログラフィック露光されたＨＲＭから構成されており、その際、第１の部分模様と第２の部分模様が異なるホログラフ条件下で露光されている。さらに本発明はそのような安全文書及び／又は有価文書の製造に関する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、偽造防止効果も高い磁気転写シート及びそれを用いた磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【解決手段】支持体（２）上の片面に剥離保護層（４）と、温度によって透明度が可逆的に変化する書き換え可能な感熱記録層（６）と、観察する角度に応じて異なる色彩や画像パターンを見ることができるホログラム等の回折格子や多層薄膜である光学多層干渉膜、またはコレステリック液晶の層等が形成されてなるＯＶＤ形成層（７）、及び、前記ＯＶＤ形成層（７）への入射光を反射する光反射層（８）とからなるＯＶＤ層（５）とを有し、支持体（２）側から見て、剥離保護層（４）、感熱記録層（６）、ＯＶＤ形成層（７）、光反射層（８）、磁気記録層（９）、接着層（１０）の順に積層したことを特徴とする磁気転写シート及びそれを用いた磁気記録媒体である。 （もっと読む）

【課題】高解像度で耐熱性に優れた複屈折パターンを有する物品の簡便な作製に有用な方法及び材料を提供する。
【解決手段】少なくとも次の［１］〜［３］の工程をこの順に含む複屈折パターンを有する物品の製造方法：［１］高分子を含む光学異方性層を含み、該光学異方性層は、２０℃より高い温度域に面内レターデーションが２０℃時のレターデーションの３０％以下となるレターデーション消失温度を有し、かつ該レターデーション消失温度は露光によって上昇する複屈折パターン作製材料を用意する工程；［２］該複屈折パターン作製材料にパターン露光を行う工程；［３］工程２後に得られる積層体を５０℃以上４００℃以下に加熱する工程。 （もっと読む）