【課題】ノイズの少ない方法で、容易には測定できない位相特性を測定し、また、振幅特性を強調された方法で
測定する。
【解決手段】振幅及び位相を有する分析対象波面に対して、フーリエ変換処理を行い、該分析対象波面に対応する複数の異なる位相変化された変換波面を取得し、該複数の位相変化された変換波面の複数の強度マップを取得し、該複数の強度マップを用いて該分析対象の三次元画像形成波面の振幅及び位相を表示する出力を取得する。 （もっと読む）

【課題】合焦の判断が難しい被検体の合焦容易性を向上させる。
【解決手段】光源２１から低可干渉光を発光させ、発光させた低可干渉光を第１のビームスプリッタ２３により分離し、第１のビームスプリッタ２３を透過した低可干渉光を反射板２５により反射させ、第１のビームスプリッタ２３を反射した低可干渉光を被写体へと導き、第１のビームスプリッタ２３における反射面の中心と反射板２５との往復光路長は、第１のビームスプリッタ２３における反射面の中心から第２のビームスプリッタ１３を介して検量用としての被写体２に至るまでの往復光路長と同一となるように予め調整され、反射板２５を反射して第１のビームスプリッタ２３を反射した第１の戻り光と、被写体２を反射して第２のビームスプリッタ１３を反射して第１のビームスプリッタ２３を透過した第２の戻り光との干渉度合に基づいて、撮像光路のフォーカス調整を行う。 （もっと読む）

【課題】
光干渉を用いた変位計測装置において、プローブ光路と参照光路とが空間的に分離して
いるため、空気の揺らぎ等による温度分布や屈折率分布、あるいは機械振動が生じた場合
、両光路間で光路差が変動し、測定誤差となってしまう。
【解決手段】
プローブ光の光軸と参照光の光軸を外乱の影響を受けない距離まで近接させて、プロー
ブ光を対象物に、参照光を参照面に各々照射し、その反射光同士を干渉させ、生じた干渉
光から対象物の変位量を求める （もっと読む）

【課題】光の波長の変化による位相のずれを補償し、位相の観測・位相の検出に適した光干渉計を実現する。
【解決手段】外部入力光を２つの光路の光に分ける第１のビームスプリッタ１０と、一方の光路に挿入したファラデー効果を利用した透過型の可変光位相器１２と、２つの光路に分けた光を再度重ね合わせる第２のビームスプリッタ１４を具備している。可変光位相器は、入力した直線偏光を円偏光に変換する第１の四分の一波長板２０と、その円偏光を、偏光面を回転させながら透過させる可変ファラデー回転子２２と、それを透過した円偏光を直線偏光に変換して出力する第２の四分の一波長板２４を備え、この第２の四分の一波長板から出力する光の位相を、可変ファラデー回転子のファラデー回転角に応じて変化させる構造とする。そして、第２のビームスプリッタは、２つに分けた他方の光路の光と前記可変光位相器の透過光とを重ね合わせて外部出力光とする。 （もっと読む）

【課題】位相変調された干渉信号を検出し、干渉信号の位相を求める信号処理演算を行うことによってナノメータオーダでの分解能で表面形状測定を行うことのできる、表面形状の測定方法及び測定装置を提供する。
【解決手段】半導体レーザ光源11からのレーザ光を偏光方向が互いに直交し位相が異なる２つの光の合成光に変換してから回転多面体ミラー32に導き、レンズ33を通過した合成光を構成する２つの光を偏光ビームスプリッタ34により分離してその一方の光を参照面ミラー42、他方の光を被測定物体41の表面に照射する。参照面ミラー42からの反射光と被測定物体41の表面からの反射光を偏光ビームスプリッタ34により再び重ね合わせ、偏光板52を通過させることにより参照面ミラー42からの反射光と被測定物体41の表面からの反射光を干渉させる。 （もっと読む）

【課題】焦点面近傍の散乱体の密度が低い場合であっても、精度よく波面を測定する。
【解決手段】散乱体を含む試料内の焦点面からの戻り光と参照光とを干渉させて発生した試料各部に対応する干渉パターンのコントラストを測定するコントラスト測定ステップＳ２と、コントラスト測定ステップＳ２により測定されたコントラストが所定の閾値以上である高コントラスト領域を抽出する領域抽出ステップＳ３と、領域抽出ステップＳ３により抽出された高コントラスト領域について、高コントラスト領域に対応する干渉パターンを波面データに変換する波面算出ステップＳ４とを含む波面測定方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】測定対象物の移動機構を使用せずに高さ方向のダイナミックレンジを拡大可能とする。
【解決手段】本発明の干渉測定装置は、可干渉距離が有限の光束を生成する生成手段（９、２０）と、光束を２つの光束に分岐し、それら２つの光束の一方を測定対象面（２５ａ）へ照射すると共に他方を参照面（２４ａ）へ照射する分岐手段（２２）と、測定対象面を経由した測定光束と参照面を経由した参照光束とを同一光路に統合して統合光束を生成する統合手段（２２、２１）と、分岐手段により分岐される光束の可干渉距離を走査する走査手段（２０）と、可干渉距離の走査位置と統合光束の強度との関係を示す関係情報を取得する測定手段（２７、３０）と、関係情報に基づき、測定光束と参照光束とが干渉する走査範囲と、測定光束と参照光束とが干渉しない走査範囲との境界を、測定対象面の高さ情報として取得する演算手段（３０）とを備える。 （もっと読む）

【課題】試験対象物の第１及び第２表面を干渉法によってプロファイルすることに加えて、第１基準面と第２基準面との間の空間的関係に基づき、試験対象物の幾何学的特性を測定する。
【解決手段】本発明は、試験対象物の幾何学的特性を測定するための方法を特徴とする。この方法は、第１基準面に対して、試験対象物の第１表面を干渉法によってプロファイルする工程と、第１基準面とは異なる第２基準面に対して、試験対象物の第２表面を干渉法によってプロファイルする工程と、第１基準面と第２基準面との間の空間的関係を提供する工程と、干渉法によってプロファイルした表面、並びに第１基準面と第２基準面との間の空間的関係に基づいて、試験対象物の幾何学的特性を計算する工程とを含む。ある実施形態では、この空間的関係は、校正済みのゲージ・ブロックを使用することによって、または変位測定干渉計を使用することによって測定することができる。対応するシステムも説明される。 （もっと読む）

【課題】 迷光の混入を防止して高精度に干渉計測を行うことのできる光学ユニットを提供する
【解決手段】 光学ユニット（３０１）は、相互に偏光面が直交する第１の偏光（Ｅ１）及び第２の偏光（Ｅ２）の一方を透過させて他方を反射させる第１偏光分離面（Ｓ１１）及び第２偏光分離面（Ｓ１２）を含み、第１ビーム及び第２ビームを相互に分離して異なる方向に射出させる偏光分離部（２０１）と、該第１ビームの偏光状態を変化させる第１偏光変換部（１５）と、偏光分離部から射出した第２ビームを反射して偏光分離部に再入射させる固定反射部（１８）と、該第２ビームの偏光状態を変化させる第２偏光変換部（１７）と、第１ビーム及び第２ビームを、各々その入射位置と異なる射出位置から各々その入射方向に逆向きに射出させて偏光分離部に再入射させるリトロレフレクター（１４）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 薄膜構造の特性評価を含む、偏光解析、反射光測定および散乱光測定のための干渉計法を提供する。
【解決手段】検出器上で参照光と干渉するように、或る範囲の角度にわたってテスト物体から出射するテスト光を結像することであって、テスト光および参照光は共通の光源から生成される。それぞれの角度毎に、テスト光がテスト物体から出射する角度に依存する速度で、テスト光および参照光の干渉する部分の間にいて、光源から検出器までの光路長差を同時に変更すること、および、それぞれの角度毎に光路長差を変更しながら、テスト光と参照光との間の干渉に基づいて、テスト物体の光学特性の角度依存性を特定することからなる方法。 （もっと読む）

【課題】複雑な表面構造を有する対象物の表面トポグラフィおよび／または他の特性を、走査干渉分光法を用いて測定する。
【解決手段】試験対象物の第１の表面箇所に対する走査干渉分光信号から導出可能な情報と試験対象物の複数のモデルに対応する情報とを比較することを含む方法であって、複数のモデルは、試験対象物に対する一連の特性によってパラメータ化される方法。複数のモデルに対応する情報は、試験対象物の各モデルに対応する走査干渉分光信号の変換分（例えば、フーリエ変換分）の少なくとも１つの振幅成分についての情報を含んでもよい。第２の側面では、モデルは固定された表面高さに対応するとともに、固定された表面高さとは異なる一連の特性によってパラメータ化されている。第３の側面では、比較は、走査干渉分光信号の系統的な影響を明確にすることを含む。 （もっと読む）

方法は、試験対象物をモデル化するための異なるモデルパラメータに対応した複数のモデル信号の各々と、試験対象物の位置に対して得られた走査干渉法信号とを比較することを有する。各モデル信号に対して、比較することは、走査干渉法信号とモデル信号の間の相関関数を算出し、走査干渉法信号とモデル信号の間の表面高さオフセットを特定すること、および、特定した表面高さオフセットに基づいて、共通の表面高さに対する、走査干渉法信号とモデル信号の間の類似点を表わす高さオフセット補正済メリット値を算出することを有する。本方法は、異なるモデル信号に対する各々のメリット値に基づいて、試験対象物の位置での試験対象物パラメータを判定することをさらに有する。
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【課題】光断層画像化装置において、偏光方向の調整をすることなく良好な画質の断層画像を低コストで取得する。
【解決手段】光断層画像化装置１００は、測定光Ｌ１を測定対象Ｓに照射させて所定の走査周波数で走査させて測定対象Ｓの断層画像を取得する。光断層画像化装置１００における、光源ユニット１０内または光源ユニット１０から合波手段４までの光Ｌ、測定光Ｌ１、参照光Ｌ２、反射光Ｌ３の光路の少なくとも１つに、時間的に平均したときに出力光が無偏光となるように入力光の偏光状態を走査周波数と同等もしくはそれ以上に高い周波数で変化させる無偏光化手段７０を設ける。 （もっと読む）

【課題】干渉光の検出感度を向上させて、良好な精度の信号強度や位相情報を用いて被測定物体を計測できる光画像計測装置を提供する。
【解決手段】光画像計測装置１は、光ビームを分割して信号光Ｓと参照光Ｒを生成する。波長板７は参照光Ｒの偏光特性を変換する。参照鏡９は参照光Ｒを反射する。参照鏡９は、参照光Ｒの光路方向に移動可能とされている。ハーフミラー６は、被測定物体Ｏを経由した信号光Ｓと参照鏡９を経由した参照光Ｒ（偏光特性が変換されている）とを重畳させて干渉光Ｌを生成する。偏光ビームスプリッタ１１は、干渉光ＬをＳ偏光成分Ｌ１とＰ偏光成分Ｌ２に分ける。ＣＣＤ２１はＳ偏光成分Ｌ１を検出し、ＣＣＤ２２はＰ偏光成分Ｌ２を検出する。信号処理部２０は、これらの検出結果に基づいて被測定物体Ｏの画像を形成する。 （もっと読む）

【課題】 主ビームのサイズを減らすことなくサイドローブを除去することを可能にし、数十nmのサイズを有する物体を歪むことなく観察することができる共焦点自己干渉顕微鏡を提供する。
【解決手段】既存の共焦点顕微鏡における自己干渉光学系に代えて、試片からの反射又は蛍光ビームを偏光する第１の偏光板111、上記第１の偏光板を通過したビームを偏光方向により２つのビームに分離する第１の複屈折波長板116、上記第１の複屈折波長板で分離された２つのビームを偏光する第２の偏光板112、上記第２の偏光板を通過した２つのビームを偏光方向により４つのビームに分離する第２の複屈折波長板117、及び上記第２の複屈折波長板で分離された４つのビームを偏光する第３の偏光板113とを有する自己干渉光学系で構成した。 （もっと読む）

【課題】 高価な波長板を必要とせず、また大口径で測定領域の広域化も可能な干渉計を提供する。
【解決手段】 光源１０１からの出射光は、コリメータレンズ１０５により平行光とされ、その平行光のうちｓ偏光成分は偏光板１１８を通過して通過して被測定物Ｗに至る。ｐ偏光成分は参照面としても機能する偏光板１１８で反射されて参照光とされる。合成光はビームスプリッタ１０４で反射された後、１／４波長板１０８を通過し、左回り円偏光成分と右回り円偏光成分とを含む光に変換される。この変換後の合成光が、無偏光ビームスプリッタ１１３Ａ、１１３Ｂ及びミラー１１３Ｃにより３つの光に分割され、偏光板１１４Ａ、１１４Ｂ及び１１４Ｃにより異なる位相シフト量を与えられる。 （もっと読む）

【課題】 高速かつ高精度にワーク表面高さを測定する位相シフト干渉計を提供する。
【解決手段】 照明光学系２００と、無干渉光束生成手段３００と、位相シフト干渉縞取得部４００と、を備える。無干渉光束生成手段３００は、照明光学系２００からの光をワーク表面への照射光とリファレンス面への入射光との二光束に分割する。さらに、無干渉光束生成手段３００は、ワークＷからの物体光とリファレンス面からの参照光とを無干渉状態で合波して無干渉光束とする。位相シフト干渉縞取得部４００は、無干渉光束生成手段３００からの無干渉光束を３以上の光束に分割する。さらに、位相シフト干渉縞取得部４００は、分割された各無干渉光束に含まれる物体光と参照光とを分割された光束ごとに異なる位相で干渉させて異なる位相の干渉縞を得る。 （もっと読む）

【課題】複数の撮像素子から得られる干渉縞の干渉縞強度のバイアス及び振幅のバラツキ、並びに位相の設計値からの偏差を、定期的に又は測定の前にユーザが容易に計測することを可能とし、測定の高精度化を達成すると共に、使用環境を選ばない干渉計を提供する。
【解決手段】波長可変レーザ３０１からのレーザ光の波長を、波長シフト量Δλを少なくとも３通りに変化させて、その異なる少なくとも３通りの波長シフト量Δλの場合に関し、１つのＣＣＤカメラ３１６、３１８、又は３２０で異なる干渉縞を撮像し、その干渉縞強度を取得する。これにより、バイアスＢ_ｉ（ｘ、ｙ）、振幅Ａ_ｉ（ｘ、ｙ）、及び位相Ｆ_ｉ（ｘ、ｙ）を計算することができる。 （もっと読む）

【課題】 装置が小型であり、かつ、構成部品の位置合わせが容易な干渉計測装置を提供する。
【解決手段】 プリズム３、４、６、７は互いに固着されて一体化されている。又、ガラスや石英等からなり、全て同一物質で形成されている。よって、これらのプリズムを目的に合うように決定して加工して組み立てることにより、非偏光ハーフミラー膜５、偏光ビームスプリット膜８、及び光路の位置合わせができ、装置全体の部品の位置合わせ箇所を大幅に減少させることができる。 （もっと読む）