【課題】装置を小型化し、かつ非干渉成分の影響を受けず、光パルスの波長分散測定を確実かつ高安定に行う波長分散測定装置等を提供する。
【解決手段】出射する伝搬光の波長が可変な光源と、伝搬光を第1及び第2伝搬光に分離し、出射する際に第1及び第2伝搬光の間に波長差を発生させる光分岐結合部と、偏波保持特性を有するプローブ及び参照光ファイバと、これらの光ファイバのいずれかに設けられ、光伝搬光の位相α_ｉを周期的に変化させる光位相シフタと、プローブ光ファイバに設けられた試料測定部内の試料を透過あるいは反射した第1伝搬光と、参照光ファイバを伝搬する第2伝搬光とを合波し、合波光の位相α_ｉのα_ｉ光成分の干渉要素を干渉信号とする光検出部と、前記光源での波長掃引に同期し、サンプリングクロックを出力する制御部と、サンプリングクロックに同期して第ｉ光成分に対応する干渉信号を時系列に取得するデータ取得部とを有する。 （もっと読む）

【課題】対象物の変化量あるいは移動量を外乱の影響なく高精度に求めることが可能な変位計測方法とその装置を提供する。
【解決手段】４つの位相シフト光路を、４分割プリズムとアレイ状に配置したフォトニック結晶λ/４素子及びフォトニック結晶偏光素子とを組み合わせて空間的に並列生成する構成とすることにより、小形の光干渉変位センサを構築し、適用対象を拡大すると共に外乱の影響を受けることなく、対象物の微小変位や表面凹凸をサブナノメートル以下の分解能でかつ高い再現性で測定する。 （もっと読む）

【課題】グイ位相に伴って生じる計測誤差を低減する。
【解決手段】計測装置１００は、光源から射出された光を参照光と被検光とに分割する分割部１１０と、前記参照光を反射する参照面１１１と、前記被検光を被検面１１３に集光する集光部１１２と、前記被検面でキャッツアイ反射された被検光と前記参照面で反射された参照光との干渉光を検出する第１検出器１１４とを含む計測ヘッド１０１と、前記計測ヘッドを前記被検面に沿って駆動する駆動部１４０と、前記計測ヘッドの位置を検出する第２検出器１５０と、前記被検光の前記被検面における回折によって生じるグイ位相を取得し、前記第１検出器により検出された干渉光の情報から前記被検光と前記参照光との間の位相差を算出し、前記第２検出器により検出された前記計測ヘッドの位置と前記取得されたグイ位相と前記算出された位相差とから前記被検面の形状を算出する処理部１１５と、を備える。 （もっと読む）

【課題】被検面が非球面であってもその面形状を高精度に測定する。
【解決手段】測定光発生用の光ファイバー１８Ｍから射出して被検面２Ｓを介した測定光ＬＭと参照光とを干渉させて得られる干渉縞３５に基づいて被検面２Ｓの面形状を測定する干渉計１０において、複数の位置ＱＡ〜ＱＣで参照光ＬＡ〜ＬＣを射出する参照光発生用の光ファイバー１８Ａ〜１８Ｃと、参照光ＬＡ〜ＬＣの発生を切り替えるシャッター２４Ａ〜２４Ｃと、参照光毎に得られる干渉縞から求められる面形状を合成する信号処理装置３２とを備える。 （もっと読む）

【課題】フラットパネルの表面、ウエハーおよび基板のパターン付き表面といった表面の全領域光計測値を取得する。
【解決手段】均一な波面を有する光プローブビーム１１２を被計測表面１３０に照射し、表面１３０によって引き起こされるひずみを帯びた反射波面を有する反射プローブビーム１３２を、光シェアリング干渉計デバイス１０１に向け、光干渉模様を取得する。次に、反射波面と、反射波面のレプリカとの間の位相シフトを調整し、別の干渉模様を取得する。干渉模様を処理し、被計測表面１３０の照射場所の全域で、表面傾斜に関する情報を取得する。 （もっと読む）

【課題】干渉光学系を用いた表面形状測定方法および装置において、複数の干渉縞画像を撮像し、測定対象の表面形状を正確に計測できる表面形状測定方法および測定装置を提供する。
【解決手段】光の進行方向に対して異なる角度の参照面による複数の干渉縞画像を取得する第１の過程と、前記複数の各干渉縞画像の同一座標における干渉縞振幅を比較し、その最も大きな干渉縞振幅を持つ干渉縞画像から得られる高さを実高さとする第２の過程とを備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】入射光束を２つの平行な光束に分岐する装置であって、平行な光束の間隔や位相を任意に調節できる光分岐装置を提供する。
【解決手段】二つの同形の直角プリズム４１、４２を、分岐膜４３を介して接合した三角柱プリズム４４と、柱状プリズム４５とで複合プリズム４０を構成し、複合プリズム４０の出射面４６に対向して、出射面４６と平行を保つ状態で移動できる可動直角プリズム５０を配置する。直角プリズム４１の傾斜面から入射した光束が、分岐膜４３で二つの光束に分岐され、複合プリズム４０の出射面４６から光軸４７に接近する方向に出射して可動直角プリズム５０に入射し、可動直角プリズム５０の異なる面から平行に出射する。可動直角プリズム５０をＡ方向に移動すれば平行光束の間隔が変化し、可動直角プリズム５０をＢ方向に移動すれば、二本の平行光束間の位相が調整できる。 （もっと読む）

周波数走査型干渉計(１０)が検査対象物(１２)の広い推定オフセット範囲にわたる多重表面(１４,１５,１６)を同時に測定するために構成される。合成測定波長(λ_実効)に基づくアンビギュイティインターバル(Ｕ)内の中心に検査表面をおくために、検査表面の推定位置の知見が一連のアンビギュイティインターバルと比較される。
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本発明は光路長差判定及び光干渉断層撮影の方法に関し、次の各工程、つまり、空間単一モードにて発光するか、適切な手段（Ｆ）により発光が空間単一モードに制限される光源（ＳＱ、ＢＱ）により空間コヒーレントな光を発生させる工程と、前記光源からの光の少なくとも一部を２つの空間的に離れた光路に分割する工程と、少なくとも２つの検出器（Ｄ）か少なくとも２つの検出素子（Ｄ）を有する１つの検出器（Ｄ、Ａ）及び光線を誘導するための他の手段（Ｓ、Ｔ、ＢＰ、Ｆ、Ｑ、Ｌ、Ｇ、Ｚ）を用い、参照光路及び測定光路の光を検出器／検出素子（Ｄ）に導いて干渉させる工程と、検出器／検出素子（Ｄ）における光強度を受け取り分析してデータセットを得る工程と、データセットの数値的分析及び表示を行い、試料（Ｐ）又は試料（Ｐ）内の構造における空間的位置及び反射又は散乱の強度の両方を求める工程とを有する。
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深さ方向に間隔を空けられた異なる対象領域を目視顕微鏡法および光干渉断層法によって検査可能にする画像化システムが提供される。軸方向視野および方位分解能は、画像化システムによってどの対象領域を検査するかに依存して変更される。提案される画像化システムは、人間の目の完全な検査に特に適用可能である。
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【課題】装置を大型化することなく測定範囲を拡大できる斜入射干渉計を提供する。
【解決手段】測定対象物Wに対して斜め方向から可干渉光を照射する光源１１と、光源１１からの可干渉光を平行光にする平行光化部１２と、平行光化部１２からの平行光を測定光と参照光とに分割する光束分割部１４と、測定対象物Wで反射された測定光と参照光とを合成する光束合成部１５と、測定対象物Wの表面形状を表す干渉縞を撮像する撮像部１７と、を備えた斜入射干渉計１において、測定対象物Wにおける光の測定範囲を、当該測定範囲の短軸方向に拡大させる測定範囲拡大手段１０を備える。 （もっと読む）

【課題】 簡易な構成により、参照ミラーを僅かに傾斜させるだけで、ウェハなどの試料（被測定物）の表面形状を計測し、ごみやポールピースなどの正確な座標位置を特定し、電子顕微鏡、描画装置などの荷電粒子ビーム装置にその正確なデータを送受信して、作業効率の向上に一層貢献することができる測定方法及び測定装置を提供する。
【解決手段】ウェハなどの試料にレーザ光を照射し、干渉計を用いて、試料の表面内部を観察検査する測定方法及び装置において、ビームスプリッターと参照ミラーとの間に光を導光するための参照光路を設けるとともに、ビームスプリッターと試料との間に光を導光するための測定光路を設けて、参照光路と測定光路において光学的光路差を設ける。しかも、参照ミラーを微小量傾けることによって、検出手段に干渉縞を形成する。 （もっと読む）

【課題】非球面光学素子の表面形状を簡易かつ低コストで短時間のうちに測定し得る光波干渉測定装置を提供する。
【解決手段】透過/反射分離面１３ａにおいて二分された光原１１からの光束は、それぞれ対応する球面基準レンズ１５、２５によって、被検非球面レンズ１７と参照非球面レンズ２７の表面形状に応じた波面情報を担持した状態で再び合波され、参照非球面レンズ２７に対する被検非球面レンズ１７の波面誤差が干渉縞情報とされて干渉計ＣＣＤカメラ３１の撮像面上に形成される。また、ビームスプリッタ１３と高ＮＡ球面基準レンズ２５との間に、入射した第２の平行光束の波面形状を補正（参照非球面レンズ２７の波面情報を補正）するデフォーマブルミラー４２を備えており、この補正値は制御演算部５１によって制御される。 （もっと読む）

【課題】距離測定装置を小型化すること。
【解決手段】距離測定装置は、測定光と参照光を生成する光源１０およびスプリッタ１１と、参照光の光路長を制御する光路長制御手段１２と、検知器１３と、コントローラ１４と、で構成されている。光路長制御手段１２は、強誘電体を材料とし、空孔１２４が一定の間隔で周期的に形成されたフォトニック結晶１２１と、フォトニック結晶１２１の両面に設けられた金属薄膜電極１２２、１２３とで構成されている。金属薄膜電極１２２、１２３を介してフォトニック結晶１２１に電圧を印加することで、フォトニック結晶１２１のフォトニックバンド構造を変化させることができる。したがって、フォトニック結晶１２１に参照光を入射させれば、印加する電圧値に応じて参照光の光路長を制御することができる。 （もっと読む）

【課題】２色法の原理を利用して異なる波長の同軸２光束が同一光学系を経由（透過および反射）する外乱の自己補償光学系を有するため外乱のある環境下でも安定で、可干渉距離の調整機能も備わっているため可干渉距離の短い光源に対しても適応でき、構造が単純で大幅な小型化が実現でき、調整が不要（または簡便）、さらに安価な光干渉計を構築するため利用することのできる光学装置を提供する。
【解決手段】光源１、光源からの光の一部を波長変換する光学素子または光学系、光源からの光と波長変換された光の位相差を制御できる位相制御用光学素子３または光学系、光源から光と波長変換された光の光路長を制御する光路長制御用光学素子４または光学系を備えており、光源からの光と波長変換された光は同軸２光束で同一光学系を経由（透過および反射）する。 （もっと読む）

【課題】面光源や複数の点光源等、一点とみなせない光源からの波面に対しても計測を行うことができる波面センサを提供する。
【解決手段】入射瞳Ｐに入った被測定光波面は半透鏡３で第１の光路Ｌ１と第２の光路Ｌ２とに分岐され、第１の光路Ｌ１を進む波面Ｗ１は第１の光路差補償部材７を透過し、第２の光路Ｌ２を進む波面Ｗ２は第２の光路差補償部材８を透過する。これら波面Ｗ１及びＷ２は、シェアリング量Ｓだけ互いに位置をずらした状態で半透鏡６により再度混合され、干渉計測面Ｍに干渉縞を形成する。この干渉縞の強度分布が光検出器９によって測定され、波面計測部１０で被測定光波面の形状が測定される。被測定光波面の到来方向に起因して傾斜した状態で干渉計測面Ｍに至る波面Ｗ１’と波面Ｗ２’との間に発生する光路差は、これら波面Ｗ１’及びＷ２’がそれぞれ第１の光路差補償部材７及び第２の光路差補償部材８を透過する際に事前に補償される。 （もっと読む）

【課題】 迅速に精度よく面間隔を測定することができる低コヒーレンス光干渉計及びそれを用いた膜厚測定方法を提供する。
【解決手段】 第１低コヒーレンス光源１１と被検物６０，１６０との光路中に光路に沿って移動可能な第１干渉光学系２と、第２低コヒーレンス光源１１１と被検物６０，１６０との光路中に光路に沿って移動可能な第２干渉光学系１０２とで、第１被検物６０及び第２被検物１６０の各表面の差を求め、その差から第２被検物１６０の第１面１６０ａから第２面１６０ｂまでの厚さを測定することを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、軸方向に離間する、供試体（Ｐ）、特に眼（Ａ）の複数の領域（Ｔ_１、Ｔ_２）を測定するためのショート・コヒーレンス干渉計装置に関し、干渉計は、複数の個別の測定ビームが通って供試体（Ｐ）に照射される少なくとも１つの測定ビーム経路、および参照ビームが通る参照ビーム経路（Ｒ）からなり、個別の測定ビーム（Ｍ_１、Ｍ_２）は、参照ビームと重ねられて干渉状態になり、個別の測定ビーム（Ｍ_１、Ｍ_２）は、供試体（Ｐ）に照射されたとき、軸方向距離（ｄ）に適合した量だけ互いに対して軸方向に変位し、干渉計装置（Ｉ）は、干渉するやり方で、個別の測定ビーム（Ｍ_１、Ｍ_２）を参照ビームと重ね、また、ビームをそれぞれの測定ビームに関連した検出器（Ｄ_１、Ｄ_２、．．、Ｄ_Ｎ）へ導き、個別の測定ビーム（Ｍ_１、Ｍ_２、．．、Ｍ_Ｎ）は、参照ビームと重なり、結合されて混合光になり、そこでは、参照ビームと重ねられる際に測定ビームが別々の位相位置を有する。
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【課題】複数の異なる波長間の波長差を、簡易な構成により測定して、複数の異なる波長によって定められる合成波長を正確に特定することで、高精度な測定を可能にした多波長干渉計を提供する。
【解決手段】異なる波長λ_１、λ_２（λ_１＞λ_２）の出射光を用いて多波長干渉計測を行う。波長観測用反射部材２０は、光路長ｌａだけ離間して配置された反射面２０Ａと２０Ｂとを備える。ビームスプリッタ１９で反射されて反射面２０Ａ及び２０Ｂでそれぞれ反射された光が撮像装置２１に達し、干渉縞を生じさせる。このような干渉縞画像を異なる波長λ_１、λ_２を用いてそれぞれ取得し、それぞれの干渉縞の位相を算出する。この算出された位相を用いて合成波長Λを算出する。 （もっと読む）

【課題】干渉計測の精度を向上させ、屈折率の標準測定装置としても使用可能な、高精度の屈折率の計測を行うことができるようにする。
【解決手段】被測定プリズム１と補償用プリズム２の斜面１１、２１を近接対向配置してプリズム対を形成し、これをマッハ・ツェンダー干渉計等の干渉計の中に配置し、レーザ測長器１０によって被測定プリズムの移動量を測定可能とする。被測定プリズムを補償用プリズムに向かい合っている面内で平行移動させ、干渉計中の被測定プリズム中の光路長を変化させ、被測定プリズム中の光路長変化と、レーザ測長器で測定した被測定プリズムの移動量の関係から、プリズムの屈折率を求める。被測定器物はプリズム、くさび、それらの形状の容器に液体を充填したものでも良く、また種々の二光束干渉計を使用することができ、プリズムへの入射も種々の態様で実施することができる。 （もっと読む）