【課題】 半導体ウェハにおいて、その周縁部に発生する欠陥切欠き部分を精度よく検出することができるウェハの欠陥検出方法および装置を提供する。
【解決手段】 中心軸線２９からウェハの周縁部まで延びる周縁直線４０が、中心軸線２９まわりを角変位する場合の、周縁直線の距離変化に基づいて、ウェハの切欠き部分の幅Ｗと、深さＨとを算出する。注目する切欠き部分の幅と深さとの少なくとも１つが、ノッチ２２またはオリフラ２４に対して設定される幅と深さとの規定範囲外である場合に、その注目する切欠き部分を欠陥切欠き部分として検出する。このように切欠き部分の幅と深さとの両方に基づいて、切欠き部分が欠陥であるかを判断する。これによって、ウェハ２１に発生する欠陥切欠き部分をノッチ２２またはオリフラ２４と誤検出することを防ぎ、欠陥切欠き部分を精度よく検出することができる。 （もっと読む）

本発明は、測定物体５を測定するための干渉測定装置１たとえば測定物体５の厚さを測定するための干渉測定装置１に関する。この場合、専用対物光学系４５にはミラー装置４０が設けられており、これは少なくとも第１の偏向ミラー６０と第２の偏向ミラー６５を有している。これらのミラーは以下のように配置されている。すなわち第１の偏向ミラー６０もしくは第２の偏向ミラー６５に当射する対物ビーム２５が、第１のビーム入射側８０もしくは互いに逆平行な第２のビーム入射側８５において、被測定物体５における第１の面７０もしくはこれに対し平行な第２の面７５へ配向されるよう、配置されている。これらに加えてミラー装置４０はさらに、第１の偏向ミラー６０および／または第２の偏向ミラー６５に対し相対的な被測定物体５のポジションを結像するための第１のポジションミラー７０を有している。
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【課題】複数のセンサーで同期して計測を行ない、結果を高速かつ高品質に信号処理部に伝送し、もって位置検出を高速かつ高精度に行なう位置検出装置を提供する。
【解決手段】位置検出装置２００においては、センサー制御手段２１９，２２９，２３９及び２６９において、センサー２１１，２１２，２２１〜２２３，２３１及び２６１における検出結果のアナログ信号をデジタル信号に変換し、デジタル信号としてそのデータを光通信ネットワークで構築された伝送手段２７０を介して信号処理手段２８０に転送している。従って、複数のセンサーにおいて同時に検出されたデータを、同時並列的にデジタル信号に変換し、伝送手段を介して実質的に同時に信号処理手段に提供することができ、複数のセンサーで同時に検出したデータを用いた位置検出処理や、リアルタイムでの位置検出処理を適切に行なうことができる。
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【課題】分解能が高く、コンパクトで低コストのエンコーダ装置を提供する。
【解決手段】エンコーダ装置１０の回転板１１に、限定された角度範囲をカバーする複数のサブパターンであって、各々異なる幅に設定された複数のサブパターン２１からなる識別パターン２０を設ける。これらのサブパターン２１がライン状のＣＣＤ１３を検出可能範囲として持つ受光部１７を横切るときの幅Ｗからサブパターン２１を特定し、横切る位置Ｐから回転板１１の角度を判断することができる。したがって、回転板１１の面積を、角度を測定するためのパターン２１で有効活用でき、また、ＣＣＤ１３も変位を測定するためのパターン２１で有効活用できる。したがって、分解能が高く、コンパクトで低コストの測定装置１を提供できる。 （もっと読む）

【課題】結果として生じる走査信号における確実な高調波のフィルタリングを保証する光学位置測定装置を提供する。
【解決手段】位置に依存した走査信号を発生させるために使用される光学位置測定装置を提供する。互いに相対的に測定方向に可動に配設されている測定目盛と走査ユニットとから成る。走査ユニットは、光源と光電式検出器配列とを有し、この検出器配列は、複数の検出器要素ユニットから成り、検出器要素ユニットの幾何学的な形状及び／又は配列は、その上に少なくとも走査信号からの望ましくない高調波の部分フィルタリングが結果として生じるように選択されている。測定目盛は、周期性ＴＰＭのある、測定方向に周期的な異なった光学特性を有する目盛領域の配列から成る。 （もっと読む）

【課題】例えば、半導体製造プロセスやＦＰＤ製造プロセス等におけるインライン計測に好適なエリプソメトリ方式の薄膜計測装置を提供すること。
【解決手段】投光側光学系には、光源（２１）と、コリメータレンズ（２２）と、偏光子（２３）と、回転式移相子（２４）と、スリット板（２０）と、集光レンズ（２５）とが含まれる。受光側光学系には、コリメータレンズ（２６）と、検光子（２７）と、傾斜膜（２８）と、一次元ＣＣＤ（２９）とが含まれる。コリメータレンズ（２６）と一次元ＣＣＤ（２９）の受光面とは平行であり、かつそれらの距離はほぼレンズ（２６）の焦点距離（ｆ）とされる。それにより、距離バタツキ及び角度バタツキに対する耐性が向上する。 （もっと読む）

【課題】計測精度を維持してアライメントのスループット性を向上させた位置計測装置等を提供すること。
【解決手段】ＡＦセンサ６０のＣＣＤカメラ６１は非計測方向に９６行（ライン）、計測方向に１０２４列のピクセル（９６×１０２４）を有した２次元ＣＣＤカメラであり、入力した計測信号を処理する方法として、各ライン上のピクセルに蓄積された光量に相当する電荷（信号）を所定時間毎に１ラインずつ順次加算を繰り返す（電荷を順次転送して加算を繰り返す）、ＴＤＩ計測モード（ステップＳ１０１参照）と、各ライン上のピクセルに蓄積された光量に相当する電荷（信号）を９６ライン分一度に加算（電荷を一度に転送して加算）する、ＷＡ計測モード（ステップＳ１０３参照）と、を含み、このＴＤＩ計測モードとＷＡ計測モードを計測条件に合わせて切り換える。 （もっと読む）

【課題】 薄板のエッジ部分の複数の面を同時に観察でき、欠陥などを効率的にに検出できる顕微鏡および薄板エッジ検査装置を提供する。
【解決手段】 第１の結像光学系の光軸に対し、第２および第３の結像光学系の光軸が対称に配置された３つの結像光学系を有し、第２および第３の結像光学系のそれぞれの光軸をミラー５ｂ、５ｃとミラー８ｂ、８ｃで偏向して、これら３つの結像光学系の光軸が基準物体点と基準像点で互いに交わるように構成し、このうち、基準像点側に像合成プリズム９を配置し、それぞれの結像光学系からのウェハ６の像を合成し、リレーレンズ１０を有する観察光学系２００を介してＣＣＤ１２で撮像する。 （もっと読む）

【課題】 磁性媒体の性能向上と磁気ヘッドの低浮上化の進行に伴い、ディスク基板の表面粗さはより小さくなる傾向に対応して、AFMよりも測定時間が短く、非破壊で、高精度、かつ、再現性のよい測定方法及び測定装置を提供すること、および、上記測定方法及び測定装置により、磁気ディスク基板のテクスチャの不良を選別し、不良品の磁気ディスクの発生を低減可能な磁気ディスクの製造方法を提供することが課題である。
【解決手段】 磁気ディスク基板の表面にレーザ光を照射して、該磁気ディスク基板の表面の粗さを測定する方法・装置において、上記レーザ光を集束し、磁気ディスク基板の表面に入射するレーザ光の光軸と、光軸がテクスチャと接する点のテクスチャ接線とのなす角度、および、磁気ディスク基板の表面に入射するレーザ光の入射角度をほぼ一定に保ち、基板表面からの散乱光を２次元アレイ光センサー上に受光し、受光信号から散乱光強度分布を算出し、散乱光強度分布を表面粗さの数値に換算するようにした。 （もっと読む）

【課題】
構成が複雑な目盛線が無くとも、原点からの各目盛の位置情報を信頼性高くしかも低コストに形成でき、ホームメジャーと言われる直尺／巻尺／分度器などに適用し得るような、安価で作業スピード性に優れる電子式長さ／角度測定器を得る。
【解決手段】
各仮想目盛間ごとに絶対寸法記号を特定するビット符号が一列に形成されたスケールと、測定対象物の寸法等に対応して前記スケールと相対的に移動可能なスライドブロックと、スライドブロックに設置されスケール上のビット符号を電子情報化するＣＣＤ／ＣＭＯＳ素子を有する撮像手段と、撮像手段を駆動して電子化した画像情報等を得るＣＣＤ／ＣＭＯＳ駆動手段と、得られた画像情報等に基づいて測定対象物の寸法値等を算出する演算処理手段とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 受光可能散乱角度範囲を調整する手段を設けることによって、被測定物の性状に合った適切な測定を可能にする測定器を提供すること。
【解決手段】 レーザー１から被測定面Ｗに光が照射されると、散乱光が生じる。同一散乱角度θの散乱光束Ｓは、対物レンズ３によって位置Ｆ´に集光される。位置Ｆ´と略同位置には散乱角度制限絞り５が設けられており、集光位置Ｆ´が開口部５２の内部に位置している場合に限り、散乱光束Ｓは散乱角度制限絞り５を通過される。集光位置Ｆ´は散乱角度θのみによって決定されるため、散乱角度制限絞り５は、それを通過されて受光素子８で受光される散乱光の受光可能散乱角度範囲を規定する。受光可能散乱角度範囲は、開口部５２の形状の調整によって自由に調整できる。そのため、被測定物の性状に最も合った受光可能散乱角度範囲を設定し、測定を精度良くできる。 （もっと読む）

【課題】可変の形状を有する移動する目標表面上に、画像機構の焦点合わせを動的に行う方法を提供する。
【解決手段】（１）目標表面の形状のモデルを作成すること、（２）目標表面の所定数の箇所の相対位置を測定すること、（３）その目標表面の所定数の箇所を用いて、そのモデルを目標表面に適用すること、（４）そのモデルの目標表面への適用によって得られたデータを用いて、移動する目標表面上へ画像機構の焦点合わせすること、によって、目標表面上に画像機構の焦点合わせを動的に行う。 （もっと読む）

【課題】測定対象が入射する波長の長さに近づくにつれて、測定誤差や再現率、リニアリティーが低下しない寸法測定装置を提供する。
【解決手段】 画像処理において、予め作成しておいた、校正用スライステーブル及び計算式により、一度計測した測定値から、新たなスライスレベルを参照することで、測定誤差や再現率、リニアリティーが改善する。 （もっと読む）

【課題】安価、高精度、かつ高スループットに、物体を搬送して受け渡すことができる搬送方法を提供する。
【解決手段】プリアライメント装置４５では、マーク５０Ｍの位置情報と、ウエハＷの位置情報とを非同時に検出する。このようにすれば、マーク５０Ｍの位置情報を検出する検出系と、ウエハＷの位置情報を検出する検出系との少なくとも一部を共通化することができるようになるため、その分だけ、装置コスト及び発熱量を低減することができる。 （もっと読む）

投影露光装置（１００）は、基板（Ｗ）が載置されるとともに、その基板を保持して移動可能な基板テーブル（３０）と、基板テーブルの位置情報を計測する位置計測系（１８等）と、液体の供給に起因して基板と基板テーブルとの少なくとも一方に生じる位置ずれを補正する補正装置（１９）とを備えている。この場合、補正装置により、液体の供給に起因して基板と基板テーブルとの少なくとも一方に生じる位置ずれが補正される。これにより、基板に対して液浸法を利用した高精度な露光を行う。 （もっと読む）

【課題】 波長による屈折率の変化、つまり波長の関数で屈折率を反映したスペクトルを高速フーリエ変換を通じて得られた干渉空間での反射光のピーク値の位置を通じて、速やかな分析速度および高精密度を有した光ディスクの厚さ測定方法を提供すること。
【解決手段】 光の波長の長さによる反射光の強度を波長別スペクトルデータとして検出する段階と、前記検出された波長別スペクトルデータを波長の関数として屈折率を反映したスペクトル値に変換処理する段階と、前記変換処理された値を高速フーリエ変換を通じて光ディスクの厚さを表す間接空間の長さに変換処理して反射光の強度がピーク値を有する位置をそれぞれスペーサーレイヤーおよびカバーレイヤーの厚さとして検出する段階とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

走査システムは、対象物（４０）の定性的及び定量的不規則性を検出する１以上の立体カメラ（１０）を有する。各立体カメラセット（１０）は、２つのカメラ（１２，１４）と投影器（１６）とを有する、各カメラ（１２，１４）は、ＣＣＤマトリックス配列（１８）の配列不良による歪みと光学システムの欠損とを補正するために較正される。投影器（１６）は、測定されるべき対象物（４０）に絶対符号パターン（３２，３４，３６）を投影し、赤外、可視、紫外スペクトルの電磁気エネルギーを放射可能である。複数のカメラセット（１０）は、３次元空間（２６）の対象物（４０）の不規則性を検出可能な走査システムマトリックス（４２，４４）と結合され得る。３次元空間（２６）は、立体カメラセット（１０）の数に応じて、任意の所望の寸法であり得る。カメラ（１２，１４）からのデータは、測定の表示用にデジタル信号プロセッサ（６６）を介してコンピュータインターフェース（６４）に送信される前に、ゲートアレイ（６２）により予備処理される。結果的に、送信されるデータ量は、簡素化され、従って動作時間を減少させ、走査システムが非常に短い時間で対象物（４０）の不規則性を非常に正確に測定することを可能にする。
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