【課題】ニアフィールド領域に存在する対象物の表面構造の測定方法を提供する。
【解決手段】光源は少なくとも第１の光ビームおよび第２の光ビームを生成し、第１の光ビームおよび第２の光ビームは対象物の表面と接するようにＳＩＬへ入力されるように誘導される。この方法は、例えば、第１および第２の光ビームに相当する２点における、ＳＩＬと光ディスク間の２つの距離を測定するために、第１および第２の光ビームの反射光の強度が使用されるニアフィールド光ディスクストレージシステムにおいて使用されうる。ディスクとＳＩＬ間の傾斜角または平均距離、またはディスク表面のラフネスのような表面構造は、上述の位置および距離を分析することによって得られる。第１および第２の光ビームは、例えば、回折技術または複数のビームを発するシングルレーザダイオードによって、生成される。 （もっと読む）

【課題】円弧状輪郭と非円弧状輪郭とを有する計測対象物の位置情報を計測する場合において、正確に円弧状輪郭と非円弧状輪郭とを判別し、正確な位置情報を得る。
【解決手段】複数箇所に設けられた撮像視野内にそれぞれ存在する、計測対象物の輪郭の一部を撮像する第１ステップと、計測対象物を微小回転させる第２ステップと、微小回転後、撮像視野内にそれぞれ存在する輪郭の一部を撮像する第３ステップと、第１ステップによる撮像結果及び第３ステップによる撮像結果に基づいて、各撮像視野内に含まれる輪郭の一部が円弧状輪郭か、若しくは非円弧状輪郭かを判定する第４ステップと、当該第４ステップにて円弧状輪郭を輪郭の一部として含むと判定された撮像視野内の画像に基づいて、前記計測対象物の円近似を行い、当該円近似された計測対象物の円中心及び半径を前記位置情報として算出する第５ステップとを有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ウェーハの種類や工程にたいして適正な異物検査を可能とし、異物検出性能を低下させることなく、歩留り管理に有益な情報を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、ウェーハを含む被検査物に検査光を照射し、前記被検査物から反射または散乱する光を受光し、その受光の強度より被検査物の表面に存在する異物の有無を検査する異物検査方法であって、前記被検査物上に形成されるウェーハパターンの有無や膜の有無、膜の材質、膜厚寸法に対して前記受光の強度が強まるように焦点オフセットを調整することを特徴とする。これにより、適正な異物検査が実現できる。
また、表面高さ位置検出手段（表面検出系）が検出する表面高さ位置に強度検出手段の受光強度が強まるように焦点オフセットを調整する。それにより、適正な異物検査が実現できる。また、レシピ作成画面にこのオフセット量を算出する機能を組み込むことでウェーハの種類や工程に最適な条件作成が可能となる。 （もっと読む）

【課題】
ディスクのハンドリング時間を短縮して、ディスク検査のスループットを向上させることができるようなディスクの表面欠陥検査方法および検査装置を提供することにある。
【解決手段】
この発明は、ディスクカセットの底面側からディスクカセットに収納されたディスクをディスクカセットの前方に押出してディスクカセットに隣接するこれの外側の検査位置にまでディスクを移動させかつ検査位置に設定されたディスクをディスクカセットに対してそのまま前後移動させて光ビームによりディスクを走査してディスクの欠陥検査をする。 （もっと読む）

【課題】検出感度や異物座標検出誤差の機差が小さく、異物等の欠陥の高い位置座標精度が得られるウェハ表面欠陥検査装置およびその方法を提供することである。
【解決手段】第１の光源からの射出ビームを回転するウェハの表面上に照明してビームスポットを形成してウェハ表面上の異物等の欠陥による散乱光を複数方向で検出して信号として出力し、第２の光源からの白色光または広帯域の光を用いてウェハ面の上下動を検出してその情報に基づいてウェハ面上のビームスポット位置を補正してウェハ面上下動に伴う座標誤差を抑制するとともに、第1の光源における光の射出方向および射出位置を補正して第1の光源の変動による座標誤差を抑制することで検出する異物等の欠陥の座標精度を向上する。さらに照明ビームスポット径を補正し、検出感度や異物座標検出誤差の機差を抑制する。 （もっと読む）

【課題】少なくとも第一誘電体層、記録層、第二誘電体層、反射層を有する光記録媒体の製造過程において、膜厚が所定の範囲から外れた不良媒体の、シンプルかつ低コストな検査方法を提供すること。
【解決手段】等間隔に溝が形成された基板上に、少なくとも第一誘電体層、記録層、第二誘電体層、反射層を有する光記録媒体に光を照射し、その反射光を測定することにより、基板と反射層との両層間に挟まれた各層の膜厚を検知して光記録媒体を検査する方法であって、上記膜厚検知手段が、各層の膜厚によりシフトする回折ピーク波長を測定する手段であることを特徴とする上記方法。 （もっと読む）

【課題】
干渉光におけるノイズを低減して測定精度を向上させることができるような光ヘテロダイン干渉測定方法およびその測定装置を提供することにある。
【解決手段】
この発明は、周波数の異なる基準光と測定光とを生成してビームスプリッタを介して測定光を被測定物に照射する光ヘテロダイン干渉測定方法において、ビームスプリッタへ照射される透過光側を遮断し、反射する側の光ビームだけとし、これの透過方向への漏れ光の受光素子での受光が最小になるように、偏光板の軸を設定するようにしているので、受光素子から得られる干渉光の電気信号における漏れ光により発生するノイズレベルを低減することができる。 （もっと読む）

【課題】ホログラム記録媒体に対するレーザー装置からのレーザービームの照射を振動のレベルに応じて制御することが可能な振動検出装置、ホログラム装置、振動検出装置の振動検出方法、ホログラム装置の記録方法を提供することを目的とする。
【解決手段】記録すべきデータに対応した可干渉性のデータビームと参照ビームとを記録媒体へ入射させデータをホログラムとして記録媒体に記録させるホログラム装置であって、データビーム及び参照ビームに対し非干渉性を有し振動の有無を検出するための振動検出用ビームを記録媒体に入射させる振動検出用ビーム発生部と、入射された後伝播して出射される振動検出用ビームを受光した位置が所定範囲内であるか否かを判別する受光判別部と、所定範囲内でないと受光判別部が判別したときデータビームと参照ビームのうち少なくとも一方の記録媒体への入射を遮断する遮断部と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】複数の層を積層して形成された透過性基板内の複数の界面の位置を、光学系を用いて測定する界面位置測定において、試料内部の界面位置を高速に測定できる界面位置測定方法を提供する。
【解決手段】互いに平行な複数の界面を内部に有する基板の界面位置測定方法であって、前記基板表面に垂直な光軸を有する平行光から一軸方向にのみ集光した集光ラインを前記基板表面に対し傾けて形成し、前記集光ラインを前記基板と交差させ、前記集光ラインが前記基板で反射した反射光のうち光強度ピークを有する位置を界面とすることにより、基板内部の複数の界面を同時に測定することが出来、高速な界面位置測定を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】光記録媒体の位置を直接求めることにより光記録媒体の位置を正確に認識し、印刷不良や空打ち等の弊害を生じない光記録媒体の位置検出方法及び装置を提供すること。
【解決手段】コンパクトディスク等の光記録媒体８、１２の主走査方向及び副走査方向における両端の位置を検出し、光記録媒体８，１２の主走査方向及び副走査方向における中心を求める。光記録媒体８．１２の主走査方向での中心と、副走査方向での中心とから光記録媒体８．１２の印刷開始端を求める。 （もっと読む）

【課題】発光ダイオードのような通常の光源を用いることができる情報媒体を得ること。
【解決手段】トラックに識別マーク（２０）が設けられ、この識別マークは、光源から放射される中心波長（λ）の光、すなわち角度（Θ_i）で情報媒体（１０）に入射する当該光によって検出することができ、これらの識別マークから情報媒体（１０）のポジションを導き出すことができる。この際、前記識別マーク（２０）が、格子周期が（Λ）である少なくとも第１のパターン（２２）でパターン化された領域（２５）によって形成されており、これらの領域は、金属膜（４０）の下面（４０ｂ）および／または金属膜（４０）の表面（４０ａ）に配置されている。この際、第１のパターン（２２）の格子周期（Λ）が、数式Λ＝λ／（ｎ_P^★−ｓｉｎ（Θ_i））、またはΛ＝λ／（ｎ_P^★＋ｓｉｎ（Θ_i））を満足する。 （もっと読む）

【課題】ＦＰＤガラス等の大型の試料表面の全範囲にわたり検査員が同一の条件で目視検査を効率的に行える外観検査装置及び外観検査方法において、マクロ観察とミクロ観察の切り替えを短時間で行なえ、また、最適な反射角度で観察できるように改善する。
【解決手段】多関節ロボットＲを用い、そのハンド部分３にマクロ撮像光学ユニット２とミクロ撮像光学ユニット１とを隣り合わせに並べて装着し、ハンド部分３を任意の３次元位置に移動させ、撮像光学ユニット１、２の位置（ｘ１、ｙ１、ｚ１）、（ｘ２、ｙ２、ｚ２）と光軸方向（χ１、ψ１）、（χ２、ψ２）を任意に設定できるようにして、検査するのに適切な撮像光学ユニット１、２の位置と光軸方向、その他の条件をティーチングさせて、マクロ外観検査及びミクロ外観検査ができるようにした。 （もっと読む）

【課題】干渉位相測定系及び散乱光検出系による検査を行う表面欠陥検査装置の構成を簡略化する。
【解決手段】レーザー光源１０が発生したレーザー光は、偏光ビームスプリッタ２１で偏光面が異なる２つの光に分岐され、音響光学素子２２Ａ，２２Ｂでそれぞれ異なる周波数で変調されて、反射鏡２０又は磁気ディスク１の表面へ照射される。偏光器２９は、反射鏡２０で反射した反射光及び磁気ディスク１の表面で反射した反射光の偏光面を傾けて分割する。偏光器２９から透過光と垂直方向へ放出される光を散乱光検出系４０で利用することができるので、偏光手段を別に設ける場合に比べ、干渉位相測定系で利用できる光量が多くなる。 （もっと読む）

【課題】球面収差の影響を取り除き、また界面の溝構造の影響も受けない条件で測定を行うことで、複数の界面を持ち、少なくとも１つの界面が周期性を持った同心円状の溝構造を有する被測定物の界面の位置を高精度に測定することができる界面の位置測定方法を提供する。
【解決手段】光源から出射した直線偏光の光を、対物レンズを介して被測定物に集光し、光軸方向に対物レンズと被測定物との相対距離を変化させて、その時々の被測定物からの反射光を検出器で受光し、検出した受光ピークに基づいて、複数の界面を持つ透明な被測定物の界面の位置を求めるに際し、光の収差を補正して、被測定物の界面の位置測定を行う。 （もっと読む）

【課題】複数の界面を持つ光透過性のある被測定物の各界面の位置を測定する。
【解決手段】白色光源からの光を参照面および被測定物に照射して反射光を干渉させ、参照面を移動させたときの干渉縞を撮像し、界面を１つもつ基準面による干渉強度信号から直流成分を減じたスペクトルの複素共役データと、被測定物の複数の界面による干渉距度信号から直流成分を減じたスペクトルの積をとり逆フーリエ変換し相関を求めることで被測定物の界面の位置を求められる。 （もっと読む）

【課題】 ヘッド／スライダの挙動を観測するヘッド／スライダ観測装置を提供する。
【解決手段】
試験ディスク１０７は赤外線を透過する材料で製作されている。ヘッド・アーム１０１は、試験ディスクの一方の面にヘッド／スライダの空気軸受面が対向するようにヘッド・ジンバル・アセンブリ４１を支持する。受光部は空気軸受面から放射され試験ディスクの他方の面を通過した赤外線エネルギーを受光して電気信号に変換する。画像制御部１１１は受光部から受け取った電気信号を処理して表示データを生成する。画像表示部は、画像制御部が生成した表示データを表示する。この結果、ＡＢＳと試験ディスクとの干渉を二次元の温度分布として可視化することができる。 （もっと読む）

【課題】多層ディスク等の多層構造体の被測定物について分光干渉法で正確な膜厚測定ができるようにする。
【解決手段】
波長帯域幅を持つ光を、被測定物の表面側から斜め方向となる入射角θiで照射させ、第１の反射膜（記録層Ｌ０）の反射光と第２の反射膜（記録層Ｌ１）の反射光との干渉光から、第１の反射膜と上記第２の反射膜の間の膜厚（スペーサ層の膜厚）を算出するとともに、第２の反射膜の反射光と表面の反射光との干渉光から、第２の反射膜と上記表面の間の膜厚（カバー層の膜厚）を算出する。入射角は、第１の反射膜の反射光と第２の反射膜の反射光との干渉光の特定の高調波成分の光強度より、第２の反射膜の反射光と上記表面の反射光との干渉光の光強度が大きくなる入射角とする。 （もっと読む）

【課題】傾きセンサの高感度化と小型化を実現した上で、光利用効率を向上させる。
【解決手段】本発明は、所定の基準面に対する対象物（例えば光ディスク）５の傾きを検出する傾きセンサであり、対象物５に照射する光を発する光源１と、光源１からの光を取り込むカップリングレンズ２と、対象物５で反射された光束を収束光に変換する検出レンズ７と、対象物５で反射された光束を光検出器に導く光学素子１６と、対象物５で反射された光束を受光し光電変換信号を出力する光検出器８ａ，８ｂとを備えた傾きセンサにおいて、対象物５に照射する光束は収束光であり、前記光学素子１６は、対象物５で反射された光束を複数の光束に分割する光学素子であることを特徴としており、収束光を測定対象物に照射することで、光源からの光を無駄にせずに、効率よく照射することができので、信号光量を大きくでき、感度良くチルト検出することができる。 （もっと読む）

【課題】 記録ビットのサイズに相当する微小領域において潤滑層の膜厚分布を測定する方法を提供し、さらには高い耐久性と小さな磁気スペーシングを兼ね備えた磁気記録媒体を提供することにある。
【解決手段】 非磁性基板、磁性層、保護層、潤滑層を備えた磁気記録媒体において、走査型プローブ顕微鏡のカンチレバーを共振状態とし、前記カンチレバーのプローブ側の端部が大気中で自由端の時の共振状態の位相と、該プローブが前記保護層に略接触した時の共振状態の位相との差を位相遅れとしたときに、前記位相遅れを磁気記録媒体表面の複数の点で測定し、前記位相遅れの平均値をδ、標準偏差をσとして、σ／δが０．１５以下であることを特徴とする。
前記位相遅れは１ないし１００Ｐａの圧力下で測定することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ハードディスクドライブの特定の面積内により多くのデータを記録するため、ヘッドは回転ディスクへより近接した位置に設置されつつあり、ヘッドと回転ディスク間の正確に距離測定できるようにする。
【解決手段】動的な基準面の補償法は、第１放射源からの放射を対象物（２３０）の表面（２３２）に入射させることと、表面（２３２）上にある第１位置と、第２位置より反射される放射からの補償されていない測定信号を発生することと、表面（２３２）上にある第３、第４位置より反射される放射から補償信号を発生することと、補償されていない該信号と該補償信号を用い、補償された測定信号を発生すること、により構成される。 （もっと読む）