【課題】スライダ製造過程を制御し、記録ヘッドが適正な高さで浮動することを保証するために、ヘッドと回転ディスク間の距離を正確に測定できるようにすること。
【解決手段】各実施形態で、かく乱状態環境中での干渉分光法測定手法が説明されている。かく乱状態環境（１０６）には、圧力変動及び／又は熱変動などの１つ以上の変動が含まれる。例えば、かく乱状態環境は光学浮動高試験装置中の回転ディスクにより生成される。１つの実施形態では、ある方法は第１ビーム（１０８）の光学経路と第２ビーム（１１０）の光学経路間の差を検出することが含まれる。第１ビームと第２ビームのうち１つ以上のビームをかく乱状態環境の近傍のシュラウド（１１４）に筐体収容される。該方法では、更に、かく乱状態環境の近傍のシュラウドに窓（１１６）を連結することができる。例えば、かく乱状態環境の悪影響を削減するためである。 （もっと読む）

【課題】基板上に反射層と少なくとも１層以上の光透過性薄膜層を積層してなる光学積層体における各層の膜厚を簡便に検査可能にする。
【解決手段】光学積層体４を構成するＡｇ全反射層は、可視光領域では高い反射率を示すが、短波長ではやや低く、長波長ほど高い反射率スペクトルとなる。このようなＡｇ反射膜を、等ピッチの溝を有するプラスチック基板上に形成した場合、溝による回折に起因した反射率の低下が見られる。この反射率の低下は溝深さが深いほど反射率の低下度合いが大きくなり、溝のピッチを小さくすると、ピッチにほぼ比例して反射率が低下する波長が小さい方へとシフトする。この現象を利用して、光学積層体４を構成する光透過性薄膜層側から検査用光を入射させ、各層までの光路長の変化に応じて変化する各層からの反射光の光強度を測定し、特定波長の反射光強度に基づいて膜厚を検査する。 （もっと読む）

曲率をもって移動する水平移動デバイスを使用して正確なディスク原盤の送り精度を実現する、ディスク原盤の製造方法を提供すること。 レジスト原盤１０８を自転させる工程と、前記レジスト原盤１０８を移動させる工程と、前記移動に伴う前記レジスト原盤１０８の中心点の軌跡上の移動距離を読みとる工程と、前記中心点の軌跡上の移動距離と、前記移動に伴う前記レジスト原盤１０８の中心点の直線上の移動距離との差を検出する工程と、前記検出結果に基づいて、所定の製造パラメータを制御する工程とを備える、ディスク原盤の製造方法。
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【課題】 検査対象物の異なる場所で撮影した違うパターン上の欠陥の検出・分類に対応し、なおかつ自動分類結果の精度を向上させる。
【解決手段】 液晶表示装置や半導体ウェハ等の繰り返しパターンを持つ検査対象物１の欠陥を検出・自動分類する際、繰り返しパターンを予め複数の領域に分割し、被検査画像から検出された欠陥部位が上記繰り返しパターンのどの領域に属するによって異なった自動分類用データベース７１，７２，７３を作成しておく。そして、検出された欠陥が属する領域に応じて、異なるデータベースを使用して検査対象物１の欠陥の分類を行なう。 （もっと読む）

【課題】 従来検出が困難であった欠陥部について、その形状や方向性に関係なく検出可能な欠陥検査装置及び方法を提供する。
【解決手段】 縞状のパターン１９０にてなる照射光１１１を被検査物５０へ照射し、被検査物の通過した縞状パターンから、被検査物の欠陥部に応じて現れた欠陥パターン１９５を検出する。このとき、被検査物に照射する縞状パターンの位置を変更することから、欠陥部の形状や方向性に関係なく欠陥部を検出することができる。 （もっと読む）

【課題】ワークピース表面から反射される光を使用してワークピースの表面を検査するのに使用される方法及び装置を提供する。
【解決手段】光学的テストヘッドは、レーザビームを発生するためのレーザソースを備えている。レーザビームは、ビームの形状を変更するための円筒状レンズと、ビームをワークピース（通常、磁気ディスクプラッター）に集中させるための球面レンズとを通過する。円筒状レンズは、ａ）プラッターの半径方向に沿ってレーザビームを延長させ（半径方向における有効開口数を減少することにより）、そしてｂ）ビームを半径方向に焦点ずれさせる（が、ビームは、通常、周囲方向に焦点が合わされる）。半径方向におけるビームのサイズは、円筒状レンズの位置に実質的に不感である。 （もっと読む）

【課題】ワークピース表面から反射される光を使用してワークピースの表面を検査するのに使用される方法及び装置を提供する。
【解決手段】ワークピースの上面及び下面を同時に光学的に検査するための装置は、上部及び下部テストヘッドを備え、各ヘッドは、ワークピースの関連表面を走査するレーザビームを発生するための少なくとも１つのレーザと、反射されたレーザ光を検出するための少なくとも１つの検出器とを備えている。レーザビームの方向は、上部テストヘッドと下部テストヘッドとの間のクロストーク干渉を減少又は防止するように選択される。 （もっと読む）

【課題】 回転する測定対象物の回転軸傾き量を正確に測定可能な光学測定装置及び光学測定方法並びに回転軸傾き検査システムを提供する。
【解決手段】 投光素子２１から出射され回転装置１０にて回転されるディスクＷの上面で反射した光のうち所定のタイミングで電子シャッタ２４を開いて通過した光が二次元ＣＣＤ２５の撮像面２５Ａに照射され、制御部２６は、複数回転に分けて二次元ＣＣＤ２５の撮像面２５Ａに照射される複数の光の少なくとも３つの照射ポイントに基づいて生成される座標データのＸ軸方向とＹ軸方向の差（ｘ１ーｘ２，ｙ１ーｙ２）からディスクＷの回転軸傾き量を測定する。 （もっと読む）

【課題】ワークピース表面から反射される光を使用してワークピースの表面を検査するのに使用される方法及び装置を提供する。
【解決手段】光学的テストヘッドは、光ビームを光源からワークピースへ通信する１つ以上の入力光学路と、ワークピースから反射された光を検出器へ通信する１つ以上の出力光学路とを備えている。これら入力光学路及び出力光学路は、１つ以上のミラー及び１つ以上のレンズを含むことができる。光学路の少なくとも１つは、漂遊光を捕獲し及び／又は吸収するための層を含む。１つ以上のレンズは、レンズからの望ましからぬ光の反射により生じるノイズを減少するための反射防止コーティングを含む。光学路は、漂遊光を減少するための１つ以上のマスクを含む。１つ以上のマスクは、調整可能なアパーチャー（例えば、虹彩）を有することができる。 （もっと読む）

【課題】 光ディスクのカバーシートの貼りずれを精度良く検出する。
【解決手段】 光ディスク１を回転し、回転する光ディスク１の外周面を撮像し、次いで、撮像した光ディスク１の画像データの色濃度変化に基づき、この光ディスクの位置補正用基準端面２２を検出し、次いで、位置補正用基準端面２２の外側に矩形のはみ出し検出ウィンドウ２３の一辺を一致させて配し、はみ出し検出ウィンドウ２３に、光ディスク１の一部が含まれているとき、カバーシート４ｂがディスク基板２に対してずれていると判断する。 （もっと読む）

【課題】球面収差の発生を低減した共焦点光学装置及び球面収差補正方法を提供する。
【解決手段】対物レンズ５と試料台との間隔を変えるように試料台７を移動させる駆動機構８と、光源１と対物レンズ５との間に配置された球面収差補正素子４と、光検出器による検出結果に基づいて、対物レンズ５の焦点位置が試料の表面に合うときの試料台の位置を検出する基準位置検出部１５と、光検出器１２による検出結果に基づいて、対物レンズ５の焦点位置が試料内における測定対象に合うまでの試料台７の移動量を演算し、測定対象の試料内深さを導出する移動量導出部１６と、測定対象の試料内深さに応じて、球面収差補正素子４を制御する補正制御部１７とを備えている。 （もっと読む）

【課題】厚さの薄い平板状の被検体、特にウェーハを対象として高精度に平坦度、厚さなどの形状を測定し得る光学式形状測定装置を提供する。
【解決手段】エッジ部を介して略鉛直に保持されたウェーハ１の主面１ａ側及び裏面１ｂ側に対向配置された２つの基準平面基板１５，２５を備える光学測定手段１０，２０と、前記基準平面基板１５，２５とウェーハ１との間に、ウェーハ１と平行間隙を形成し且つウェーハに近接して配置された透明な剛体平板１９，２９を備えてなる。 （もっと読む）

【課題】 ガラス素材のような透明なディスク基板において、両面に加工された微小な凹
凸であるテクスチャの有無、均一性の判断を検査する装置を提供する。
【解決手段】 ガラス素材のディスク基板の両面に形成された、円周方向のテクスチャに
対し、レーザ光を照射して、該ディスク基板の表面粗さを測定する方法・装置において、
上記レーザ光を集束し、ディスク基板の表面に入射するレーザ光の光軸と、テクスチャの
角度を直角とし、ディスク基板表面からの散乱光とディスク基板裏面からの散乱光をセン
サ上に受光し、受光信号から散乱光強度出力を算出し、散乱光強度出力を表示するように
した。 （もっと読む）

【課題】 起毛検査装置において、記録媒体カートリッジのライナーから立ち上げられた起毛の良否を検査する。
【解決手段】 光照射手段３０から発せられた線状に延びるスリット光Ｌｓを記録媒体カートリッジ１のライナー１３Ｄの起毛１４Ｄに対してその上方から照射し、測定手段３５により、上記スリット光Ｌｓの照射を受けて光切断された起毛１３Ｄの光切断断面Ｌｈにおける高さを測定し、比較手段４０により、測定された起毛１３Ｄの高さを予め定められた起毛の基準高さと比較し、判定手段４５により、上記起毛の高さの比較結果に基づいて起毛１３Ｄの良否を判定して、上記ライナー１３Ｄの有する起毛１４Ｄの高さを検査する。 （もっと読む）

【課題】粒子とゴースト粒子をするために、ゴースト粒子の放射線を実粒子の放射線から分解する検出器システムを提供する。
【解決手段】検出器システムが、自身の一部に入射する放射線の強度に対応する複数の検出器信号を出力する。あるいは、検出器システムが、自身に入射する放射線の強度に対応する検出器信号を出力する。複数の検出器信号は各々、ゴースト粒子から放射線が所定の閾値レベルより高いレベルを有さず、粒子から放射線を受け取ると、閾値レベルより高いほぼ同じレベルを表示する。さらには、検出器システムが、所定部分に入射する放射線に応答して第一検出器信号を生成する放射線検出デバイスと、粒子からではない放射線が検出器デバイスの所定部分に入射するのを防止する放射線遮断アセンブリを有する。 （もっと読む）

【課題】 装置の大型化を招くことなく、光学部品の角度ならびに位置測定等が可能な光学測定装置及び光ピックアップレンズ調整装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 光学測定装置２１はレーザ光源２２、コリメートレンズ２３、収束レンズ２５、撮像素子２７、２８、ＣＰＵ３５を主体として構成され、撮像素子２７、２８からの撮像信号Ｓｃ、Ｓｄに基づいて、測定用ワークＷの角度・位置を算出する。ここで、角度測定用撮像素子２７には角度測定用レーザ光源２２から出射され測定用ワークＷに向けて照射された光のうち測定用ワークＷで正反射した正反射光が入光されるようになっている。一方、位置測定用撮像素子２８には角度測定用レーザ光源２２から出射され測定用ワークＷに向けて照射された光のうち測定用ワークＷの側方を通過した通過光が入光されるようになっている。このように、共通のレーザ光源２２から投光された光により、測定用ワークＷの取り付け角度並びに位置を測定する構成であれば、光学測定装置２１の大型化が既存のものに比べて大型化することがない。 （もっと読む）

【課題】 磁性媒体の性能向上と磁気ヘッドの低浮上化の進行に伴い、ディスク基板の表面粗さはより小さくなる傾向に対応して、AFMよりも測定時間が短く、非破壊で、高精度、かつ、再現性のよい測定方法及び測定装置を提供すること、および、上記測定方法及び測定装置により、磁気ディスク基板のテクスチャの不良を選別し、不良品の磁気ディスクの発生を低減可能な磁気ディスクの製造方法を提供することが課題である。
【解決手段】 磁気ディスク基板の表面にレーザ光を照射して、該磁気ディスク基板の表面の粗さを測定する方法・装置において、上記レーザ光を集束し、磁気ディスク基板の表面に入射するレーザ光の光軸と、光軸がテクスチャと接する点のテクスチャ接線とのなす角度、および、磁気ディスク基板の表面に入射するレーザ光の入射角度をほぼ一定に保ち、基板表面からの散乱光を２次元アレイ光センサー上に受光し、受光信号から散乱光強度分布を算出し、散乱光強度分布を表面粗さの数値に換算するようにした。 （もっと読む）

【課題】 測定対象たる板状体の材質、硬度、及び面積によらずに、常に正確に、かつ、迅速に厚さ測定を行う。
【解決手段】 参照面によって反射された光と、参照面を透過した後に所定位置に配置した透明板状体の裏面によって反射され、再び参照面を透過した光と、によって得られる干渉縞の球面収差成分を用いて、基準基板における厚さと球面収差との関係に基づいて、透明板状体の厚さを算出する。 （もっと読む）

【課題】 波長による屈折率の変化、つまり波長の関数で屈折率を反映したスペクトルを高速フーリエ変換を通じて得られた干渉空間での反射光のピーク値の位置を通じて、速やかな分析速度および高精密度を有した光ディスクの厚さ測定方法を提供すること。
【解決手段】 光の波長の長さによる反射光の強度を波長別スペクトルデータとして検出する段階と、前記検出された波長別スペクトルデータを波長の関数として屈折率を反映したスペクトル値に変換処理する段階と、前記変換処理された値を高速フーリエ変換を通じて光ディスクの厚さを表す間接空間の長さに変換処理して反射光の強度がピーク値を有する位置をそれぞれスペーサーレイヤーおよびカバーレイヤーの厚さとして検出する段階とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

パターン化と非パターン化ウェハの検査システムを提供する。１つのシステムは、検体を照明するように構成された照明システムを含む。システムは、検体から散乱された光を集光するように構成された集光器をも含む。加えて、システムは、光の異なる部分に関する方位と極角情報が保存されるように、光の異なる部分を個別に検出するように構成されたセグメント化された検出器を含む。検出器は、光の異なる部分を表す信号を生成するように構成されていてもよい。システムは、信号から検体上の欠陥を検出するように構成されたプロセッサを含むこともできる。他の実施形態におけるシステムは、検体を回転・並進させるように構成されたステージを含むことができる。１つの当該実施形態におけるシステムは、検体の回転および並進時に、広い走査パスで検体を走査するように構成された照明システムを含むこともできる。
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