【課題】 ステージを回転軸周りに回転させながら３次元形状測定を行う場合に、３次元カメラの位置を異ならせても効率の悪化を防ぐ。
【解決手段】 コントローラ３０は、第１のカメラ位置に配置した３次元カメラ２０の測定により取得したステージ１０の定点の座標又はベクトルの成分を記憶しておく。コントローラ３０は、第１のカメラ位置と異なる第２のカメラ位置に配置した３次元カメラ２０の測定により取得したステージ１０の定点の座標又はベクトルの成分と、前記記憶しておいたステージ１０の定点の座標又はベクトルの成分とを用いて、第２のカメラ位置で３次元カメラ２０により測定した３次元形状を表す３次元データを、第１のカメラ位置で３次元カメラ２０により測定した３次元形状を表す３次元データに座標変換するためのカメラ座標変換係数を取得する。 （もっと読む）

【課題】 大口径の被検光学系の面形状を測定する波面形状測定方法、及び大口径の被検光学系の面形状を測定するための波面形状測定装置を提供する。
【解決手段】被検光学系の面形状を測定するための波面形状測定方法において、重力方向に伸びた回転軸（ＫＪ）を中心に液体（ＥＴ）を入れた容器（ＹＫ）を回転させることにより、重力方向に凹んだ回転放物面の液体反射面（ＥＨ）を形成する液体反射面形成工程と、反射平面（ＨＭ）を有する基準平面鏡（ＫＨ）を液体反射面に対向するように配置する工程と、干渉計（ＫＳ）から可干渉性を有する光束を液体反射面に照射し、液体反射面で反射された光束が基準平面鏡で反射され、再び液体反射面を経由して干渉計に戻った光束を干渉させて、基準平面鏡の面形状を測定する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】被測定面の位置をその反射率に左右されず、安定して高精度に測定し得る共焦点分光方式の光距離計及び距離測定方法を提供する
【解決手段】光距離計２１は、白色光源２２からの照明光を複屈折板２７により常光成分と異常光成分とに分離し、被測定面３４ａの光軸上の異なる位置で結像するように投射する。被測定面からの反射光を合波し、回折格子２９により波長毎に分散させ、複屈折板３０により再び常光成分と異常光成分とに分離して撮像素子３１に入射させる。信号処理部３３が、撮像素子から出力された電気信号を処理して常光成分及び異常光成分の光強度Ｐ１，Ｐ２を検出しかつ差分ΔＰ＝Ｐ１−Ｐ２を算出する。差分ΔＰが０となる波長λ０を検出することによって、被測定面の位置が求まる。 （もっと読む）

【課題】品種によって変わる塗工パターンに影響されずに（すなわち品種による段替えが発生せずに）、エッジまたは注目部位の位置ずれを正確に測定する位置測定システムを実現する。
【解決手段】搬送されるシート状物体の予め定められた注目部位の位置をカメラを用いて測定する位置測定システムにおいて、前記シート状物体の一方のエッジの略上方に設置され、前記シート状物体の像を結像する撮像素子を具備し、前記シート状物体の前記注目部位を撮像する第１のカメラ手段と、前記シート状物体の他方のエッジの略上方に設置され、前記シート状物体の像を結像する撮像素子を具備し、前記シート状物体の前記注目部位を撮像する第２のカメラ手段と、前記各撮像素子に結像された前記シート状物体の像における、前記注目部位の位置の予め定められた基準位置からの変動に基づき、パスライン変動の有無を判定してエッジの位置ずれを測定する測定手段を備えた。 （もっと読む）

【課題】光学部品の点数を少なく、構造を簡単化して、光センサーの小型化及び低コスト化を実現する。
【解決手段】振動検出用光センサー１は、光源２、偏光ビームスプリッター３、対物レンズ４、波長板ユニット５、及び光検出部として二次元イメージセンサー６，１４を備える。波長板ユニットは１／４波長板７と振動板８とが一体化され、光センサーの小型化、構造及び組立の簡単化、低コストが図れる。二次元イメージセンサーの受光面６ａ，１４ａには、振動板の反射面８ａの位置に対応して、同心で異なる半径の円形のビームスポット形状が入射する。二次元イメージセンサーの出力信号からビームスポット形状の面積又は半径を測定することによって、振動板の位置又は変位量を検出する。 （もっと読む）

【課題】車両の走行位置と通過時刻との関係を高精度に特定することを可能とした電気鉄道保守用車両位置測定装置を提供する。
【解決手段】電気鉄道保守用車両位置測定装置において、ラインセンサ１と、ラインセンサ１で撮影した画像をテンプレート画像と入力画像として作成する画像作成部１０と、画像作成部１０において作成したテンプレート画像と入力画像を保存するメモリ１１と、保存したテンプレート画像からＳＩＦＴ特徴量を抽出してテンプレートデータを作成しメモリ１２に保存するテンプレート作成処理部１３と、入力画像からＳＩＦＴ特徴量を抽出しメモリ１２に保存するＳＩＦＴ特徴量抽出処理部１４と、保存したテンプレートデータのＳＩＦＴ特徴量と入力画像のＳＩＦＴ特徴量との対応点を探索し入力画像中のハンガ位置を検出してメモリ１２に保存するハンガ位置検出処理部１５とを備えた。 （もっと読む）

【課題】パスライン変動の影響を最小限とし、塗工パターンに柔軟に対応できると共に、小型化できる塗工パターン寸法測定装置を実現する。
【解決手段】搬送方向に沿って走行するシート基材上に塗工材を塗布または印刷した塗工パターンの寸法を、塗工部と前記シート基材の反射率の差を光学的に撮像する光学読み取り手段により測定する塗工パターン寸法測定装置において、
前記光学読み取り手段は、
前記搬送方向に直交して前記シート基材に密接配置される、複数のレンズが線状に配置されたレンズアレイと、
前記レンズアレイの結像位置に線状に配置された一次元イメージセンサと、
を備える。 （もっと読む）

【課題】加工部片の寸法測定を容易にかつ小作業域で、できるようにする。
【解決手段】測定する部片を主軸台５７と心押し台６０との間に維持するため、固定された主軸台５７と、固定された主軸台に対向し、主軸台５７に近付くか、離れて移動するために線形軸に沿って移動可能である、移動可能な心押し台６０とが取り付けられた基準支持４０と、測定下の部片によって遮られるコリメート光のビームをｘ軸にわたって誘導するための光源１１０を担持し、さらに、光源１１０と整列し、測定下の部片によって遮られなかったコリメート光のビームの残留光を受けるように配置されている、光学検出器１２０を担持している、線形軸に沿って移動可能な可動往復台１００とを有す。 （もっと読む）

【課題】表面の干渉分析の方法とシステムを提供する。
【解決手段】物体の空間的特性を決定するための方法には、２つ以上の界面を含む測定物体からの走査低コヒーレンス干渉信号を得ることが含まれる。走査低コヒーレンス干渉信号には、２つ以上の重なり合う低コヒーレンス干渉信号（それぞれ個々の界面に起因する）が含まれる。低コヒーレンス干渉信号に基づいて、少なくとも１つの界面の空間的特性が決定される。場合によって、決定は、低コヒーレンス干渉信号のサブセットに基づき、信号の全体に基づくのではない。あるいはまたは加えて、決定は、低コヒーレンス干渉信号を得るために用いられる干渉計の機器応答を示す場合があるテンプレートに基づくことができる。 （もっと読む）

【課題】 規格内の大きさの受光センサを用いても、受光センサを大きくした場合と同じように、３次元形状の測定可能範囲が大きいか、又は分解能を高くする。
【解決手段】 レーザ光照射器から測定対象物（ＯＢ）の表面にレーザ光を照射し、測定対象物ＯＢの表面の照射スポット位置にて発生する散乱光の一部である反射光を集光レンズ３２で集光するとともに、集光された反射光をダイクロイックミラー３０で互いに異なる少なくとも第１方向及び第２方向に分離する。分離された反射光を、複数の受光素子からなる受光センサ１４，２４でそれぞれ受光する。受光センサ１４，２４は、レーザ出射器からの距離が異なる測定対象物ＯＢの表面からの反射光をそれぞれ受光するとともに、一部距離を重複させる。受光センサ１４，２４による受光信号を用いて、３角測量法の原理に基づいてレーザ光照射器から測定対象物ＯＢの表面までの距離を計算する。 （もっと読む）

【課題】測定波形のマスター波形に対する位置補正を精度よく行ことが可能な測定波形の補正方法を提供する。
【解決手段】測定波形１０の補正方法は、マスター被測定物の二次元形状を測定するとともに、被測定物１の二次元形状を測定する工程と、マスター波形２０を生成するとともに、測定波形１０を生成する工程と、マスター波形２の頂点の形状データ「Ｂｖ」のＸ座標「Ｘｂｍ」、および測定波形１０の頂点の形状データ「Ａｖ」のＸ座標「Ｘａｍ」を算出する工程と、測定波形１０のＸ座標「Ｘａｍ」がマスター波形２０のＸ座標「Ｘｂｍ」と等しくなるように、測定波形１０をＸ軸方向に平行移動する工程と、マスターＺ平均値「Ｚｂｖ」を算出するとともに、Ｚ平均値「Ｚａｖ」を算出する工程と、測定波形１０のＺ平均値「Ｚａｖ」がマスター波形２０のマスターＺ平均値「Ｚｂｖ」と等しくなるように、測定波形１０をＺ軸方向に平行移動する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】非球面形状を高精度に測定する際に、被測定物の着脱が正確な位置に作業性よく行える測定装置を提供する。
【解決手段】被測定物１０を保持する被測定物保持機構Ａと、測定光を照射して光干渉測定を行う干渉光学系２を有する干渉光学機構Ｂとは、それぞれ相対的に移動可能に設置されてなり、被測定物保持機構Ａに被測定物１０を先端に保持しエアスピンドルによる回転機構７０で回転駆動されるサンプルステージ６と一体に回転する回転体６４を設けるとともに、該回転体に形成された凹状の係合部６４ａに係合してその回転を規制する規制機構６５を設け、被測定物の着脱時にはサンプルステージの回転を規制する。 （もっと読む）

【課題】SiC基板及びエピタキシャル層に形成されたマイクロパイプ欠陥及び基底面内欠陥を高精度に検出でき、他の欠陥から区別できる検査装置を実現する。
【解決手段】本発明では、微分干渉光学系を含む共焦点走査装置を用いて、SiC基板表面又はエピタキシャル層表面の共焦点微分干渉画像を撮像する。共焦点微分干渉画像は、試料表面の数ｎｍ程度の凹凸変化を輝度分布として表すので、SiC基板表面又はエピタキシャル層表面に出現した結晶欠陥を、輝度分布に基づいて検出することができる。欠陥の種類に応じて、輝度分布が相違するので、欠陥画像の形状及び輝度分布の観点より欠陥を分類する。特に、本発明による分類方法を用いることにより、マイクロパイプ欠陥及び基底面内欠陥を他の欠陥から区別することが可能である。 （もっと読む）

【課題】超電導線材の欠陥を感度よく検査する
【解決手段】超電導線材の検査装置は、超電導線材（２０）の表面（２０ａ）の法線方向に光を照射する青色ＬＥＤ（１）と、超電導線材（２０）の表面（２０ａ）の法線方向と角度をなす方向に光を照射する赤色ＬＥＤ（２）と、超電導線材（２０）からの反射光（Ｂ１）を主として受光し、かつ超電導線材（２０）からの散乱光（Ｃ２）を主として受光するカラーラインセンサ（３）と、カラーラインセンサ（３）にて受光した光の光量を積算して出力するコンピュータ（５）とを備えている。 （もっと読む）

【課題】タイヤの外観形状の検査を、従来法と比較してより短時間で、かつ、簡素な処理方法により行うことができ、さらにはタイヤ表面の微小欠陥についても検出することが可能なタイヤの外観検査方法および外観検査装置を提供する。
【解決手段】タイヤ１０の表面に対し偏光Ｌ_１を照射して、タイヤ表面からの偏光の反射光Ｌ_２を偏光カメラ２により受光し、受光した反射光の光強度からタイヤ表面の凹凸を検出するタイヤの外観検査方法である。偏光カメラ２としては、少なくとも３以上の異なる方向の偏光子を備えるものを用いることが好ましい。また、偏光としては、直線偏光を好適に用いることができる。 （もっと読む）

【課題】チャックテーブルに保持された半導体ウエーハ等の被加工物の上面位置を計測する計測装置および計測装置を装備したレーザー加工機を提供する。
【解決手段】発光源からの光を第１の経路に導くとともに第１の経路を逆行する反射光を第２の経路に導く第１の光分岐手段と第１の経路に導かれた光を平行光にし、この平行光を第３の経路と第４の経路に分ける第２の光分岐手段と第３の経路に配設され第３の経路に導かれた光を被加工物に導く対物レンズと、第２の光分岐手段と対物レンズとの間に配設された集光レンズと、第４の経路に導かれた平行光を反射し、この反射光を逆行せしめる反射ミラーと、第２の経路に導かれた反射光を回折する回折格子と、回折光の所定の波長域における各波長の逆数の光強度を検出するイメージセンサーと、検出信号からの分光干渉波形と理論上の波形関数に基づくフーリエ変換理論による波形解析を実行する制御手段とを具備している。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイス製造方法に係り、例えばＣＤ−ＳＥＭとスキャトロメトリを併用し、処理工程等をより適切に制御できる技術を提供する。
【解決手段】本半導体装置製造方法では、半導体デバイスの製造の処理工程に関する寸法等をＣＤ−ＳＥＭ（第１の計測手段）とスキャトロメトリ（第２の計測手段）との両方で計測する（Ｓ２０２，Ｓ２０３等）。ウェハ内の複数の計測点に関し、第１及び第２の計測手段の計測値を用いて、誤計測を検出・補正する（Ｓ２１０等）。この際、例えば、ロット内の各ウェハの第２の計測手段の計測値の平均値を用いて処理する。また第１及び第２の計測手段のロットの各ウェハの計測値の平均値を用いて処理する。補正した計測値に基づき、制御対象の工程（Ｓ２０７）の処理条件の制御パラメータを計算（Ｓ２１３）し、変更する。 （もっと読む）

【課題】高精度な光学式エンコーダを提供する。
【解決手段】本発明のエンコーダは、移動可能な格子スケールと、前記格子スケールに照射した光束の反射光または透過光を光電変換して、互いに位相差が異なるＮ相（Ｎは６以上の整数）の周期信号を生成する複数の受光素子と、前記受光素子で生成された各相の前記周期信号に対してＭ組（Ｍは２以上の整数）の係数群を乗算し、該係数群を乗算して得られた値の総和からＭ相の正弦波状周期信号を生成する増幅器とを有する。 （もっと読む）

【課題】インコヒーレント光源から放射された光束の平行度を少ない測定回数で測定できる光束平行度測定装置を提供すること。
【解決手段】光束９に含まれる光線成分のそれぞれを光軸Ｋに対する入射角度θに応じた距離Ｌだけ前記光軸Ｋから離れた位置に結像するレンズ部２０と、前記光束９の結像位置Ｐを検出する二次元検出器２２と、を有し、前記光軸Ｋから前記結像位置Ｐまでの距離Ｌを前記入射角度θに変換し、前記光束９に含まれる光線成分の入射角度分布を出力する解析装置１２を備える光束平行度測定装置１を提供する。 （もっと読む）

【課題】表面に透明薄膜が形成された基板等の試料において、透明薄膜の上面の微小な異物、キズ等の欠陥を高感度且つ高速に検査することができる欠陥検査装置を提供する。
【解決手段】本発明の欠陥検査装置によると、照明光学系は、試料の表面の法線に対して所定の入射角を有する検査用照明光を試料表面に照射し、試料表面にスリット状のビームスポットを生成する。試料の表面に対して所定の傾斜角にて傾斜した光軸を有する斜方検出系と試料の表面の法線に沿った光軸を有する上方検出系によって、ビームスポットからの光を検出する。斜方検出系と上方検出系の出力によって、試料の表面の透明薄膜上の欠陥を検出する。検査用照明光の入射角は、試料の表面の透明薄膜下面にて反射した反射光が透明薄膜上面にて全反射するときの入射角より僅かに小さい角度である。 （もっと読む）