本発明に従う測定ヘッド（４）は、好ましくは回折レンズであるゾーンレンズ（２６）と半球レンズ（２３）又はＧＲＩＮレンズ（３３）の組み合わせを有する。これは、高い開口数を有する非常に細い測定ヘッド（４）になる小型化の可能なコンセプトを表し、従って、ベストな解像能力をもたらす。このような測定ヘッドは、測定ヘッドの測定すべき表面への指向に関する角度誤差又は測定ヘッドの光軸に対する面の斜めの位置決めに対して反応しない。
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【課題】容易に実施でき、高い精度で厚みを決定することができる透明試料の厚み測定の可能性を提供すること。
【解決手段】本発明は、透明試料（２）、特に、ガラス片、又は、ガラス板の厚みを測定する装置に関する。この装置は、試料（２）の前面（８）に第１入射角（α１）で当たる第１光線（Ｌ１）、特に第１レーザビームと、試料（２）の前面（８）に、入射角（α１）と異なる入射角（α２）で当たる第２光線（Ｌ２）、特に第２レーザビームと、前記第１及び前記第２入射光線（Ｌ１、Ｌ２）が試料によって反射される反射光線（Ｌ１´、Ｌ１´´、Ｌ２´、Ｌ２´´）を検知し、それら反射光線の位置を決定する少なくとも１つの検知器（１１、１２）とを備える。また、曲率補正を可能とするために、前記第１又は前記第２光線（Ｌ１、Ｌ２）に略平行な少なくとも１つの入射光線（Ｌ３）が、試料（２）の前面（８）に向かい、さらに、平行光線（Ｌ３）が試料（２）によって反射される光線（Ｌ３´）を検知し、その位置を決定するために、少なくとも１つの検知器（１１）が設けられる。本発明は、また、それに対応する方法に関する。 （もっと読む）

一実施形態による方法には、あるキャリブレーション基板上に設けられた複数のマーカ構造体の組から、光学的検出装置によりキャリブレーション測定データを得るステップが含まれる。各マーカ構造体の組は、プロセスパラメータの異なる既知の値を用いて生成された、少なくとも１つのキャリブレーションマーカ構造体を含む。この方法には、基板上に設けられ、プロセスパラメータの未知の値を用いて露光される少なくとも１つのマーカ構造体から光学的検出装置を用いて測定データを得るステップと、プロセスパラメータの既知の値およびキャリブレーション測定データに基づくモデルにおいて回帰係数を用いることにより得られた測定データからプロセスパラメータの未知の値を決定するステップとを含む。
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容器（３４）の傾斜度を検査する装置は、容器の下に位置決めされていて、容器を定位置に保持しているとき及び容器を軸線（Ａ）回りに回転させているときに光エネルギー（６０）を容器底（６２）に差し向ける光源（５０）を有する。容器（３４）の下方に位置決めされた光センサ（５４）が、容器底（６２）から反射した源（５０）からの光エネルギーを部分的に受け取る。情報プロセッサ（５６）が、反射光エネルギーと容器の回転の組合せ関数として軸線（Ａ）に垂直な平面からの要素底（６２）のずれを求めるために光センサ（５４）に結合されている。容器（３４）は好ましくは、定位置に保持され、駆動ローラ（２４）によって軸線回りに回転し、この駆動ローラは、容器（３４）を軸方向に間隔を置いたバックアップローラ（２６，２８）に押し付けて容器（３４）の幾何学的形状及びバックアップローラ（２６，２８）の間隔の関数として平均回転軸線を定める。
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本発明は、目の網膜の画像データの取得に特に有用な光学測定システム及び光学測定方法を提供する。データの取得はＯＣＴ測定によって行われ、これらの測定の品質は、能動光学素子をビーム経路内に配置することによって改善される。 （もっと読む）

基板上に堆積された物質の画像を分析する方法であって、画像は複数の画素を含み、この方法は、画像内で興味の対象となる領域を規定するステップと、第１および第２の垂直な軸に、興味の対象となる領域を関連付けるステップとを含み、画像内の１組の画素は、第１の軸に沿って位置し、この方法はさらに、興味の対象となる領域内の画素を、第１の軸にアライメントされかつ第２の軸に沿って突出する一次元アレイに変換するステップと、一次元アレイに少なくとも１つのしきい値を適用するステップとを含み、しきい値は、予め定められた限度に少なくとも部分的に基づく。
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被検査体の表面に形成されたパターンに発生する複数種類のムラ欠陥
を高精度に検出できること。
単位パターン５３が規則的に配列されてなる繰り返しパターン５１を表面に備えたフォトマスク５０に光を照射する光源１２と、上記フォトマスクからの散乱光を受光して受光データに変換する受光部１３とを有し、この受光データを観察して上記繰り返しパターンに発生したムラ欠陥を検出するムラ欠陥検査装置１０において、複数の波長帯の光から所望の波長帯の光を一または複数選択して抽出する波長フィルタ１４を有し、この選択して抽出された波長帯の光を用いて上記繰り返しパターンのムラ欠陥を検出することを特徴とするものである。 （もっと読む）

物体の空間的特性を決定するための方法には、２つ以上の界面を含む測定物体からの走査低コヒーレンス干渉信号を得ることが含まれる。走査低コヒーレンス干渉信号には、２つ以上の重なり合う低コヒーレンス干渉信号（それぞれ個々の界面に起因する）が含まれる。低コヒーレンス干渉信号に基づいて、少なくとも１つの界面の空間的特性が決定される。場合によって、決定は、低コヒーレンス干渉信号のサブセットに基づき、信号の全体に基づくのではない。あるいはまたは加えて、決定は、低コヒーレンス干渉信号を得るために用いられる干渉計の機器応答を示す場合があるテンプレートに基づくことができる。
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本発明はシート表面分析装置（１０）に関する。分析装置はシート表面に陰影を投射させる照明手段（３２）と、陰影の画像を撮影する撮影手段（３６）と、撮影された画像を分析し、シート表面を分析する分析手段（４０）と、シートを湾曲させる湾曲手段（２２）とを含む。照明手段と湾曲手段は、シート表面の湾曲部に陰影が投射されるようにアレンジされている。撮影手段はその陰影を撮影するようにアレンジされている。
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放射散乱／反射要素の位置を判定するための方法及びシステムであって、放射透過性要素面で放射入射する面に放射エミッタが設けられる。この入射放射は散乱／反射要素により散乱／拡散／反射され、透過性要素により、この要素位置を判定できる検出器に向けてガイドされる。
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【課題】 波長による屈折率の変化、つまり波長の関数で屈折率を反映したスペクトルを高速フーリエ変換を通じて得られた干渉空間での反射光のピーク値の位置を通じて、速やかな分析速度および高精密度を有した光ディスクの厚さ測定方法を提供すること。
【解決手段】 光の波長の長さによる反射光の強度を波長別スペクトルデータとして検出する段階と、前記検出された波長別スペクトルデータを波長の関数として屈折率を反映したスペクトル値に変換処理する段階と、前記変換処理された値を高速フーリエ変換を通じて光ディスクの厚さを表す間接空間の長さに変換処理して反射光の強度がピーク値を有する位置をそれぞれスペーサーレイヤーおよびカバーレイヤーの厚さとして検出する段階とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】好適に円形エッジを有する物体の品質を、物体のエッジの確実で再現可能な検査を非常に高精度で可能なように、光学的に試験するための冒頭に記載したタイプの方法と装置を改良しさらに展開すること。
【解決手段】好適に円形エッジを有する物体の品質を、該円形エッジに光を当てる光学的に試験するための方法において、反射、屈折及び／又は回折により該物体から放射する光が測定ユニット（１）により検出され、該物体の表面及び／又は内部の欠陥が検出画像信号によって判定されることを特徴とする、物体の品質を光学的に試験する光学的試験方法。 （もっと読む）

【課題】光透過性を有する被検出対象物の厚さを反射光に基づいて検出する装置において、反射光の照射領域の中心位置が確実に検出できるように構成された厚さ検出装置を提供する。
【解決手段】光透過性を有する被検出対象物の厚さをその表面及び裏面からの反射光に基づいて検出するにあたり、表面反射光及び裏面反射光のＣＣＤへの照射領域の中心位置を各反射光ごとに検出し、得られた中心位置に基づいて被検出対象物の厚さを検出するようになっている。そして、中心位置の検出においては、まずその検出対象となる反射光の照射領域において、受光レベルが基準レベルを超過する範囲（裏面側：Ｓ１〜Ｓ２、表面側：Ｓ３〜Ｓ４）を検出し、この超過する範囲における中点位置を算出する。そして、その算出された中点位置に基づいて、その反射光の照射領域の中心位置を検出することとなる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、クロストークの低減された高精度な距離情報を取得可能にする距離情報入力装置を提供する。
【解決手段】本発明の一態様によると、輝度変調光源によって輝度変調された光が照射された前記対象物からの反射光を受光し、光電変換を行うと共に、前記輝度変調光源と同期して感度変調可能な受光素子を備えた距離情報入力装置において、前記受光素子は、光電変換部と、二つの電荷蓄積部と、二つの電荷振り分けゲートと、二つの電荷検出部と、二つの電荷転送部とを有し、前記受光素子のリセット動作と前記電荷蓄積部に蓄積された電荷を読み出す読み出し動作との間に、前記電荷振り分けゲートをオフして前記電荷蓄積部のポテンシャルを上げることによって飽和電荷量以上の余剰電子を排出する動作を少なくとも一回行なうことを特徴とする距離情報入力装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】 暗くなる箇所が発生することなく、どの箇所においても均等に照らすことができる表面検査用照明装置を提供する点にある。
【解決手段】 多数の発光体が線状に配置された線状光源１４の光照射側に集光手段１６を配置してなる照明部３の複数のそれぞれを、検査対象物のほぼ同一箇所に対して照射し、該照明部３の各発光体ＶＬ１が検査対象物を照射するそれぞれの位置と該別の照明部３の各発光体ＶＲ１が検査対象物を照射するそれぞれの位置とが照射する線状の発光体群の長手方向において異なるように複数の照明部３の各発光体ＶＬ１、ＶＲ１を配置したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 欠陥の存在だけでなく試料表面の凹凸形状をに検出できる光分解能の光学式走査装置を実現する。
【解決手段】 光源１から試料４に向かう光ビームと試料から光検出器６に向かう反射ビームとを分離するビームスプリッタ２と、試料と光スポットとを相対的に移動させる手段とを具え、試料表面を光スポットにより走査し、試料表面からの反射光により試料の表面領域の情報を検出する光学式走査装置において、ビームスプリッタと光検出器との間の光路中に遮光板を配置し、試料表面における光スポットの走査方向と対応する方向の片側半分の光路を遮光する。遮光板を光路中に配置することにより、試料表面に欠陥の要因となる微小な傾斜面存在する場合、反射の法則により光スポットからの反射光は光軸から変位するので、遮光板により遮光される光量が変化する。この結果、光検出器からの出力信号により凸状欠陥及び凹状欠陥を判別することができる。 （もっと読む）