【課題】
固体と液体との界面の位置あるいは表面形状を正確に測定することができる測定方法及び測定装置を提供すること。
【解決手段】
本発明の一態様にかかる測定装置は、光源１１からの光を分岐して第１の可干渉光６１と第２の可干渉光６２とを生成するＰＢＳ３２と、第１の可干渉光６１及び第２の可干渉光６２を容器の固体が取り付けられた面から容器の内側に入射させるレンズ４２であって、第１の可干渉光６１を参照面に集光して照射し、第２の可干渉光６２を界面に集光して照射するレンズ４２と、ＰＢＳ３２によって合成された光を共焦点光学系を介して検出し、干渉光の強度に応じた検出信号を出力する検出器７２と、検出信号に基づいて第１の可干渉光６１と第２の可干渉光６２との位相差を求め、位相差に基づいて界面の位置を測定する処理装置５９とを備えるものである。 （もっと読む）

【課題】
光干渉を用いた変位計測装置において、プローブ光路と参照光路とが空間的に分離しているため、空気の揺らぎ等による温度分布や屈折率分布、あるいは機械振動が生じた場合、両光路間で光路差が変動し、測定誤差となってしまう。
【解決手段】
プローブ光の光軸と参照光の光軸を外乱の影響を受けない距離まで近接させて、プローブ光を対象物に、参照光を参照面に各々照射し、その反射光同士を干渉させ、生じた干渉光から対象物の変位量を求める （もっと読む）

【課題】
基板上の異物を検査する方法において、特に基板からの散乱光ノイズを低減して微小な異物を検出する。
【解決手段】
照明光学系の入射角度を小さくし、検出分解能の高い検出光学系および検出画素の小さい検出器により検出領域を充分に小さくするようにした。
照明光学系の入射角度を大きくすることにより、光が回折する際の位相差を小さくできるので、基板からの散乱光を低減できる。また、これにより、鏡面ウエハ上に付着した微粒子（微小な異物）の検出が可能になる。 （もっと読む）

【課題】装置構成の低コスト化と省エネルギー化を図り、複数の撮像条件の撮像を１度の副走査で行えると共に、複数の被観察物に対して同時に表面検査が行えるようにする。
【解決手段】回転する感光体ドラム１２に対して光源１１から間欠的に光を照射し、その正反射光部である輝線１２ａからの反射光を第１の撮像素子１４が撮像して得られる情報を照射タイミング調整部１６に送り、光源１１の照射タイミングを調整する。その際、観察条件変更部１５は、感光体ドラム１２の回転振れや表面形状変換による反射方向の輝線１２ａの変動に対して、一定の検出感度を実現するために、定常的に副走査方向に光源１１や撮像素子を周期的に移動させる。 （もっと読む）

【課題】
結像光学系の検出視野内にアライメントマークが複数存在するときにおいても、支障なくマーク位置を検出できる位置検出方法を提供する。
【解決手段】
基板Ｗ上のアライメントマークＡＭの位置を検出するにあたり、ラインアンドスペースパターンで形成され本来ライン部Ｌ，Ｌ，…の整列方向の位置関係からこの整列方向の座標をマーク位置として検出するために用いるアライメントマークであって、ライン部整列方向に複数のアライメントマークＡＭ，ＡＭ，…が所定間隔を置いて並んでおり、これを検出光学系３５の検出視野内３５ｆに収めたときに、いずれか１つのアライメントマークＡＭのライン部Ｌの両端ＹＴ，ＹＢの位置関係からライン部Ｌの整列方向に直行する方向の座標を求めてマークの位置検出を行う。 （もっと読む）

【課題】
複数の基板の位置測定を効率的に行う。
【解決手段】
ステージを水平移動して結像光学系の検出視野における測定有効範囲内に測定マークを収めて行う位置測定方法において、それぞれ同位置に測定マークを形成した複数の基板を順次載せ換えて所定の測定を行うようになっており、予め記憶された所定位置にステージが位置するようにステージ駆動機構を駆動させ（ステップＳ２）、ステージ移動後に測定マークから測定有効範囲までの距離を算出し、この距離を記憶するとともに所定位置にこの距離を加算して新たな所定位置を導出し（ステップＳ５）、測定マークが測定有効範囲を外れたときにステージを上記算出された距離だけ移動させて測定マークを測定有効範囲内に収めて所定の測定を行い、次の基板を載せたステージが上記導出された新たな所定位置に位置するようにステージ駆動機構を駆動させることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】 赤外線検出機構をカメラに内蔵する上で、適切な配置箇所を提案する。
【解決手段】 本発明のカメラは、下記の撮像部、焦点検出部、赤外線検出部、および制御部を備える。撮像部は、撮影光学系を介して被写体を撮像する。焦点検出部は、被写体について焦点検出を行う。赤外線検出部は、焦点検出部が取り込む焦点検出用の光束から赤外線を検出し、赤外線の検出結果に基づいて人物の画面内位置を判定する。制御部は、人物の画面内位置に重点を置いて、焦点制御および／または露出制御を実施する。 （もっと読む）

【課題】 撮像部が単板式カラーカメラでありながら高精度な測定が可能な画像測定装置を提供する。
【解決手段】 単板式カラーカメラ２７のＣＣＤ４１から出力された四つの画像データ（Ｒ），（Ｇ１），（Ｇ２），（Ｂ）は、パーソナルコンピュータ５に送られる。演算処理部８９において、画像データ（Ｒ），（Ｇ１），（Ｇ２），（Ｂ）のそれぞれに基づいて、エッジの位置及びコントラスト値を演算し、コントラスト値を重み付けにしてエッジの位置の平均値を演算して、エッジの位置データとして出力する。 （もっと読む）

【課題】小型、軽量であり、信頼性が高い赤外線誘導装置及び飛翔体の誘導方法の提供。
【解決手段】一方の面が他方の面に対して所定の角度で傾斜するウェッジプリズム３と集光光学系４と赤外線を光電変換する検知器５とウェッジプリズム３を検知器５の光軸に略直交する面内で回転させる回転機構６とウェッジプリズム３の回転角度を検出する角度検出部８と検知器５からの信号に基づいて赤外線画像を生成し、該赤外線画像を解析して目標物を探索し、少なくとも赤外線画像における目標物の位置情報と角度検出部で検出した角度情報とに基づいて飛翔体を目標物に誘導するための制御信号を生成する演算処理部７と、回転機構６にウェッジプリズム３を回転させるための電力を供給する回転機構制御部１０とを少なくとも備え、ウェッジプリズム３を回転機構６で回転させることによって視野を拡大する。 （もっと読む）

【課題】 透光性を有する複数の層が積層されて構成される光学部品の欠陥を、光学部品と検出用の光の入射位置とを高精度に位置決めすることなく、検出することができる光学部品の欠陥検出方法および欠陥検出装置を提供する。
【解決手段】 判定部１３は、入射領域１９の積層方向の寸法Ｌ１が、光学部品１４の導光層２２の層厚Ｌ２よりも大きくなるように入射させる。検出用の光１８の入射位置の位置決め精度が低くても、導光層２２に入射させることができる。また判定部１３は、光学部品１４の積層方向の寸法ｌ３よりも小さくなるように検出用の光１８を入射させる。光学部品１４の積層方向Ｚ両端面の散乱要因、たとえば塵、または傷などによって検出用の光１８が散乱することを防ぐことができる。したがって光学部品１４から出射される光を検出することによって、光学部品１４の欠陥２５を高精度に検出することができる。 （もっと読む）

【課題】光再帰性反射体の汚れが原因となる動作不良を未然に防止できる光学式位置検出装置及びその動作プログラムを記録した記録媒体を提供する。
【解決手段】受光信号レベルが汚れ検出レベルより低くなった場合に、光再帰性反射体４に汚れがあることを検出してその位置を算出し、「光再帰性反射体の清掃」というメッセージをその位置情報と共に表示画面２１に表示してユーザに知らせる。光再帰性反射体４の汚れがユーザに通知され、光再帰性反射体４が迅速に清掃されて、その汚れが原因となる動作不良は未然に防止される。 （もっと読む）

【課題】 照明光の分光特性が変化しても、被検物体の表面の欠陥を正確に検出できる検査装置を提供する。
【解決手段】 光源１１からの照明光を被検物体１０Ａに照射する照明手段１２〜１８と、照明光が照射された被検物体の像を形成する結像手段１７〜１９と、被検物体の像を複数の色成分に分解して各色成分ごとに撮像する撮像手段２０と、照明光を複数の色成分に分解して各色成分ごとに検知する検知手段２１〜２４とを備える。 （もっと読む）

【課題】 計測精度の向上を図ることが可能な位置計測方法を提供する。
【解決手段】 位置計測装置は、物体上に形成された周期パターンからなるマークを結像光学系を介して検出し、その検出結果に基づいてマークの位置情報を計測する。マークを含む被照射領域から得られるマーク光は、０次回折光以外の偶数次回折光が除去されており、マーク光の画像信号から、マーク光に含まれる奇数次回折光に対応する周波数成分を抽出し、その抽出された周波数成分を用いてマークの位置情報を計測する。 （もっと読む）

【課題】 立体物のイメージスキャナにおいて大きい立体物の全体像を良好な画質で取得する。
【解決手段】 スキャニングユニット２４は、リニアイメージセンサとテレセントリック結像系を内蔵し、前方の鉛直な線状のターゲット平面領域４８にピントが合っている。鉛直で線状の２本の光源３４A、３４Bがスキャニングユニット２４の左右両側に配置され、ターゲット平面領域４８を照明光する。光源３４A、３４Bの全箇所からの照明光の鉛直面に沿った出射角度が規制され、それにより、ターゲット平面領域４８の全箇所にて、照明光の鉛直面に沿った入射角と光量が一定にされる。スキャニングユニット２４と光源３４A、３４Bが一緒にX、Y、Z方向に移動して、被写体の空間１５を多数のレイヤとバンドに分割してスキャンする。スキャンで得た画像データからピントの合った画素が抽出され合焦点画像が合成される。 （もっと読む）

【課題】 簡便かつ安価であり、温度変化に対して測定精度を維持する距離測定装置を提供する。
【解決手段】色分散合焦素子３０は、共鳴型外部共振器の中の半導体レーザー発振媒体１０とターゲット面４０との間に配置される。共鳴型外部共振器の一端はターゲット面４０であり、もう一方の端は半導体発振媒体の遠位面１２である。多重波長の要素を有してもよい光の合焦に色分散合焦素子３０を使用し、光の単独波長要素をターゲット面４０に正確に合焦する。ターゲット面４０に合焦された光の波長は、レーザー発振媒体１０の導波路へのフィードバック信号として、もっとも効果的に結合又は反射される。誘導放出プロセスを通じて、レーザーの出力の波長が色分散合焦素子３０とターゲット面４０の間の絶対距離に対応し、それによってターゲット面４０と色分散合焦素子３０の間の絶対距離の測定値を提供する。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタ内のパターン内部の分光情報を高速で得ることができ、制御性が向上し、多数点測定に対するシステム構築が容易になる膜厚検査装置を提供する。
【解決手段】液晶カラーフィルタ基板Ｂのカラーパターン内部のレジスト等の膜厚を測定する膜厚検査装置である。光源１と、光源１からの測定光を基板Ｂ上に微小スポットＳとして結像するレンズ群２と、レンズ群２を基板Ｂに対して略直交する方向に移動させて微小スポットＳを合焦させる駆動手段５５と、レンズ群２にて結像される微小スポットＳを基板Ｂ上に移動させる移動手段２５とを備える。カラーパターンＰに対する微小スポットＳの相対位置を検知して、これに基づいて移動手段２５にて微小スポットＳをカラーパターンＰ上に結像させる。カラーパターンＰ上に結像した微小スポットＳからの反射光の分光測定を分光手段５にて行う。 （もっと読む）

【課題】 粗面における干渉縞のコントラスト、測定効率を改善するものである。
【解決手段】 不透明な試料の表裏面の平行度を同時に平面度を測定するために、両面に干渉計を設置し、プリズムを用いて試料への入射角を大きくした。平行度及び平面度の計算方法は、試料をプリズムの底面に垂直な方向に一定の距離で動かし、干渉縞の変化を画像処理し、表裏それぞれの面について位相シフト法により計算する。本発明では、様々なサイズや表面粗さを持つ不透明な試料に対応可能ということと、表裏面同時計測による測定時間の短縮が可能である。斜入射にすることで粗面における干渉縞のコントラストを良くし、かつ、斜入射干渉計を表裏それぞれに設置することで、不透明な粗面試料の平行度及び平面度測定を同時に秒単位で行うことが可能である。 （もっと読む）

光学素子（５）の製造方法は、検査された光学素子（５）の副開口部のみを照明する測定光のビーム（１３）を発生させる干渉計光学系（１）を用いて光学素子（５）を検査する工程を含む。干渉計光学系（１）は、ホログラムを備えている。副開口部測定の結果が組み合わされ、光学素子（５）の表面全体に関する測定結果が得られる。さらに、干渉計光学系（１）を較正する方法は、干渉計光学系（１）によって発生した測定光のビーム（１３）の全断面の副開口部のみをカバーするホログラムを有する較正光学系を用いた干渉測定を行う工程と、干渉計光学系（１）の全断面を示す結果を得るために、副開口部測定値を組み合わせる工程とを含む。 （もっと読む）

偏光ダブルパス干渉計は、偏光ビームスプリッタ（１６）と、基準ビーム（１４）の経路内の基準ミラー（２０）と、測定ビーム（１２）の経路内の可動測定ミラー（２６）と、を含む。基準および測定ビームは、異なる偏光を有する。ガラスウエッジつまりプリズム（３２）のような角度ビーム偏向装置は、一つの偏光の光の他の偏光の光の経路内への漏れによって生じるエラービーム（３０）を除去あるいは分離するように作用する。
（もっと読む）

試験物体に対する走査干渉データが得られる走査干渉法および関連するシステムについて説明する。データには通常、複数の走査位置のそれぞれに対して試験物体の異なる空間箇所のそれぞれに対する強度値が含まれる。各空間箇所に対する強度値によって通常、空間箇所に対する干渉信号が規定される。共通の走査位置に対する強度値によって通常、その走査位置に対するデータ・セットが規定される。各走査位置に対する走査値を得る。一般に、種々の走査値間の走査値増分は非一様である（たとえば、異なっている）。走査干渉データおよび走査値に基づいて、試験物体についての情報を決定する。通常、この決定には、干渉信号の少なくとも一部を、走査値に関して周波数ドメインに変換することが含まれる。
（もっと読む）