【課題】物体を結像するための立体検査系の提供。
【解決手段】光軸５および結像すべき物体８または中間像を配置するための物体平面７を持つ対物レンズ装置３であって、物体平面７から立体角領域に発せられる物体側ビーム束１１を受け、それを像側ビーム束１３に変換する対物レンズ装置と、像側ビーム束１３から第１組および第２組の部分ビーム束を選択するための選択装置と、前記第１組および第２組の部分ビーム束によって提供される像の表示を生成するための像伝達装置と、選択された第１組および第２組の部分ビーム束を像伝達装置に伝達するための共通の結像光学系９３とを含む。 （もっと読む）

【課題】測定精度を向上させた形状測定方法を提供する。
【解決手段】本発明では、パターン投影系により被検物に対して投影パターンが無い状態での光源からの光を照射し、第１および第２の撮像光学系により第１および第２の測定画像を撮像取得する第１のステップ（ステップＳ１０１〜Ｓ１０３）と、パターン投影系により被検物に対して所定の投影パターンを投影し、第１および第２の撮像光学系により第３および第４の測定画像を撮像取得する第２のステップ（ステップＳ１０４〜Ｓ１０６）と、第１〜第３の測定画像における輝度を用いて第４の測定画像における輝度を補正した補正画像を作成する第３のステップ（ステップＳ１０７〜Ｓ１０９）と、第３のステップで作成した補正画像に基づいて被検物の三次元形状を測定する第４のステップ（ステップＳ１１０）とを有している。 （もっと読む）

【課題】高い測定精度と広い計測範囲を両立させることができる三次元形状測定装置を提供する。
【解決手段】照明光学系２１によって物体１１にスリットパターンを投影し、照明光学系２１の光軸とは異なる光軸を有する撮像光学系２２によって物体１１上のスリットパターンを撮像して、スリットパターンの画像情報に基づき物体１１の二次元高さデータを取得し、さらに物体１１と光学系とを相対的に移動させることにより、物体１１の三次元高さデータを測定する三次元形状測定装置であって、撮像光学系２２において、光路分岐手段９により光路を複数の光路に分岐し、各光路においては、前記照明光学系光軸上の互いに異なる点Ａ、Ｂ、Ｃに共役な位置に、撮像素子１０ａ、１０ｂ、１０ｃの中心ａ、ｂ、ｃを配置したことを特徴とする三次元形状測定装置。 （もっと読む）

【課題】高精度な波面収差測定を行うこと
【解決手段】波面収差測定機は、２次元的に配列された複数の第１ピンホールを有し光源からの放射光に基づいて第１の理想的球面波を発生させる第１のピンホール部材と；被検光学系による複数の第１ピンホールの複数の結像位置のそれぞれに対応した位置に配列された複数の第２ピンホールを有する第２のピンホール部材と；前記第１及び第２のピンホール部材の間の光路中に配置されて０次回折光を第２のピンホール部材へ到達させるように配置された回折格子と；回折格子による回折光のうち所定次数の回折光を選択的に通過させる回折光選択手段と；０次回折光が第２のピンホール部材を経由した際に発生する第２の理想的球面波と、回折光選択手段を通過した所定次数の回折光との干渉により得られた干渉縞から被検光学系の波面収差を算出する手段と；を有する。 （もっと読む）

【課題】本発明では、従来の方法では焦点深度程度の範囲でしか利用できなかった微分干渉像からの位相像再生法をより広い範囲に拡張する。
【解決手段】本発明の上記課題は、リタデーション変化装置、撮像装置、演算装置、焦点駆動装置を備えた微分干渉顕微鏡を使って、前記焦点駆動装置により焦点位置をある範囲内で一定の間隔で走査し、それぞれの前記焦点位置でリタデーション量を反転させた２枚の画像を撮像し、前記２枚の画像から差演算を行うことによって差画像を形成し、前記差画像を光学的応答関数によってデコンボリューションすることによって前記焦点位置での位相分布画像を形成し、前記差画像から絶対値演算を行うことによって絶対値画像を形成し、すべて焦点位置での前記絶対値画像の各画素を比較することによって最大値を与える画素によってマスク画像を形成し、前記位相分布画像から前記マスク画像を使ってその焦点位置での位相分布情報を抽出することによって達成できる。 （もっと読む）

本発明は、種々の入射角で物体の検査領域を照明する一連の光ビームを送出可能な照明システム（６）と、物体（２）の回転中に検査領域の像を生成するレンズを装備しているカメラ（８）と、像中の反射性欠陥の有無を検出するためにカメラによって撮影された像を分析し処理するユニットとを備える光学検査ステーション（１）に関する。本発明によれば、光学検査ステーションは、異なる視角で撮影された検査領域の一連の画像を、各像中に形成するために検査領域とレンズとの間に配置され、検査領域によって反射された光線を空中で偏向させる一連の光学要素（１１）を含む。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で、多様な走査パターンの測定用光によって測定対象を走査して測定できるようにすること。
【解決手段】対向配設された円柱型ウエッジプリズム６、７は、光軸３０に沿って設けられた貫通穴１１、１４を有し、光源２からの測定用光３１を貫通穴１１、１４を通して基準測定用光３２として測定対象２０側に出力すると共に貫通穴１１、１４以外の部分を通して走査測定用光３３として測定対象２０側に出力する。円柱型ウエッジプリズム６、７の少なくとも一方を、光軸３０を中心に相対的に回転したり、光軸３０に沿って移動させて相対距離を変えることによって、測定対象２０を多様な走査パターンの走査測定用光３３によって走査し、光検出素子１８によって検出した基準測定用光３４と走査測定用光３５に基づいて測定対象２０の形状等を算出する。 （もっと読む）

【課題】被検査物の表面の欠陥を精度よく検査することが可能な欠陥検査装置および欠陥検査方法を提供する。
【解決手段】照射部１は、ワークＷの表面に対してＡ色の照射光Ｌ１，ＬＡ１とＢ色の照射光ＬＢ１と、Ｃ色の照射光ＬＣ１とを照射する。撮像装置３はワークＷからの反射光を分光して、Ａ色画像、Ｂ色画像、およびＣ色画像を同時に生成する。Ａ色画像はＢ色画像（あるいはＣ色画像）に比べて、ワークＷの欠陥に対応する部分と、その周囲との明るさ（あるいは色）の差が小さい。また、１度の撮影でＡ色画像、Ｂ色画像、およびＣ色画像が同時に生成されるので２つの画像の間に位置ずれが生じるのを防ぐことができる。よって２つの画像を比較すればワークＷの欠陥のみを２つの画像の相違点として抽出することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】ｐおよびｓ偏光ビーム両方の測定にかかる時間を短縮する。
【解決手段】基板Ｗの特性を求めるために、基板Ｗから回折した後、２本の直交的に偏光したビームの同時測定を実行する。直交する方向に偏光された放射を有する直線偏光光源Ｐ、Ｓは、一方が他方に対して９０°回転した２つの非偏光ビームスプリッタを介して渡される。次に、組み合わせたビームは、基板Ｗで回折してから、非偏光ビームスプリッタを通して戻され、移相器およびウォラストンプリズム５０を通過してから、ＣＣＤカメラＣＣＤで測定される。この方法で、２つの偏光ビームの様々な位相段階で、位相および強度をこれによって測定することができ、ビームの偏光状態を求めることができる。移相器をゼロに変更する（つまり位相シフトがない）と、基板の回折格子は、そのパラメータが、同じ検出器システムでＴＥおよびＴＭ偏光で同時に測定される。 （もっと読む）

【課題】 計測誤差を迅速かつ正確に把握することができる面位置検出装置を提供する。
【解決手段】 光を被検面Ｗへ導く送光光学系ＳＬと、前記光を受光面へ導く受光光学系ＲＬと、前記受光面に配置された検出手段３８と、前記被検面Ｗへ導かれる前記光を測定光と参照光とに視野分割する分割手段４と、前記被検面Ｗを介して前記受光光学系ＲＬへ向かう前記測定光と、前記被検面Ｗを介することなく前記受光光学系ＲＬに向かう前記参照光を視野合成する合成手段５とを備え、前記検出手段３８は、前記受光面において、前記参照光と前記測定光を独立に検出する。 （もっと読む）

【課題】被検査物体表面等に存在する異物や欠陥により発生する散乱光の強度が照明方向等に依存する場合であっても異物や欠陥の粒径の算出精度を高く維持した上で測定系のダイナミックレンジを拡大可能な表面検査方法を実現する。
【解決手段】等しい波長と等しい仰角と等しい方位角と等しい偏光特性を有し、強度が１００：１だけ異なる２つの照明ビーム３、４によって、被検査物体１００表面を照明する。照明光３、４による散乱・回折・反射光の間の強度比は、被検査物体１００表面や表面近傍に存在する異物や欠陥に由来して発生する散乱光の強度が照明方向または検出方向に依存する異方性を有する場合であっても、それらに依存することなく常に１００：１の一定値であり、異物や欠陥の粒径の算出精度を前記異物や欠陥の異方性や粒径に関らず常に高く維持した上で、測定系のダイナミックレンジを拡大できる。 （もっと読む）

各部分に対して所定のレンズ後焦点領域が照明され、照射光と物体（ＯＢ）との間の相互作用によって試料光が発生されるように、異なる波長を有する照射光を該物体（ＯＢ）の種々の表面部分に向ける照明モジュールと、検出モジュールであって、該検出モジュールがスキャナ（５）を用いて試料光を検出光路の中に向け、かつレンズ後焦点領域の各被検出後焦点に対して該検出光路の中へ向けられた試料光のそれぞれ１つの別の波長を平面内で共焦点に結像し、共焦点に結像された試料光の強度を波長に依存して検出し、かつそこから物体（ＯＢ）の対応する表面部分の位置を導出し、スキャナ（５）と該平面との間に配置され、かつ試料光が通り抜ける調整可能な色波長誤差を含むカラーモジュール（９）を有し、その結果、該色波長誤差の変化によって被検出後焦点が調節可能であることによって、時間的に相前後して各部分の試料光を検出する検出モジュールとを備える、該物体（ＯＢ）の表面輪郭を測定するための顕微鏡が提供される。
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【課題】測定精度が向上しかつ測定面積が広い光学干渉計を提供する。
【解決手段】光学干渉計１００は、照明光学系１１０と、物体光と参照光とを無干渉状態で合波して無干渉光とする無干渉光束生成部１２０と、無干渉光束を干渉させて干渉縞を生成する干渉縞生成手段１３０と、干渉縞を撮像するＣＣＤカメラ１４０と、を備える。物体光と参照光とは互いの偏光軸が直交する偏光であり、物体光と参照光とは無干渉光束として合波された状態で同一経路を通る。無干渉光束が撮像手段に入射する直前の位置には、干渉縞生成手段１３０として、ウォラストンプリズム１３１と偏光板１３２とが配置されている。ウォラストンプリズム１３１は、無干渉光束の物体光と参照光との進行方向を異ならせて物体光と参照光とがＣＣＤカメラ１４０に入射する際の入射角に差をつける。 （もっと読む）

【課題】試料測定領域の各点で良好にフォーカスの合ったマッピング測定を行うことのできる赤外顕微鏡を提供すること。
【解決手段】赤外顕微鏡１０は、測定領域からの光を集光する顕微手段１８と、測定領域の画像を取得する可視画像検出手段２４と、試料を載置するステージ２６と、顕微手段１８とステージ２６との距離を変更する駆動手段２８と、駆動手段２８を制御して顕微手段２８とステージ２６との距離を変更し、異なる複数の距離で測定領域の可視画像を取得する合焦データ取得手段３４と、複数の距離で取得した可視画像の情報から、各測定点における合焦距離を演算する合焦距離演算手段３８と、を備える。そして、赤外顕微鏡１０は各測定点の合焦距離に基いてマッピング測定を行う。 （もっと読む）

【課題】本発明は、歪み及び／又は温度を高精度かつ高空間分解能で測定し得る分布型光ファイバセンサを提供する。
【解決手段】本発明では、内側に向かうほど光強度が大きくなるように光強度が階段状になった光パルスを周波数を変えながら射出する階段状光パルス光源１１と、光パルスが入射される検出用光ファイバ２０と、光パルスに起因して生じる自然ブリルアン散乱光を検出用光ファイバ２０から受光して自然ブリルアン散乱光に基づき検出用光ファイバ２０の長尺方向の歪み及び／又は温度を測定するブリルアン時間領域検出部１９とを備える分布型光ファイバセンサ１において、ブリルアン時間領域検出部１９は、自然ブリルアン散乱光のスペクトルにおける半値半幅より狭い透過周波数帯域を持つ狭帯域光バンドパスフィルタ２０４を介して自然ブリルアン散乱光を受光して歪み及び／又は温度を計測する。 （もっと読む）

被写体（２８）の三次元マッピング装置（２０）は、被写体（２８）上に第１次スペックルパターンを投影するよう配されたコヒーレント光源（３２）と拡散板（３３）とを有する照明アセンブリ（３０）を有する。単一の画像獲得アセンブリ（３８）は、照明アセンブリに対して相対的に、単一かつ固定の位置および角度から、被写体上の第１次スペックルパターン画像を獲得するように配されている。プロセッサ（２４）は、被写体の三次元マップを導き出すために、単一かつ固定角度で獲得された第１次スペックルパターンの画像を処理するために接続されている。 （もっと読む）

【課題】測定点のアライメント作業を容易に行える安価な測定顕微鏡装置を提供する。
【解決手段】測定顕微鏡装置は、被検体２１を水平移動させるＸＹステージ２２と、被検体２１を観察する観察光学系１０と、観察光学系１０の対物レンズ１１を上下移動させるＺステージ１５と、対物レンズ１１を介して被検体２１に測定光を照射して合焦を検出する焦点検出系３０と、焦点検出系３０と対物レンズ１１を光学的に結合するハーフミラー１７と、焦点検出系３０による検出結果に基づいてＺステージ１５を制御する信号処理部４１と、Ｚステージ１５による対物レンズ１１の移動量を測定する測定部４２とを有している。さらに測定顕微鏡装置は、焦点検出系３０とハーフミラー１７の間の光路上に配置された２つのウェッジプリズム５１ａと５１ｂと、ウェッジプリズム５１ａと５１ｂをそれぞれ回転可能に保持している回転機構５２ａと５２ｂとを有している。 （もっと読む）

【課題】被測定物（例えば、光ファイバ）の歪みを精度良く測定する。
【解決手段】入射光を与えることにより光ファイバにおいて発生したブリルアン散乱光のスペクトルを記録するブリルアン散乱光スペクトル記録部３２ａと、記録されたスペクトルが極大値をとる概算ピーク周波数を求めるピーク周波数概算部３２ｂと、概算ピーク周波数におけるスペクトルの大小関係に基づき定められた周波数の範囲において、スペクトルが極大値をとるピーク周波数を導出するピーク周波数導出部３２ｆと、導出されたピーク周波数に基づき、光ファイバの歪みを導出する歪み導出部３２ｇとを備えた歪み測定装置。 （もっと読む）

【課題】本発明は、被測定対象の表面性状が検出プローブに適さない場合であっても、被測定対象のエッジを検出可能な非接触変位計測装置を提供する。
【解決手段】光源からの光を被測定対象１２に照射してその反射若しくは透過光を光検出器で受光することにより光軸方向の被測定対象１２の変位を検出するレーザプローブ３５を移動させながら、前記光検出器の出力及び所定の閾値に基づいて前記被測定対象のエッジを検出するようにし、移動した位置情報（Ｘ_１，Ｘ_２，…，Ｘ_Ｎ）、（Ｙ_１，Ｙ_２，…，Ｙ_Ｎ）とともに、得られた出力信号から距離の情報（Ｚ_１，Ｚ_２，…，Ｚ_Ｎ）及び表面性状の情報（ＳＮＲ_１，ＳＮＲ_２，…，ＳＮＲ_Ｎ）を取得し、それら情報に基づき、エッジの位置を特定する。 （もっと読む）

【課題】スペーサの形状にかかわらず、比較的広範囲にわたって、しかも高精度に基板間隔調整用スペーサの高さを測定することが可能な液晶パネルの基板間隔調整用スペーサの高さ測定方法及びその測定装置を提供する。
【解決手段】一対の基板間に間隔調整用のスペーサを介設すると共に、両基板間に液晶を封入した液晶パネルにおいて、一方の基板１１の表面側に間隔調整用のスペーサ２１を配置した状態において、計測用透明板１４をスペーサ２１上に載置する。計測用透明板１４をスペーサ２１に押圧接触させる。計測用透明板１４の載置面と基板１１の表面との隙間距離を光学的手段１２を利用して測定することで基板１１の表面上のスペーサ２１の高さを求める。 （もっと読む）