【課題】 微細化トレンドに従って焦点深度が極めて小さくなるに従って、フォーカス検出の高精度化がますます重要となっている。しかしながら要求精度に合致する検出範囲は狭小化の一途にあり、ウエハ表面を確実に検出範囲内に位置付けることが難しくなっており、露光不良の一因となっている。
【解決手段】 ウエハを保持する可動ステージと、面位置計測手段を持った面位置計測方法において、ウエハ表面の全体、又は一部のウエハ表面形状を計測する段階と、計測したウエハ表面形状を記憶する段階を持ち、記憶したウエハ表面形状に沿った軌道で可動ステージを動かしながら面位置の変化量を計測する手段と、軌道からの変化量を駆動する手段とを有する。 （もっと読む）

【課題】テーパ孔や、孔の軸線が傾いていても正確に孔形状を測定できる孔形状測定方法を目的とする。
【解決手段】第１の測定位置となる孔円周面の３点以上の箇所に同時または逐次測定光を照射し、反射光を導光部材により結像レンズに導き受光素子に導光し、受光素子の受光位置に基づき光学式プローブの軸線から孔内周面までの距離a、b、ｃ・・を求め、光学式プローブをプローブ軸方向の第２の測定位置に移動して前記と同様に光学式プローブの軸線から孔内周面までの距離a1、b１、c１・・ を求め、得られた距離aとa1、距離bとｂ１、距離cとｃ１・・との各比が異なる場合、光学式プローブの軸線と孔の軸線が一致していない、あるいは平行になっていないと判定し、距離aとa1、距離bとｂ１、と距離cとｃ１・・間の各傾き角度を求め、各傾き角度から測定位置のずれを補正して第１と第２の測定位置の中心座標から第１と第２の測定位置の孔内径を求めて孔形状を得る。 （もっと読む）

【課題】統計的干渉計測法の円滑な実施を可能にする微小変位計測装置を提供する。
【解決手段】分岐したレーザ光を被測定物体１０の２点に照射し、その散乱光より得られるスペックル干渉画像から被測定物体の変位を求める計測装置であり、光線の位相を位相可変手段１７で違えて作成した第１、第２の基準スペックル干渉画像（基準画像）と測定対象のスペックル干渉画像（計測画像）との間の位相差を統計的干渉計測法で求める対基準画像位相差算出部３２と、各計測画像の位相差から計測画像間の変位を表す位相差を求める変位位相差算出部３３と、基準画像を更新する基準画像更新部３４とを有する。基準画像の更新により、統計的干渉計測法を用いて微小変位を計測する際の測定レンジを拡大することができる。 （もっと読む）

本発明は、光学式距離計に関係し、光学式距離計は、光検出部自身へ投影された画像を電子画像に変換する光検出部と、物体の画像を上記光検出部に投影する、上記光検出部上の画像を形成する入射した光ビームを調整する結像システムと、上記光検出部上の画像を形成する入射光を調整する光学系と、上記画像の空間スペクトルを提供する手段と、そして、上記画像の焦点ずれの程度に基づき、物体から当該光学式距離計までの距離を導き出す手段とを、備え、上記光学系は、焦点画像面に相関した光検出部上の画像の焦点ずれの程度が、結果として基準パターンに相関した上記画像の空間スペクトルの変位になるように、入射光を調整し、そして、上記距離計は、変位の上記程度から、焦点ずれの程度を導き出す手段を備えている。
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【課題】ノッチ部を精度良く検査できる周部検査装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る周部検査装置は、周部にノッチ部１４が形成されたウェハ１０を保持する保持部と、ウェハ１０の周部を撮像可能な撮像部９０とを備え、撮像部９０により撮像されたウェハ１０の周部の画像を用いてウェハ１０の表面検査を行うように構成され、保持部に保持されたウェハ１０と撮像部９０とを撮像部９０の光軸方向に沿って相対移動させる駆動部と、撮像部９０の光軸上にノッチ部１４を位置させた状態で、駆動部により相対移動させながら撮像部９０により撮像したノッチ部１４を含んだ複数の画像について、それぞれの画像の画素毎に信号強度を求めるとともに複数の画像における同じ画素同士の信号強度を比較して、信号強度が最大となる画素を抽出し、抽出された複数の画素の画像を対応する画素位置に並べて合成しノッチ部１４の検査用画像を生成する画像処理部とを有する。 （もっと読む）

【課題】撮像した画像を用いて被検査体における凸部について正面の形状とともに側面をも同時に観察し、検査工程に要する時間を短縮するとともに、簡易な構成により被検査体における凸部の高さを求められるようにする。
【解決手段】一方の面において断面が二等辺三角形で同形同大の山形形状部が複数反復して一方向に延在するように連接された形状とされ他方の面が平坦な面であり透明材料からなるマイクロプリズムシート（ＭＰＳ）を被検査体（Ｓ）に近接した位置に配置し、このマイクロプリズムシートを介して被検査体を撮像可能な位置に撮像装置１０を配置する。撮像装置で撮像された画像により被検査体における凸部の正面とともに凸部の側面が観察され、被検査体上の１点に対応する画像上の２点の間隔に比例する量として被検査体における凸部の高さが求められる。 （もっと読む）

【課題】三次元位置測定の測定精度を向上させる。
【解決手段】対物レンズ２２によりサンプル１２が拡大され、撮像部１５によりサンプル１２が撮像される。また、偏向部材３３は、対物レンズ２２の瞳の位置近傍に配置され、対物レンズ２２を介してサンプル１２からの光の一部を偏向して撮像素子４１の撮像面Ｓ２に向かわせる。そして、調整機構３５は、偏向部材３３の位置を、少なくとも対物レンズ２２の光軸方向に調整する。また、撮像部１５により撮像された画像が解析され、偏向部材３３を介さずに撮像面Ｓ２に到達した観測光によるサンプル１２の像と、偏向部材３３により偏向されて撮像面Ｓ２に到達した観測光によるサンプル１２の像との位置関係から、サンプル１２の三次元的な位置が検出される。本発明は、例えば、一分子生理学あるいは生物物理学で用いられる三次元位置検出装置に適用できる。 （もっと読む）

【課題】 光学部材の変動の影響を抑制して所定の面の面位置を高精度に検出する。
【解決手段】 本発明の態様にかかる面位置検出装置は、第１および第２パターンからの第１測定光および第２測定光を異なる入射角で被検面（Ｗａ）に入射させ、被検面に第１パターンの中間像および第２パターンの中間像を投射する送光光学系（４〜１１）と、被検面によって反射された第１および第２測定光を第１観測面（２３Ａａ）および第２観測面（２３Ｂａ）へ導いて、第１および第２観測面に第１パターンの観測像および第２パターンの観測像を形成する受光光学系（３１〜２４）と、第１パターンの観測像および第２パターンの観測像の各位置情報を検出し、各位置情報に基づいて被検面の面位置を算出する検出部（２３〜２１，ＰＲ）とを備えている。送光光学系は、送光側共通光学部材（５〜８）を経た第２測定光を偶数回反射して第１測定光よりも小さい入射角で被検面に入射させる送光側反射部（１１）を有する。 （もっと読む）

【課題】高価な装置を用いずに、干渉縞のバイアス、振幅および位相を、ユーザが使用環境において容易に校正でき、測定精度を向上できる形状測定装置を提供すること。
【解決手段】同時撮像型の斜入射干渉計である形状測定装置１は、光の波長を変えられる波長可変光源１１を備える。また、光源１１からの波長を変化させる光源制御部と、撮像部３５Ａ〜３５Ｃごとに光源１１の波長を変化させて取得された複数の干渉縞に基づき、当該バイアス、振幅および位相の各情報を校正する校正用制御部と、測定対象物２０の形状を測定する際に、撮像部３５Ａ〜３５Ｃで同時に取得され異なる位相差を付与された複数の干渉縞と、前記バイアス、振幅および位相の各情報とに基づいて、測定対象物２０の形状情報を解析する解析部とを有する測定制御部４０を備える。 （もっと読む）

【課題】反射型検出を高度化する。
【解決手段】表示面１１と、表示面１１内で少なくとも一方向に非連続な出射領域をもつ赤外光Ｌ(IR)を出力する検出光出力部５０と、赤外光Ｌ(IR)が表示面１１から外部に出射され、外部で反射されて表示面１１から入射するときの反射検出光を受光し、当該反射検出光の分布に応じた検出信号を出力する複数の受光素子３６と、を有する。 （もっと読む）

【課題】装置の小型化を実現しつつ測定精度の良好な斜入射干渉計を提供する。
【解決手段】被測定面Ｓの法線に対して斜め方向から可干渉光を照射して、被測定面Ｓから反射された測定光を参照光と干渉させて被測定面Ｓの形状を測定する斜入射干渉計１において、可干渉光を照射する光源１１と、光源１１からの可干渉光を、偏光方向が互いに直交する測定光と参照光とに分割する光束分割部１４と、光束分割部１４により分割された測定光を折り曲げて被測定面Ｓに対して所定角度で入射させる第１光束折り曲げ部１５と、被測定面Ｓで反射した測定光を折り曲げる第２光束折り曲げ部１６と、第２光束折り曲げ部１６により折り曲げられた測定光と参照光とを合成する光束合成部１７と、を備える。 （もっと読む）

【課題】測定精度を向上させる。
【解決手段】形状測定装置１１は、被検物１３を撮像するCCDセンサ３１と、CCDセンサ３１の１画素に対応する被検物１３の表面内に第１の周期で明部と暗部とが繰り返す投影パタンを、被検物１３に投影する投影パタン２４と、CCDセンサ３１の直前または共役面に配置され、被検物１３において反射または拡散した光を、第１の周期に対応した第２の周期で明部と暗部とが繰り返す像面パタンに応じて透過させ、CCDセンサ３１に入射させる像面パタン３０とを備える。また、コントローラ１６は、像面パタンの位相を、投影パタンの位相に対して相対的にシフトさせ、位相がシフトされるごとにCCDセンサ３１により画像を撮像させ、それらの画像の輝度情報に基づいて被検物１３の形状を算出する。本発明は、例えば、被検物の形状を測定する形状測定装置に適用できる。 （もっと読む）

【課題】装置を大型化することなく測定範囲を拡大できる斜入射干渉計を提供する。
【解決手段】測定対象物Wに対して斜め方向から可干渉光を照射する光源１１と、光源１１からの可干渉光を平行光にする平行光化部１２と、平行光化部１２からの平行光を測定光と参照光とに分割する光束分割部１４と、測定対象物Wで反射された測定光と参照光とを合成する光束合成部１５と、測定対象物Wの表面形状を表す干渉縞を撮像する撮像部１７と、を備えた斜入射干渉計１において、測定対象物Wにおける光の測定範囲を、当該測定範囲の短軸方向に拡大させる測定範囲拡大手段１０を備える。 （もっと読む）

【課題】従来、分光器を用いて断層を計測する手法においては、離散フーリエ変換を用いていたため、断層の値は離散的な値しか表現できなかった。そのため、断層の計測精度の向上が求められていた。
【解決手段】本発明に係る断層像計測方法は、波数スペクトルから、層厚の光学距離に対応した情報を計算する第１の工程と、前記光学距離に対応した情報から、各層の情報を分離して抽出する第２の工程と、各層の情報をそれぞれ再度波数スペクトルに変換する第３の工程と、第３の工程の結果から干渉波数を求める第４の工程と、干渉波数と各層の光学距離とから干渉次数を算出する第５の工程と、干渉次数が整数であることを利用して各層の光学距離を計算する第６の工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 光学部材の変動に影響されずに被検面の面位置を高精度に検出する。
【解決手段】 第１パターンからの第１測定光および第２パターンからの第２測定光を被検面（Ｗａ）へ導いて第１パターンの中間像および第２パターンの中間像を投射する送光光学系（４〜９）と、被検面によって反射された第１測定光および第２測定光を第１観測面（２３ａ）および第２観測面（２３ａ）へ導いて第１パターンの観測像および第２パターンの観測像を形成する受光光学系（２９〜２４）と、第１パターンの観測像および第２パターンの観測像の各位置情報を検出し、各位置情報に基づいて被検面の面位置を算出する検出部（２３〜２１，ＰＲ）とを備えている。送光光学系は、第１測定光の被検面への入射面に沿った第１パターンの中間像の投射倍率と、第２測定光の被検面への入射面に沿った第２パターンの中間像の投射倍率とを異ならせる。 （もっと読む）

【課題】 光学部材の変動の影響を抑制して被検面の面位置を高精度に検出する。
【解決手段】 面位置検出装置は、第１パターンからの第１の光と第２パターンからの第２の光とを被検面（Ｗａ）へ入射させて、被検面に対して第１パターンの中間像および第２パターンの中間像を投射する送光光学系（４〜１０）と、被検面で反射された第１の光および第２の光をそれぞれ第１観測面（２３Ａａ）および第２観測面（２３Ｂａ）へ導いて、第１パターンの観測像および第２パターンの観測像を形成する受光光学系（３０〜２４）と、第１観測面および第２観測面における第１パターンの観測像および第２パターンの観測像の各位置情報を検出し、各位置情報に基づいて被検面の面位置を算出する検出部（２３〜２１，ＰＲ）とを備えている。送光光学系は、例えば第２パターンの中間像を第１パターンの中間像に対して所定方向に反転された像として投射する。 （もっと読む）

【課題】１台のカメラで同時に撮像した被写体の２次元画像群を基にして被写体の３次元情報を検出することを図る。
【解決手段】空間的又は時間的に強度変調された強度変調光を発生する距離検出用光源部１０と、被写体で強度変調光が反射された反射光を透過する複数のレンズ１５が多眼的に配置されたレンズアレイ１４と、複数のレンズ１５の各々を透過した透過光を２次元撮像素子の結像面で各々結像させて、複数のレンズ１５の各々に対応する被写体画像群を撮像し、該被写体画像群に基づいて被写体の３次元情報を検出する３次元カメラ１６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 光学部材の変動に影響されずに被検面の面位置を高精度に検出する。
【解決手段】 面位置検出装置は、第１パターンからの第１の光および第２パターンからの第２の光を異なる入射角で被検面（Ｗａ）に入射させ、被検面に第１パターンの中間像および第２パターンの中間像を投射する送光光学系（４〜１１）と、被検面によって反射された第１の光および第２の光をそれぞれ第１観測面（２３Ａａ）および第２観測面（２３Ｂａ）へ導いて、第１観測面に第１パターンの観測像を形成するとともに第２観測面に第２パターンの観測像を形成する受光光学系（３１〜２４）と、第１観測面における第１パターンの観測像および第２観測面における第２パターンの観測像の各位置情報を検出し、該各位置情報に基づいて被検面の面位置を算出する検出部（２３〜２１，ＰＲ）とを備えている。 （もっと読む）

【課題】プローブ部分を損傷しにくく、かつ、プローブ部分を交換容易な距離測定装置を提供する。
【解決手段】光源２からの光を、コリメータレンズ３により平行光束とし、出射面１４から、穴１の内壁にほぼ垂直に照射する。散乱された光を、微小開口１５で受光し、ミラー１７，１８で繰り返し反射させながら、受光レンズ４まで導いて受光する。受光レンズで受光された光は、リニアセンサ５上に結像する。リニアセンサ５での受光位置が分かると、微小開口１５に入射した散乱光の入射角度が分かり、これから三角測量の原理で、出射面１４から穴１の内壁までの距離が算出できる。 （もっと読む）

【課題】本発明の精密フェーズシフト発生装置は、石英材料の低い膨張率や、高い機械品質要素の特徴を利用して、巧妙且つ正確な構造デザインを通じて、精密圧力発生器の作用に基づき、それぞれエタロン自体及びフレキシブルヒンジマイクロ変移プラットホームの変移スキャニングを実現し、物の長さに対する精密測定を実現する。
【解決手段】本発明の精密フェーズシフト発生装置は、「圧力スキャニング」原理に基づいてデザインされた「キャビティ長さ可変式」のエタロンとフレキシブルヒンジマイクロ変移プラットホームとの一体化装置であり、また、「キャビティ長さ可変式」エタロンのデザインによって、精密変移センサーの自己修正難題が解決されており、精密フェーズシフト発生装置のフェーズシフト測定の正確度を保証することができる。また、本発明は、精密フェーズシフト発生装置によって構成された精密の長さ測定システム及び測定方法をも提供している。 （もっと読む）