【課題】対象物体で反射した光を受光して対象物体の位置を検出する際、対象物体に反射率が異なる箇所が存在していても、対象物体の位置を高い精度で検出することのできる光学式位置検出装置、および位置検出機能付き表示装置を提供すること。
【解決手段】光学式位置検出装置１０では、複数の検出用光源１２を順次点灯させて検出光Ｌ２を出射させ、検出空間１０Ｒに位置する対象物体Ｏｂにより反射した検出光Ｌ３の一部を光検出器３０により受光する。検出用光源１２Ａ〜１２Ｄにおいて、第１発光素子１２Ａ₁〜１２Ｄ₁と第２発光素子１２Ａ₂〜１２Ｄ₂とは、互いに異なる帯域にピークを有する第１検出光Ｌ２ａ₁〜Ｌ２ｄ₁、および第２検出光Ｌ２ａ₂〜Ｌ２ｄ₂を異なるタイミングで出射する。そして、光検出器３０での第１検出光Ｌ２ａ₁〜Ｌ２ｄ₁の検出強度と第２検出光Ｌ２ａ₂〜Ｌ２ｄ₂の検出強度との差に基づいて対象物体Ｏｂの位置を検出する。 （もっと読む）

【課題】対象物体で反射した光を光検出器で検出する方式を採用した場合において、検出空間の全体にわたって対象物体の位置を高い精度で検出することのできる光学式位置検出装置を提供すること。
【解決手段】光学式位置検出装置１０では、複数の検出用光源１２を順次点灯させて検出光Ｌ２を出射させ、検出空間１０Ｒに位置する対象物体Ｏｂにより反射した光Ｌ３の一部を光検出器３０により受光した結果に基づいて対象物体Ｏｂの位置を検出する。Ｚ軸方向からみたとき、光検出器３０に近い位置にある検出用光源１２Ｂ、１２Ｄから出射された検出光Ｌ２ｂ、Ｌ２ｄは、検出光Ｌ２ａ、Ｌ２ｃに比して導光板１３から検出空間１０Ｒに到達するまでの減衰度合いが大である。従って、対象物体Ｏｂと光検出器３０との距離に起因する減衰度合いの差は、検出空間１０ＲにおけるＹ軸方向の一方側Ｙ１と他方側Ｙ２とにおける強度差によって相殺される。 （もっと読む）

【課題】広い範囲での対象物のセンシングが可能な光学式検出装置、表示装置及び電子機器等の提供。
【解決手段】光学式検出装置は、光源光を出射する光源部と、光源部からの光源光を曲線状の導光経路に沿って導光する曲線形状のライトガイドと、ライトガイドの外周側から出射される光源光を受け、曲線形状のライトガイドの内周側から外周側へと向かう方向に照射光の照射方向を設定する照射方向設定部と、照射光が対象物に反射されることによる反射光を受光する受光部ＲＵと、受光部ＲＵでの受光結果に基づいて、少なくとも対象物が位置する方向を検出する検出部５０を含む。 （もっと読む）

【課題】SiC基板及びエピタキシャル層に形成されたマイクロパイプ欠陥及び基底面内欠陥を高精度に検出でき、他の欠陥から区別できる検査装置を実現する。
【解決手段】本発明では、微分干渉光学系を含む共焦点走査装置を用いて、SiC基板表面又はエピタキシャル層表面の共焦点微分干渉画像を撮像する。共焦点微分干渉画像は、試料表面の数ｎｍ程度の凹凸変化を輝度分布として表すので、SiC基板表面又はエピタキシャル層表面に出現した結晶欠陥を、輝度分布に基づいて検出することができる。欠陥の種類に応じて、輝度分布が相違するので、欠陥画像の形状及び輝度分布の観点より欠陥を分類する。特に、本発明による分類方法を用いることにより、マイクロパイプ欠陥及び基底面内欠陥を他の欠陥から区別することが可能である。 （もっと読む）

【課題】 リソグラフィ装置で使用するために、自身の測定ビームの焦点高さによる影響を受け難いことが好ましい代替レベルセンサを提供すること。
【解決手段】本発明は、基板の高さレベルを測定するように構成されたレベルセンサを提供し、レベルセンサは、測定ビームを基板に投影する投影ユニットと、基板で反射した後に測定ビームを受ける検出ユニットと、検出ユニットが受けた反射測定ビームに基づいて高さレベルを計算する処理ユニットとを備え、レベルセンサは、傾斜測定デバイスをさらに備え、傾斜測定デバイスは、反射測定ビームの少なくとも一部を受けるように配置され、公称平面に対する基板の傾斜を表すチルト信号を提供するように構成される。 （もっと読む）

【課題】簡素な回路構成で第１光源と第２光源とを交互に点灯させることのできる光学式位置検出装置、およびかかる光学式位置検出装置を備えた位置検出機能付き表示装置を提供すること。
【解決手段】光学式位置検出装置１０の位置検出用光源装置１１では、発光素子１２Ａ（第１光源）と発光素子１２Ｂ（第２光源）とが直列に電気的接続されて光源対１２１を構成しており、かかる光源対１２１の両端には定電圧が印加されている。光源駆動回路１４は、発光素子１２Ａと発光素子１２Ｂとの電気的接続個所にパルス信号Ｖ１を印加する。このため、パルス信号Ｖ１に連動して、発光素子１２Ａに印加される電圧、および発光素子１２Ｂに印加される電圧が変化するので、１つの信号Ｖ１（パルス信号）のみで発光素子１２Ａと発光素子１２Ｂとを交互に点灯させることができる。 （もっと読む）

パターン発生器は、書込ツールと校正システムとを有する。書込ツールは、ステージ上に配列されたワークピース上にパターンを発生させるように構成される。校正システムは、書込ツールの座標系と、ステージおよびワークピースのうちの１つ上の校正プレートの座標系との間の相関を決定するように構成される。校正システムはまた、校正プレートの表面上の少なくとも１つの反射パターンから反射した少なくとも１つの光ビーム状の光相関信号、またはパターンに少なくとも部分的に基づき相関を決定するように構成される。
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【課題】使用環境が制限されず、測定原理が簡単で、且つ、より高い感度及び精度でひずみを測定できる、光学ひずみゲージ、光学的ひずみ測定装置及び光学的ひずみ測定方法を提供すること。
【解決手段】測定対象物１に取り付けられ、光を反射可能であり且つ測定対象物１のひずみ変形に伴って角度が変化する複数の反射面５を備えるように、光学ひずみゲージ１０を構成した。また、光学的ひずみ測定装置１００に当該光学ひずみゲージ１０を備えた。 （もっと読む）

【課題】光学システムにおいて、位相および振幅情報を含む波面分析、ならびに３Ｄ測定を実行する方法および装置、特に、光学システムの画像面のような、中間面の出力の分析に基づく方法および装置を提供する。
【解決手段】 薄膜コーティング、または多層構造の個々の層が存在する表面トポグラフィの測定について記載する。多重波長分析を、位相および振幅マッピングと組み合わせて利用する。マクスウェルの方程式の解に基づき、仮想波面伝搬を用いて、波面伝搬および再合焦によって位相および表面トポグラフィの測定を改良する方法について記載する。このような位相操作方法によって、または広帯域およびコヒーレント光源の組み合わせを利用する方法によって、光学撮像システムにおいてコヒーレント・ノイズの低減を達成する。本方法は、集積回路の分析に適用され、コントラストを高めることにより、または１回のショット撮像における３Ｄ撮像によってオーバーレイ測定技法を改善する。 （もっと読む）

【課題】測定対象物の移動機構を使用せずに高さ方向のダイナミックレンジを拡大可能とする。
【解決手段】本発明の干渉測定装置は、可干渉距離が有限の光束を生成する生成手段（９、２０）と、光束を２つの光束に分岐し、それら２つの光束の一方を測定対象面（２５ａ）へ照射すると共に他方を参照面（２４ａ）へ照射する分岐手段（２２）と、測定対象面を経由した測定光束と参照面を経由した参照光束とを同一光路に統合して統合光束を生成する統合手段（２２、２１）と、分岐手段により分岐される光束の可干渉距離を走査する走査手段（２０）と、可干渉距離の走査位置と統合光束の強度との関係を示す関係情報を取得する測定手段（２７、３０）と、関係情報に基づき、測定光束と参照光束とが干渉する走査範囲と、測定光束と参照光束とが干渉しない走査範囲との境界を、測定対象面の高さ情報として取得する演算手段（３０）とを備える。 （もっと読む）

【課題】 高精度に物体の変位量を測定可能な変位測定装置を提供することを目的とすること。また、特にそれを具備した露光装置、及び精密加工機器を提供すること。
【解決手段】 変位測定装置２００は、格子パターン４が形成されたスケール５と、スケール５に光を照射する光源１と、光源１からの複数の回折光のそれぞれを円偏光に変換する波長板６と、波長板６を透過した複数の回折光を重ね合わせて干渉させる光学素子７と、干渉させた光を受光する受光素子１０とを備える。そして、波長板６に入射する複数の回折光が互いに偏光方向の等しい直線偏光になるように、光源１からの光を直線偏光に変換する直線偏光生成手段５０を備える。 （もっと読む）

【課題】多数の発光素子や受光素子を用いなくても、対象物体のＸＹＺ座標を検出することのできる位置検出機能付き投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】画像投射装置２００を備えた投射型表示装置に対して位置検出機能を付加して位置検出機能付き投射型表示装置１００を構成する。画像投射装置２００には、検出領域に向けて赤外光からなる位置検出光を出射する複数の発光素子１２を設け、かかる位置検出光の強度分布を形成する。データ処理部５０は、検出領域１０Ｒ内の対象物体Ｏｂで反射した光を光検出器３０が検出した結果に基づいて対象物体ＯｂのＸＹＺ座標を検出するとともに、Ｚ座標に基づいて、画像投射装置２００において各種モードを実行させる。 （もっと読む）

様々な計測システムおよび計測方法が提供される。 （もっと読む）

統合された視覚及び表示システムは、表示面を通じて見るために表示画像を送信するように構成された表示画像形成層と、表示面の法線に対して狭い範囲の角度の、表示面上又は表示面の近くの１つ以上の物体からの反射を含む、赤外光を結像するように構成された結像検出器と、物体を照らすために赤外光を放射するように構成された視覚システムエミッターと、対向する上面及び／又は下面を有し、視覚システムエミッターから赤外光を受信し、上面及び下面からＴＩＲによって赤外光を導き、表示面の法線に対して狭い範囲の角度の外側の物体上へ赤外光を投影するように構成された、可視光及び赤外光を伝達可能な導光路とを具備する。
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【課題】ガラス容器中の応力曲線に加えて応力層の厚さおよび壁厚の両者を迅速かつ正確に確定するために蛍光発光を使用する、ガラス容器壁中の応力および壁の厚さを測定するための装置および方法が開示される。
【解決手段】本装置および方法を、ガラス容器の全周囲にわたるガラス容器側壁中の応力および側壁の厚さの両者を迅速かつ正確に測定するために使用することができる。本装置および方法は、大規模ガラス容器製造に適合され、ガラス容器の側壁中の応力および側壁の厚さの高速測定が可能である。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で正確な測長及び位置の確認が可能な測定装置及び測定方法を提供する。
【解決手段】被測定物の異なる面上の第１及び第２の場所からの反射光を取り込み１８０度異なる方向に向けて出射する導光部の長さの異なる第１及び第２の台形プリズム１９ａ、１９ｂと、第１の台形プリズム１９ａからの光を取り込み９０度異なる方向に向けて出射する第１の反射プリズム１９ｃと、第２の台形プリズム１９ｂからの光を取り込み９０度異なる方向に向け、第１の反射プリズム１９ｃが第１の台形プリズム１９ａからの光を出射するのと同じ方向に出射する第２の反射プリズム２０と、第１及び第２の反射プリズム１９ｃ、２０からの光を収束又は発散させる光学レンズとを有し、第１及び第２の場所からの反射光それぞれが光学レンズに到達するまでの光路長が等しい。 （もっと読む）

【課題】局所的な変形が生じた場合にもより正確に変位を計測することができる変位計測装置及び変位計測方法を提供する。
【解決手段】変位計測装置１は、光線Ｂを出射する照射部５と、前記光線Ｂの一部を透過し第１光線B1を出射すると共に前記光線Ｂの他の一部を分離して延長光EBを出射する光路長変更部６と、前記第１光線B1及び前記延長光EBを受光して天井３の変位を検出する変位検出部７とを備える。変位検出部７は、第１光線B1を受光して第１受光位置を検出する第１受光部10と、前記延長光EBを受光して第２受光位置を検出する第２受光部11と、前記第１受光位置及び前記第２受光位置から変位を算出する算出部12とを有する。 （もっと読む）

物体（８）の、特に、半透明な物体の少なくとも１つの部分の形状、例えば、歯の部分の形状を、好ましくは広帯域スペクトルを有する光を発生させるための光源（１）と、多焦点の照射パターンを作成するための装置（３）と、照射パターンの複数の焦点を物体に結像するための、大きな色収差を有する対物レンズ（６）と、対物レンズを介して物体に共焦点に結像される複数の焦点の波長スペクトルを決定するための検出装置（１０）とを用いて、測定するための方法であって、各々の波長スペクトルから、各々の焦点のスペクトルのピーク位置を決定し、該ピーク位置から、結像光線（Ｚ座標）の方向における物体の広がりを計算し、多焦点の照射パターンを、光源（１）と、大きな色収差を有する対物レンズ（６）との間に設けられた複数のライトガイド（５）によって形成し、対物レンズ（６）は、ライトガイドの、物体側の端部を物体に結像し、物体から反射された光を、ライトガイドの物体側の端部に結像し、ライトガイドによって導かれかつ反射された光を、検出装置（１２）へ向ける。構造的に簡単な措置によって極めて正確な測定を行なうことができ、サンプル上の測定点のできる限り良好な分布のみならず、検出装置における最適なスペクトル分布を可能にすることが意図されることを達成するために、物体側の照射パターンは、物体側の測定点分布が、照射側および検出側のマイクロレンズの分布またはピンホールの分布に依存していないように、ライトガイド（５）を介して、形成されることが提案される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、口腔内スキャナーと、それを用いた口腔内画像測定装置に関するもので、小型化を図ることを目的とするものである。
【解決手段】そしてこの目的を達成するために本発明は、本体ケース内に設けられた発光素子１と、この発光素子１からの光を歯１１に向けて出射させるプリズム９と、このプリズム９を介して歯１１から戻った反射光を受光する受光素子１５とを備え、前記プリズム９の歯１１側に偏光板１０を配置するとともに、前記プリズム９は、後方に入射面１７および後反射面１８、前方に前反射面１９、下方に出射面２０、上反射面を有し、前記プリズム９を構成する前記３反射面のうち少なくとも１つは選択反射面２１および全反射面２２を有する構成とした。 （もっと読む）