パラメータの自由度が小さいモデルＭ’のＡＩＣ（Ｍ’）と、パラメータの自由度が大きいモデルＭのＡＩＣ（Ｍ）との小さい方をＥＧＡのモデルとして選択する（ステップ５０２）。モデルＭが選択され、その残差が所定値以上である場合には、モデルＭよりもパラメータ自由度が大きいすべての係数がパラメータであるモデルが選択される。有効サンプル数が、このモデルでのパラメータ自由度よりも小さい場合には、有効サンプル数を増やし、さらにサンプルショットを追加計測する。今回選択されたモデルの係数を、次回のウエハアライメントの際の事前知識に反映する（ステップ５２４）とともに、今回のモデルのパラメータの自由度に応じて、有効サンプル数を増減させる（ステップ５０８又はステップ５１８）。 （もっと読む）

半導体ウェハ上に形成された構造を、一つの入射角及び一つの方位角でその構造に入射光線を向けることによって検査する。入射光線は、方位角の走査を得るために方位角の範囲全体にわたって走査される。方位角の走査中、回折光線の交差偏光成分が測定される。
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【課題】搬送される対象物を平面分光器を用いて、高い分解能で異種品の検出を可能とすること。
【解決手段】本発明では、搬送手段（11）と、近赤外線の照射手段（４）と、反射光を平面分光する平面分光手段（２）と、撮像手段（３）と、反射光のスペクトルデータを得て主成分分析手法を用いて異種品を検出する解析手段（５）とを備え、前記解析手段（５）は、前記スペクトルデータを平均化および標準化する前処理、波長軸平均化処理、ラグランジェ補間する補間処理、測定位置最適化処理、空間軸平均化処理、一次・二次微分および平滑化する変換処理、予め取得したローディングベクトルデータに基づいて主成分得点を算出する主成分得点算出処理、および異種品の判定を行う判定処理を行う。 （もっと読む）

光学部材を備えた可動ステージの構造を複雑にすることなく、その光学部材の温度を制御できるステージ装置である。レチクル（Ｒ）を保持するレチクルステージ本体（２２）をＹ軸リニアモータ（７６Ａ，７８Ａ，７６Ｂ，７８Ｂ）を用いてレチクルベース（１６）上でＹ方向に駆動する。レチクルステージ本体（２２）の端部の光学部材支持部（２４Ｂ２）上の光学系（３２）を介して、レチクルベース（１６）上に固定された固定鏡（ＭＸ）に計測用レーザビームを照射して、レチクルステージ本体（２２）のＸ方向の位置を計測する。光学系（３２）の温度を安定化するために、光学部材支持部（２４Ｂ２）の底面に空気層（３５）を介してロッド部材（２７）を固定し、ロッド部材（２７）内に温度制御された冷媒を供給する。
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チェッキング方向（Ｘ）に沿って機械部品（２）、たとえば旋盤の工具の位置をチェックする方法およびシステムは、レーザビーム（７）、およびビームの中断を検出するセンサ（８）を有するオプトエレクトロニクス・デバイス（１）を使用する。チェッキング領域（１３）におけるチェックされる部品とオプトエレクトロニクス・デバイスとの間の相互変位は、チェッキング方向に垂直な方向（Ｚ）に沿った線形検査運動（３０）および検査位置（Ｐｉ；Ｐ１〜Ｐ４）を含むシーケンスに従って制御される。検査位置は、サーチされる位置（ＰＮ）へ収束するシーケンスに従って、累進的に縮小する相互間の距離（Ｄ）だけチェッキング方向に沿って離される。
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一般的に、第１の態様において、本発明の特徴は、ステージ上のアライメント・マークの箇所を決定するための方法であって、干渉計とミラーとの間の経路に沿って測定ビームを送ることであって、少なくとも干渉計またはミラーがステージ上に載置される、測定ビームを送ること、測定ビームを他のビームと組み合わせて、ステージの箇所についての情報を含む出力ビームを生成すること、出力ビームから、第１の測定軸に沿って、ステージの箇所ｘ_１を測定すること、第１の測定軸に実質的に平行な第２の測定軸に沿って、ステージの箇所ｘ_２を測定すること、ミラーの表面変化を異なる空間周波数に対して特徴付ける所定の情報から補正項Ψ_３を計算することであって、補正項に対する異なる空間周波数からの寄与を、異なる仕方で重み付けする、補正項Ψ_３を計算すること、第１の測定軸に平行な第３の軸に沿って、アライメント・マークの箇所を、ｘ_１、ｘ_２、および補正項に基づいて決定すること、を含む方法である。
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【課題】機械部品の存在を検出するための装置、より具体的には、長尺工具の完全性を検査するための装置を提供する。
【解決手段】工具の完全性を検査するための装置は、レーザ光線（２１）を用いる光電子検査機構（７）と、工具と光電子検査機構との間の相対的な移動を可能とする長手方向（Ｘ）に沿って移動可能な載置台（６）と、例えば送受波器（９、１０）を含む前記相対的な位置を検査するための装置と、を備えている。光電子検査機構のセンサ（２２）は、光線の遮光を検出する。この遮光時の送受波器の信号に基づき、これを既知の値と比較することによって、工具の完全性が検査される。載置台に連結された光電子検査機構の連結機構（２４）は、横方向基準面に沿って光電子検査機構を振動させることができ、この振動により感知可能な画定領域（３３）が画成される。振動はモータ（２６）により制御され、光線の遮光はセンサにより検出されて、該センサにより工具の端部が感知可能な画定領域に干渉する瞬間が示される。
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テンプレートマッチングのために有効な基準パターンを適切に効率良く抽出することのできる基準パターン抽出方法を開示する。本発明において、ウエハを撮像して得た画像情報上の観察視野（ＶＩＥＷ＿Ａｒｅａ）となり得る最大の範囲である最大視野範囲（ＯＲ＿Ａｒｅａ）内において、ユニークさが互いに異なり、かつ、その最大視野範囲（ＯＲ＿Ａｒｅａ）内に任意に配置される観察視野（ＶＩＥＷ＿Ａｒｅａ）内においてもユニークであると認識されるユニークなパターンを複数抽出する。そして、抽出されたユニークなパターンの全てを、観察視野（ＶＩＥＷ＿Ａｒｅａ）が取り得る範囲とは無関係に、基準パターン（テンプレート）として設定する。各ユニークパターンは、各々がユニークなパターンであるエレメント、又は、ほぼユニークなパターンであるエレメントの組み合わせにより表される。
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一態様において、本発明は方法に特徴があり、その方法は、干渉分光法システムにおける干渉計を用いて、第１ビーム経路と第２ビーム経路との間の光路差に関係づけられる位相を含む出力ビームを生成することであって、第１ビームは第１の箇所における測定物体に接触し、第１ビームまたは第２ビームは第２の箇所における測定物体に接触し、第１の箇所および第２の箇所は異なる、出力ビームを生成すること、第１の箇所における測定物体の不完全性に起因し、かつ第２の箇所における測定物体の不完全性に起因するずれであって、第１ビーム経路または第２ビーム経路の公称ビーム経路からのずれによって生じる光路差への影響に対処する事前校正済み情報を提供すること、出力ビームから得られる情報および事前校正済み情報に基づいて、少なくとも１つの自由度について測定物体の位置を決定すること、を含む。
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パターン化と非パターン化ウェハの検査システムを提供する。１つのシステムは、検体を照明するように構成された照明システムを含む。システムは、検体から散乱された光を集光するように構成された集光器をも含む。加えて、システムは、光の異なる部分に関する方位と極角情報が保存されるように、光の異なる部分を個別に検出するように構成されたセグメント化された検出器を含む。検出器は、光の異なる部分を表す信号を生成するように構成されていてもよい。システムは、信号から検体上の欠陥を検出するように構成されたプロセッサを含むこともできる。他の実施形態におけるシステムは、検体を回転・並進させるように構成されたステージを含むことができる。１つの当該実施形態におけるシステムは、検体の回転および並進時に、広い走査パスで検体を走査するように構成された照明システムを含むこともできる。
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【課題】 欠陥の存在だけでなく試料表面の凹凸形状をに検出できる光分解能の光学式走査装置を実現する。
【解決手段】 光源１から試料４に向かう光ビームと試料から光検出器６に向かう反射ビームとを分離するビームスプリッタ２と、試料と光スポットとを相対的に移動させる手段とを具え、試料表面を光スポットにより走査し、試料表面からの反射光により試料の表面領域の情報を検出する光学式走査装置において、ビームスプリッタと光検出器との間の光路中に遮光板を配置し、試料表面における光スポットの走査方向と対応する方向の片側半分の光路を遮光する。遮光板を光路中に配置することにより、試料表面に欠陥の要因となる微小な傾斜面存在する場合、反射の法則により光スポットからの反射光は光軸から変位するので、遮光板により遮光される光量が変化する。この結果、光検出器からの出力信号により凸状欠陥及び凹状欠陥を判別することができる。 （もっと読む）

【課題】 装置内部の可動テーブルの位置を正確に求めるために、１つ、任意選択で２つ以上のカラー干渉計デバイスを使用するリソグラフィ投影装置を提供すること。
【解決手段】 この装置は、前記可動テーブルの少なくとも一部を収容する空間にパージ・ガスを供給するためのフラッシング・ガス手段を備え、パージ・ガスは、干渉計デバイスの動作領域内へのパージ・ガスの漏れが干渉計測定値の有意な誤差をもたらさないように選択される。 （もっと読む）

【課題】 透明な層間絶縁膜上の微細パターンおよび同一層の欠陥を感度良く検出する一方、下層のパターンおよび同一層の欠陥をデフォーカスした状態で検出し、本来検査したい工程の欠陥のみを検出可能とすること。
【解決手段】 本来同一形状となるべきパターンが複数規則的に配置された被検査物の検査装置において、解像度０．１８μｍ以下、より好ましくは０．１３μｍ以下となる照明波長と対物レンズ開口数の関係を備えた撮像光学系と、撮像光学系の結像位置に配置された光電変換器と 撮像光学系とは別に設けられた光路からなり入射角度８５度以上、より好ましくは８８度以上で照明する自動焦点光学系と、自動焦点光学系の検出信号に基づき撮像光学系の焦点位置を調節する手段と、光電変換器の電気信号を処理する手段とを、具備した構成をとる。 （もっと読む）

【課題】 多層プリント配線板の内層の各導体層の変形量を観測、記録する。
【解決手段】 多層プリント配線板６０の内層用の両面配線板６１の表裏の導体層に中実ガイドマーク２２と中空ガイドマーク２３が形成され、例えば、中実ガイドマーク２２−１ｂに、隣接した導体層に設けられた中空ガイドマーク２３−２ａが同心に配置され、隣接した導体層毎に同心に配置された中実、中空ガイドマーク２２、２３を形成する。Ｘ線カメラの視野内に納まる外形のガイドマーク枠２１内に、例えば３行３列に、同心の中実、中空ガイドマーク２２（１ａ〜５ａ）、２３（１ｂ〜５ｂ）の組が配されている。ガイドマーク群２０は多層プリント配線板の、たとえば４隅に配置され、１個のガイドマーク群は１回のＸ線照射で枠内のガイドマーク全ての像を取り込み、それらの座標値が計算される。４個のガイドマーク群内のガイドマークの座標値から、各導体層に形成された配線用パターンの変形量が計算され、結果を記録できる。 （もっと読む）

【課題】透明膜の段差の測定方法に関し、非接触、非破壊で且つ簡単な操作で高速、高精度に位相シフターの段差を測定すること。
【解決手段】第１の透明膜１の一部に形成された複数の第１の溝Ｓａ₁ ，…，Ｓａ_n の段差量ｔ₁ ，…．ｔ_n と該第１の溝Ｓａ₁ ，…，Ｓａ_n からの反射光の偏光状態を示すパラメータの値との相関関係ｆ₁ を求めてデータベース化した後に、第２の透明膜４２の一部に形成された第２の溝４５の反射光の偏光状態を示すパラメータの第１の値を計測して、該第１の値と前記データベースの前記相関関係に基づいて該第２の溝４５の第１の段差量を求める工程を含む。 （もっと読む）

【課題】 短時間で確実に、そして比較的容易に目視検査を行うことができる外観検査装置を得ること。
【解決手段】 本発明の実施形態の外観検査装置１は、基準基板Ｐｓと被検査基板Ｐｉとを隣接してＸＹテーブル２上に載置し、そのＸＹテーブル２の送りを検査場所の順に制御装置３内のコンピュータにプログラムし、そのプログラムに従って前記ＸＹテーブルを送り、基準用ビデオカメラ４１０で基準基板Ｐｓの所定部分を撮影し、検査用ビデオカメラ４２０で被検査基板Ｐｉの前記基準基板Ｐｓと同一の部分を撮影し、両映像を画面分割装置３１０を介してテレビモニタ５の画面上に隣接して映出し、両映像を比較して被検査基板Ｐｉの良否を目視検査できるように構成されている。 （もっと読む）