【課題】
微細なパターンを高い分解能で検出する欠陥検査方法、その装置及び半導体基板を高歩留まりで製造する方法を提供する。
【解決手段】
Ｘｅランプ３、楕円鏡４、マスク５とからなる輪帯状の照明を形成するランプハウス２４は、輪帯状の照明光を、ＸＹＺステージ２上に載置された微細パターンを形成したウエハ（被検査対象物）１を、コリメータレンズ６、光量調整用フイルタ１４及びコンデンサレンズ７を介して、円又は楕円偏光変換素子により円又は楕円偏光させて、対物レンズ９を介して照明し、その反射光をハーフミラー８ａ、８ｂ、ズームレンズ１３を介し、反射光の画像をイメージセンサ１２ａにより検出する。ステージＸＹＺを移動させ、センサ１２ａにより走査し画像信号を得る。この画像出力をＡ／Ｄ変換器１５ａにより変換して基準画像と比較して不一致を欠陥として検出するものである。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェーハの表面の異常を検出するための方法およびシステムを提供する。
【解決手段】高い処理能力の表面検査システムであり、高い検出感度を持つものについて記述されている。得られたデータは、リアルタイムで５０ＭＨｚ以下のレートで処理されることにより、データ処理のコストを減少させる。異常は隣接する繰り返しパターンを比較することにより検出されて検証され、そして表面の高さはモニタされており、そして、近接する繰り返しパターンとの間の位置ずれ誤差を減少させるために機械的に修正される。近接する情報を用いた局所的なしきい値は異常の存在の検出と検証のために用いられる。照明と収集システムが結合されたものの点分布関数のサンプルされたものが異常の検出および検証のために利用される。 （もっと読む）

【課題】 移動体の位置検出ポイントが広い間隔をあけて複数存在する場合でも、移動体を高い精度で位置決めすることができる駆動装置を提供する。
【解決手段】 磁界を発生させる磁界発生部材７と、磁界を検出する第１，第２，第３の磁界検出素子６Ａ，６Ｂ，６Ｃから成る磁界検出手段６と、磁界発生部材７を移動させる圧電アクチュエータＰとを備える。磁界検出手段６での検出結果に基づいて磁界発生部材７と磁界検出手段６との相対的な位置決めを行う際、磁界発生部材７が移動する可動範囲において、所定領域では第１，第２の磁界検出素子６Ａ，６Ｂの検出結果に基づいて第１の位置決めを行い、所定領域から離れた所定ポイントでは第３の磁界検出素子６Ｃの検出結果に基づいて第２の位置決めを行う。 （もっと読む）

パターン比較検査装置を、検査領域内に含めるべきか否かを判定する被判定位置を被検査パターン上のいずれかから選択する被判定位置選択手段（４１）と、被判定位置の画像信号と、被判定位置から繰り返しピッチの整数倍離れた位置の画像信号とを比較する画像比較手段（４２）と、画像比較手段の比較結果が所定のしきい値内にあるとき、被判定位置を検査領域内に含めて検査領域を設定する検査領域設定手段（４３）とを備えて構成する。これにより、繰り返しパターン領域を有する被検査パターン内の、繰り返しパターンどうしを比較してパターン欠陥の有無を検査するパターン比較検査装置において、繰り返しパターン領域の範囲内において、検査領域を拡大することが可能となる。
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自動車の内及び／又は外シーン（４）を空間的に検出する自動車内装置であって、電子式検出装置（９）に連結されたＬＩＤＡＲセンサ（１）と、画像処理装置（１１）に接続され、シーンの画像を記録・評価する画像センサ（１２）を有する。シーン（４）の空間データを判別するため、検出装置（９）と画像処理装置（１１）はコンピュータ（１０）に連結される。
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【課題】高さ変動が加わった高速に移動する帯状体の真の形状を全面にわたって密に測定する簡易な測定方法を提供する。
【解決手段】出力が変調された線状レーザ光源を用い、帯状体上に光切断像を構成し、撮像側に遅延積分型のリニアセンサを用いて、前記光切断像を少しずつずらしながら重ね撮像して、帯状体の形状を復元する光切断方式の形状測定方法において、振動成分のみを含む幅方向位置を検索し、この位置における長手方向の板の高さ変動を、振動を含んだ形状から差し引くことにより振動を除去して本来の形状を測定する。さらに幅方向断面曲線の長さ変化から波ピッチを、長手方向における板の高さ曲線の長さから伸び率を求め、正弦波近似により簡易に波高さを計算する。 （もっと読む）

この干渉計システムにおける信号処理方法は、測定対象に測定光を照射して得られる反射光に基づいて、前記測定対象の位置情報を測定する方法であって、所定信号に対して所定周期分だけ遅延させた遅延信号を得る遅延ステップと、前記所定信号と前記遅延信号との合成信号を得る合成ステップと、前記合成信号を使って前記測定対象の位置情報を測定する測定ステップとを含む。
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【課題】走査光学系から感光体に照射するビームの調整において、実装された走査光学系と等しい精度で測定し、主走査方向と副走査方向における書込ビームの位置ずれを調整可能とする。
【解決手段】カラープリンター１０に搭載された走査光学ユニット２０Ｍ〜２０Ｋを対象として、感光体ユニット３０Ｍ〜３０Ｋの感光体表面が実際に設置される位置に、感光体ユニット３０Ｍ〜３０Ｋに換えてビーム調整装置５０を設置し、実際にビームの主走査若しくは副走査を行い、この実測データから補正データを作成する。 （もっと読む）

【課題】
試料の中を伝搬する光信号を取り込む光ファイバプローブと試料との距離を制御する光ファイバプローブ装置を提供する。
【解決手段】
試料１０から被測定光を取り込む光ファイバプローブ１と、広帯域光を位置検出光として出射する広帯域光源５と、その位置検出光を光分岐器６を介して受けて光ファイバプローブ１に入射させるとともに、この入射された位置検出光の内の、光ファイバプローブ１の開口部端面１ｅで反射された第１の反射光及び試料１０の表面で反射された第２の反射光と試料１０から入射される被測定光とを分波する波長分波器４と、波長分波器４からの反射光を光分岐器６を介して受け、上記の第１の反射光と第２の反射光との位相差に起因して生じる光スペクトルのリップルを検出する光スペクトル検出手段７と、この光スペクトルのリップルから光ファイバプローブ１の開口部端面１ｅと試料１０の表面との距離Ｌを求める処理手段８とを備えた。 （もっと読む）

本発明は、対象物の２次元表現を生成するための処理ユニットとカメラを有する、自動車シート上の対象物を検出する装置に関し、装置が少なくとも２つの照明源をさらに有し、当該照明源は、対象物が様々な方向から照明されるように位置決めされ、処理ユニットが、それぞれが様々な照明条件下で生成された２つの２次元表現から対象物の３次元表現を生成するのに適していることを特徴とする。
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【課題】 高い精度をもって測定対象の位置情報を測定することができる干渉計システム及び干渉計システムにおける信号処理方法等を提供する。
【解決手段】 検出信号Ｋ１は測定対象に測定光を照射して得られる信号をディジタル化した信号であり、急激に周期及びパルス幅が変動しない性質を有する信号である。フラグ生成部２２は検出信号Ｋ１を同期化させた同期化信号Ｋ２の立ち上がり及び立ち下がりを検出する。周期計測部２３は、同期検出信号Ｋ２に含まれる各パルスの周期及びパルス幅を計測して同期検出信号Ｋ２を１周期遅らせた遅延検出信号Ｋ３を生成する。エッジ監視部２５は遅延検出信号Ｋ３の立ち上がり位置等を検出し、補完カウンタ部２４はエッジ監視部２５から出力される補完開始終了信号ＳＴに基づいて補完信号ＫＣを生成し、遅延検出信号ＫＣのパルス異常が生じている箇所を補完する。 （もっと読む）

対象物の画像化のシステムと方法。
検出器アレイの画像が画像面に配設される。検出器の各アレイは内挿部を有しているタイミング回路に接続され内装器はそれが放電する時とは異なった速度で第１のキャパシタを充電する第１の回路を含む。光パルスは対処物の方に送られるので光パルスの一部分は反射パルスとして対象物から反射され光パルスがいつ対象物へ送られたかを示す第１の値が記録される。反射されたパルスは１またはそれ以上の検出器で検出されそのパルスのパルス特性とその反射パルスが検出器にいつ到達したかを表わす第２の値とが記録される。対象物との範囲はその後第１及び第２の値と反射されたパルス特性の関数として計算される。 （もっと読む）

【課題】 高い品質保証精度で生産効率を向上させるべき、その場計測を備えもつレーザ加工装置を得る。
【解決手段】 計測用照射光学系により、加工レーザ光１の被加工物３への照射点近傍に、計測レーザ光を被加工物３の表面と略平行な方向から照射する。本照射は遅延提供され、加工レーザ光１に対して計測レーザ光に遅延を与える。また干渉光学系により、加工レーザ光１による被加工物３の表面近傍の反応場の形態変化４ａにより変調を受けた計測レーザ光と、参照光との干渉縞を発生させる。さらに、撮像装置により干渉光学系による干渉縞画像を撮像し、計算器により干渉縞の位相から加工途中における被加工物表面近傍の反応場４ｂのデータを計算する。この手順に基き、レーザ加工装置により取得される反応場データと被加工物の加工品質データとの相関関係をあらかじめ取得して記憶したデータベースと、加工工程中でその場計測した反応場データとを比較する。 （もっと読む）

【課題】 透明な層間絶縁膜上の微細パターンおよび同一層の欠陥を感度良く検出する一方、下層のパターンおよび同一層の欠陥をデフォーカスした状態で検出し、本来検査したい工程の欠陥のみを検出可能とすること。
【解決手段】 本来同一形状となるべきパターンが複数規則的に配置された被検査物の検査装置において、解像度０．１８μｍ以下、より好ましくは０．１３μｍ以下となる照明波長と対物レンズ開口数の関係を備えた撮像光学系と、撮像光学系の結像位置に配置された光電変換器と 撮像光学系とは別に設けられた光路からなり入射角度８５度以上、より好ましくは８８度以上で照明する自動焦点光学系と、自動焦点光学系の検出信号に基づき撮像光学系の焦点位置を調節する手段と、光電変換器の電気信号を処理する手段とを、具備した構成をとる。 （もっと読む）