【課題】検査対象物に形成された孔の内周面に付着した異物を、正確且つ確実に検出可能な孔内検査方法を提供する。
【解決手段】検査対象物に形成した孔の内周面に付着した異物４を検査する孔内検査方法であって、孔を画像認識する画像認識手段を検査対象物の表面に焦点を合わせた状態で、孔を、表面側から画像認識手段の光軸と同軸の第１の波長成分の第１照明手段で照明して撮像すると共に、裏面側から第１の波長成分と異なる第２の波長成分の第２照明手段で照明して撮像する撮像工程Ｓ１と、撮像した第１の波長成分の画像を画像処理して、孔の処理画像を生成すると共に、第２の波長成分の画像を画像処理して、異物４の処理画像を生成する画像処理工程Ｓ３と、孔の処理画像と異物４の処理画像とを合成して、検体画像を生成する画像合成工程Ｓ４と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】検査効率を向上させる光学検査装置を提供する。
【解決手段】支持ユニット１００には検査対象物１０が載置される。第１照明ユニット４００は、短波長を有する第１光を生成して検査対象物１０に向けて照射する。撮像ユニット２００は、第１光が照射される検査対象物１０を撮像する。これと共に、光学検査装置１０００は、短波長の光を照射して検査対象物１０を撮像するので、検査対象物１０に形成された透明パターンの不良検査が可能である。 （もっと読む）

【課題】単純な手順で短時間に検査対象物の表面を検査することができる表面検査方法を提供する。
【解決手段】検査対象物に形成した孔の周縁部表面を検査する表面検査方法であって、孔を画像認識する画像認識手段を検査対象物の表面に焦点を合わせた状態で、孔を、表面側から画像認識手段の光軸と同軸の第１の波長成分の第１照明手段で照明して撮像すると共に、第１の波長成分と異なる第２の波長成分を含む第２照明手段で斜めに照明して撮像する撮像工程Ｓ１と、撮像した第１の波長成分の画像を画像処理して、孔の処理画像を生成すると共に、第２の波長成分の画像を画像処理して、周縁部表面の処理画像を生成する画像処理工程Ｓ３と、孔の処理画像と周縁部表面の処理画像とを合成して、検体画像を生成する画像合成工程Ｓ４と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】印刷媒体の読み取り時の位置ずれを考慮して、エッジを含む線画像を精度よく検査し、印刷媒体の良否を判別する。
【解決手段】境界認識部７０４、７０５はそれぞれメモリ画像７０２、検査画像７０３の境界を認識し、線検出部７０６は境界認識の結果を基に線を検出する。第一の検査部７０７はメモリ画像と検査画像のエッジ以外の画像を比較して検査し、第二の検査部７０８は基準画像と検査画像について、エッジを含む線画像を比較することにより検査する。 （もっと読む）

動かされる繊維材料（９）例えば糸の光学的走査装置（１）は、繊維材料（９）用の通路（９１）を含んでいる。異なる場所に設けられて通路（９１）のそれぞれ１つの照明範囲（８１，８２）を照明するため異なるスペクトル特性を持つ光（７１，７２）を放射する少なくとも２つの光源（２１，２２）が、通路（９１）のそれぞれ１つの照明範囲（８１，８２）を照明する。光検出器（６）が、異なる照明範囲（８１，８２）に由来する光を検出する。少なくとも１つの視野絞り（５２）が、すべての照明範囲（８１，８２）の共通集合の部分量である走査範囲（８５）からの光のみを光検出器（６）へ当てる。それにより繊維材料（９）が、関与するすべての光成分（７３，７４）により走査される。
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【課題】マクロ検査ツールの適用性を広げ、高スループットで半導体ウェハからより詳細な検査情報を得る。
【解決手段】ウェハ検査方法は、ウェハ上に繰り返し配列されている個々の微細構造を解像するには不十分な結像解像度でウェハの全表面を結像させるステップを含む。本発明によれば、微細構造のフィーチャの特性は、微細構造を結像において直接解像することができないとしても、被選択検出信号群からの１若しくは複数の値の計算によって決定される。このようにして、記録される画像にマスク（１０９）が施され、画像の非マスク部分（１１１）は平均化によってさらに処理される。非マスク部分（１１１）は、ウェハのメモリ部分を含むように選択される。フィーチャ特性は、線幅、側壁の角度、微小寸法（ＣＤ）などを含むことができる。互いに異なる照明波長または偏光状態で撮影した複数の画像を組み合わせることもできる。 （もっと読む）

【課題】ウェーハの内部欠陥及び表裏面の欠陥検査を簡素化することにある。
【解決手段】光源と撮像器と光学系を備える２組の光源・撮像ユニット４、５をウェーハ１を挟んで対向して配置し、光源・撮像ユニット４、５の少なくとも一方からウェーハ１に赤外光を照射してウェーハ１からの透過光を受光してウェーハ１の透過画像を撮像する第１撮像工程と、光源・撮像ユニット４、５からウェーハ１に赤外光又は可視光を照射してウェーハ１からの反射光を受光してウェーハ両面の反射画像をそれぞれ撮像する第２撮像工程と、透過画像と両面の反射画像に基づいてウェーハ１の欠陥を抽出する抽出工程を有し、ウェーハの内部欠陥と表裏面の欠陥を同一時に検出することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高スループットかつ高感度の欠陥検査装置を提供すること。
【解決手段】広帯域波長の照明を用いて結像性能を向上させることが有効である。そこで、従来の屈折型光学系より広帯域波長の照明が使用可能な反射型光学系を用い、更に良好な収差状態を得られるレンズ外周部の円弧形状のスリット状視野にする。しかしこの方式は、受光面での各検出画素寸法の違いによる明るさの差と、センサの出力配列を視野内の位置座標に対応付けることが課題である。課題を解決するために、明るさの差及び座標を画素位置に応じて個別に補正する。 （もっと読む）

【課題】容易に接着剤のアウトガス評価を行うことができるアウトガス評価方法を提供すること。
【解決手段】アウトガス評価システム１は、複数の透明板を接着する接着剤と前記複数の透明板とによって囲まれる閉空間が形成された評価サンプル２に対して、環境試験機４による環境試験を行う。また、アウトガス評価システム１は、この環境試験後の評価サンプル２に照明部８によって照明光を照射して、この評価サンプル２からの反射光を光検出部９によって検出する。その後、アウトガス評価システム１は、この反射光の検出結果をもとに、評価サンプル２の接着剤からのアウトガスの有無を評価する。 （もっと読む）

【解決手段】サンプル表面の粗度によるスペックルノイズを最小限に抑える暗視野検査システムは、ウェハ上に合成集束照射線を生成するための、複数のビーム成形経路を含み得る。各ビーム成形経路は、傾斜角でウェハを照射することができる。複数のビーム成形経路は、リング状照射を形成することができる。このリング状照射は、スペックルの影響を低減することにより、ＳＮＲを改善することができる。対物レンズは、ウェハからの散乱光を捕捉することができ、画像センサーは、対物レンズの出力を受け取ることができる。ウェハの照射が傾斜角で実施されるため、対物レンズは高いＮＡを有し得、このことによって、画像センサーの光学解像度、および結果的に得られる信号レベルが改善される。 （もっと読む）

ウェーハ欠陥検査のための方法は、検査ターゲットを提供することと、検査ターゲットに少なくとも１つの欠陥検査強化を加えることと、少なくとも１つの検査強化を含む検査ターゲットを照射して検査ターゲットの１つまたは複数の特徴と関連づけられた１つまたは複数の検査信号を生成することと、検査信号を検出することと、検査信号から１つまたは複数の検査パラメータを生成することとを含み得るが、これらに限定されない。検査ターゲットは、少なくとも１つの検査層および少なくとも１つの検査強化層を含むが、これに限定されない。 （もっと読む）

【課題】基板検査装置及び検査方法を提供すること。
【解決手段】検査方法は、測定対象物を撮影して測定対象物のピクセル別にイメージデータを取得し、測定対象物のピクセル別に高さデータを取得し、測定対象物のピクセル別にビジビリティデータを取得し、取得されたイメージデータと、ピクセル別の高さデータ、及びビジビリティデータのうちの少なくとも１つとを乗算して結果値を算出し、算出された結果値を利用してターミナル領域を設定すること、を含む。よって、より正確にターミナル領域を判別することができる。 （もっと読む）

【課題】半導体などの回路パターンの検査は、高感度化と高速化が絶えず追求されているが、パターンの微細化に伴い、パターンのラフネス等の違いに起因して、欠陥と正常部の識別が困難となり、検査感度が大きく不足している。
【解決手段】正常事例からなる学習データを対象に、観測データと類似したデータを探索し、探索した正常データからの乖離度の大小によって、欠陥を認識するものであり、高感度検査を実現し得る。具体的には、（１）主に正常事例からなる学習データを準備、（２）観測データと類似する学習データの部分空間を生成、（３）観測データから部分空間までの距離を算出、（４）距離の大小により欠陥かどうか判定、からなる手順により実現され、画素ごとにラフネス等に対応した、適切な感度設定が可能となる。なお、上記部分空間以外の方法にても、類似性判断を行う。 （もっと読む）

【課題】オーバレイ測定を向上させる。
【解決手段】生成物マーカ格子の非対称性などの生成物マーカ格子の横プロファイルに関する情報が測定結果から判定される。オーバレイマーカ格子がレジスト膜に印刷された後、生成物マーカ格子に対するオーバレイマーカ格子の横オーバレイがスキャトロメータによって、且つ適宜の処理モデルと組み合わせた判定済みの非対称情報を使用して測定される。アライメントセンサの情報を使用して、先ず生成物格子を再構築してもよく、この情報はスキャトロメータに送られ、スキャトロメータは生成物とレジスト格子との積層を測定し、積層によって散乱された光は、オーバレイを計算するために積層のモデルを再構築するために利用される。 （もっと読む）

【課題】防湿剤が適切に塗布されているかどうかを検査する基板検査装置を提供する。
【解決手段】紫外線が照射されることにより蛍光を発する蛍光剤を含む防湿剤の塗布されたプリント基板を検査する基板検査装置１であって、プリント基板に紫外線を斜めに照射する紫外線照射部１１と、プリント基板の画像を撮影する撮影部１３と、防湿剤の塗布されるべき領域を示す基準情報が記憶される基準情報記憶部１５と、撮影部１３が撮影した、紫外線照射部１１からの紫外線が照射されたプリント基板の画像から、蛍光領域の画像を取得する蛍光領域画像取得部１４と、取得された蛍光領域の画像の輝度を所定のしきい値と比較した結果と基準情報とを用いて、防湿剤の塗布されるべき領域に防湿剤が塗布されているかどうか判断する判断部１６と、その判断結果を出力する判断結果出力部１７と、を備える。 （もっと読む）

【課題】
検査時間を増大させることなく、微細凹凸パターンが形成された、ハードディスク用のパターンドメディアなどの試料よりの欠陥種類の特定を容易に行うようにする。
【解決手段】
微細凹凸パターンの欠陥検査において、スキャッタロメトリー法にて検査対象物の特徴を検出する際に、検査対象物の検出対象領域の分光波形を検出し、検出対象領域が検査対象物のパターン種類によって決まるどの領域区分に属するかの領域判定を行い、領域判定の結果により、判定された領域区分に対応する、欠陥種類毎に異なる特徴量の演算式と判定指標値を選択し、選択した特徴量の演算式にしたがって、前記分光波形データに対し、特徴量演算を行い、算出した特徴量の値と、前記選択した判定指標値とを比較して欠陥種類毎の判定処理を行う。 （もっと読む）

【課題】
特にセラミックス球の外観検査装置において、静電気帯電防止を図ると共に、従来の装置で検出困難であったセラミックス球特有の色むら等の欠陥の検出を可能ならしめる。
【解決手段】
セラミックス球１を油中に浸漬し、油中で回転装置によって子午線状に回転するセラミックス球の表面に照明手段６により光を照射して撮影手段７により球全表面を撮影し、撮影された球表面の画像を処理してセラミックス球の欠陥の有無を判定する装置において、上記照明手段６を特にセラミックス球に明視野及び暗視野となるように光を照射可能な照明手段とした。 （もっと読む）

【課題】測定対象物の表面が傾斜方向の異なる複数の面を有している場合であっても迅速に表面の欠陥の有無の測定を行うことができる表面検査装置及び表面検査方法を提供する。
【解決手段】検査対象物９０の表面にそれぞれ波長帯が異なる複数本の光ビームＲ，Ｇ、Ｂを照射する光源１１と、検査対象物９０の表面で正反射された光ビームＲ，Ｇ，Ｂを検査対象物９０の表面の傾斜方向に応じてそれぞれ異なる収束位置Ｐ１，Ｐ２、Ｐ３に収束させるレンズ１３と、各収束位置Ｐ１〜Ｐ３に配置され、それぞれ異なる波長帯の光ビームを透過させるカラーフィルタ１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂと、そのカラーフィルタ１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂを透過した光ビームの輝度を検出する受光素子１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂと、前記光ビームを走査させる走査機構とを備えた表面検査装置１０が提供される。 （もっと読む）

【課題】非透過層の表面上の欠陥のみを判別可能とすることで、歩留り向上につなげることができる外観検査システムおよび外観検査方法を提供することを目的とする。
【解決手段】カメラで撮像される画像において波長ごとに焦点距離が異なることを利用して、波長の短い青色成分については光透過層１０２の表面近くで焦点が合い、波長の長い赤色成分については非透過層１０１の表面近くで焦点が合うように、レンズ１１−対象物１００間の距離を設定する。これにより、撮像画像においては、光透過層１０２の表面上の欠陥に関しては赤色成分の方が輪郭がぼやけて面積が大きくなり、非透過層１０１の表面上の欠陥に関しては青色成分の方が輪郭がぼやけて面積が大きくなる。そこで、画像処理装置では、撮像画像の赤色成分と青色成分とを比較することで非透過層１０１上の像か否かを識別し、非透過層１０１の表面上の欠陥のみを判別する。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタの欠陥、特に、白抜けの検出能力を向上させて検査することのできるカラーフィルタの外観検査方法、外観検査装置を提供する。
【解決手段】１）透過検査用の光源として、赤色、緑色、青色の光を選択的に照射できる光源を用い、２）赤色の着色画素を検査する際には、緑色及び青色の光をカラーフィルタに照射し、得られた撮像データを比較処理することにより欠陥の有無を判定し、３）緑色の着色画素を検査する際には、青色及び赤色の光をカラーフィルタに照射し、得られた撮像データを比較処理することにより欠陥の有無を判定し、４）青色の着色画素を検査する際には、赤色及び緑色の光をカラーフィルタに照射し、得られた撮像データを比較処理することにより欠陥の有無を判定すること。 （もっと読む）