【課題】被検査体の高さを少ない撮像回数で求める。
【解決手段】外観検査装置１０は、周期的に明るさが変化する第１縞パターンを異なる複数の位相で被検査体に投射して複数の第１投影画像を撮像する。外観検査装置１０は、第１縞パターンとは異なる周期で明るさが変化する第２縞パターンを異なる複数の位相で被検査体に投射して複数の第２投影画像を撮像する。外観検査装置１０は、第２縞パターンに対応する被検査体の計測点の明るさ変動の位相を、第１投影画像及び第２投影画像における当該計測点の明るさと、第１縞パターン及び第２縞パターンのそれぞれに対応する明るさ変動の既知の関係とに基づいて求める。 （もっと読む）

【課題】 管端部の開先加工部の表面健全性を速やかに検査する。
【解決手段】 暗空間形成容器内側の暗空間に、検査対象管１の管端部に設けた開先加工部２を配置し、照明装置で照明された周方向の一部におけるルート面３と開先面４のＲ部分４ａ及び斜面部分４ｂを、撮影装置で一緒に撮影する。得られた画像９上の開先加工部２のルート面３と開先面４のＲ部分４ａと斜面部分４ｂに対応する個所に、それぞれの明るさの差を基に、ルート面用計測領域１０ａと開先面Ｒ部分用計測領域１０ｂと、開先面斜面部分用計測領域１０ｃを設定する。各計測領域１０ａ，１０ｂ，１０ｃについて個別のコントラスト変換を行い、個々の濃淡変化、色の濃さが、予め正常な表面健全性を備えた開先加工部を有する管について同処理を実施したときの濃淡の変化、色の濃さの基準値に比して或るしきい値を越えると、開先加工部２における表面健全性に不良があると判定させる。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の欠陥を効率良く検査できるようにする。
【解決手段】半導体装置の欠陥検査装置は、半導体装置の表面画像を撮像し（ステップＳ１０１）、このときに得られる画像信号を輝度信号に変換する（ステップＳ１０２）。輝度信号の諧調値に応じて５つのグループに分類し（ステップＳ１０３）、グループ毎に設定された閾値を用い（ステップＳ１０４）、欠陥の判定を行う（ステップＳ１０４）。パターンが密に配置された領域の閾値と、パターンが疎に配置された領域の閾値とを異ならせることが可能になり、半導体装置の電気特性に影響を与える可能のある欠陥を効率良く抽出することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】検査画像の局所的な伸縮を補正してから基準画像と比較することで、高精度な検査方法を提供すること。
【解決手段】パターンが存在するブロックでは、ブロック毎に設定してある領域内でテンプレートマッチングを行って該ブロック領域において位置補正済みの検査画像を使用し、パターンが存在しないブロックでは、位置補正を行わずに、そのままの検査画像を使用し、各々の検査画像を結合して新たな検査画像を再構成し、この新たな検査画像と基準画像を比較することで検査する。 （もっと読む）

【課題】検査対象物の疵を精度良く検出する。
【解決手段】特徴量算出部４３は、検査対象物Ｈの画像データから、各画素Ｇ（ｉ，ｊ）の輝度値Ｐ（ｎ，ｉ，ｊ）の標準偏差Ｖ（ｉ，ｊ）を求め、求めた標準偏差Ｖ（ｉ，ｊ）を用いて輝度値Ｐ（ｎ，ｉ，ｊ）を規格化し、規格化輝度値Ｐ´（ｎ，ｉ，ｊ）を算出する。特徴量算出部４３は、疵が現れていないことが推定される正常領域を全画像データに設定し、設定した領域内の規格化輝度値Ｐ´（ｎ，ｉ，ｊ）から検査対象物Ｈの正常領域の共分散行列Ｃを算出する。疵情報生成部４４は、規格化輝度値Ｐ´（ｎ，ｉ，ｊ）と共分散行列Ｃとのマハラノビス距離ｄ（ｉ，ｊ）を算出し、疵の箇所を示す疵画像を生成する。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の外観検査の効率を向上する技術を提供する。
【解決手段】表面に配線が形成され且つ前記配線を覆う膜が形成された半導体装置において、膜に発生するクラックを検査する。膜を透過する光を表面に照射する。その表面の画像の所定方向に沿った輝度の変化率を計算する。その変化率の変化率を２次変化率として計算して２次変化率の分布図を作成する。２次変化率を計算する工程の後に連続性を強調する。連続性の強調は次のように行われる。各画素に対して、自画素の輝度と、複数の方向の各々について両側に隣接する画素の輝度との和を計算する。自画素の輝度を、複数の方向のうち和が最大である方向の和とする。 （もっと読む）

【課題】 高感度に欠陥可視化が可能な照明遷移領域を利用し、レンズ全面に対して前記の照明遷移領域を利用した欠陥検査手法を提供する。
【解決手段】 明部及び暗部からなるパターン照明により被検査レンズを透過照明する。被検査レンズに対して照明とは反対側に撮像手段が設けられており、被検査レンズに焦点が合わせられている。投影されるパターン形状はレンズパワー中心軸もしくはパワー中心面に対して対称であり、少なくとも一つの明部及び暗部からなる。さらに被検査レンズに対して、前記の中心軸もしくは中心面に対して対象性を維持したまま異なる複数のパターンを投影することでレンズ全面に照明遷移領域が存在するようにし、投影された複数のパターンごとに画像を取得する。 （もっと読む）

【課題】
光学式の磁気ディスク欠陥検査装置で、基板表面のより微細な欠陥、例えば浅い傷欠陥（シャロー欠陥）や基板内部の欠陥を他の欠陥と弁別して検出することを可能にする。
【解決手段】
光学式欠陥検査方法において、試料を回転させて一方向に連続的に移動させながら試料の表面に対して傾いた方向から照明光を入射させて試料の表面に照明光を照射し、この照明光が照射された試料の表面からの正反射光と正反射光の光軸の周辺の前方散乱光とを含む反射光のうち正反射光を除いて正反射光の光軸の周辺の前方散乱光の像を検出し、照明光が照射された試料の表面からの散乱光のうち照明光の入射方向に対して側方へ散乱した側方散乱光を集光して検出し、正反射光の光軸の周辺の前方散乱光の像を検出して得た信号と側方散乱光を集光して検出して得た信号とを処理して試料上の任意の方向のスクラッチ欠陥を含む欠陥を抽出するようにした。 （もっと読む）

【課題】背景の画像部分と異物の画像部分との明暗が明瞭な画像を得ることができる異物検査装置を提供する。
【解決手段】ガラス壜１の斜め上方に配置されガラス壜１内を照明する照明２と、ガラス壜１の下方に配置されガラス壜１の底部１ａを透過した透過光を撮影する撮像手段３とを備え、撮像手段３は、ズームレンズ（またはバリフォーカルレンズ）４を装着したＣＣＤカメラ３からなり、ガラス壜１の底部１ａと撮像手段３との間に、フレネルレンズ５を設け、照明２からガラス壜１ａの肩部１ｓを介してガラス壜１内に入射した光をガラス壜１の底部１ａを透過させ、ガラス壜１の底部１ａを透過した光をフレネルレンズ５を介してズームレンズ（またはバリフォーカルレンズ）４を装着したＣＣＤカメラ３に入射させるようにした。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、多結晶シリコンウェーハのコントラストを低減させて、多結晶シリコンウェーハ表面の異物を過検出することなく適切に検査することのできる、多結晶シリコンウェーハの検査方法及び装置を提供することにある。
【解決手段】本発明の多結晶シリコンウェーハの検査方法は、光源からの光をカバーの内面にて乱反射させて間接的にウェーハ表面を照明し、照明したウェーハ表面をカバーに設けられた撮像部を通してカバーの外部に設けられた撮像手段により撮像して画像を取得し、その画像よりウェーハ表面の欠陥を検出することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】穴欠陥の検出の確実性を高めることができる表面検査装置及び表面検査方法を提供する
【解決手段】被検査物１０の穴欠陥を画像処理で検査する表面検査装置１であって、被検査物１０を撮像する撮像手段２と、撮像手段２が撮像した撮像画像を２値化する２値化手段と、被検査物１０の穴欠陥の有無を判定する判定手段とを備えており、２値化手段は、設定に応じて変化する各輝度値を基準として２値化画像を算出し、判定手段は、異なる輝度値で２値化した複数の２値化画像に基いて穴欠陥の有無を判定する。 （もっと読む）

【課題】透明な板状部材でも、モアレパターンが得られる歪み検出装置の提供。
【解決手段】板状の透明な検査対象物１６，１７を搭載し得る透明な定盤２を有し、定盤の上下に第１及び第２の基準格子ユニット３，５が対称的に配置されており、各基準格子ユニット３，５は、面発光ユニット３ａ，５ａ及び該面発光ユニットの発光面３ｃ，５ｃに配置された面格子３ｂ，５ｂをそれぞれ有し、第１の基準格子ユニット３と対向する位置に、第１の基準格子ユニット３の面格子３ｂの検査対象物１６，１７からの反射像と、第２の基準格子ユニット５の面格子５ｂの、定盤２及び検査対象物１６，１７を透過して来た像を重ね合わせた重畳画像データＤＡＴを取得する面格子画像取得手段７を設け、該重畳画像データＤＡＴに基づいて、モアレ縞が発生しているか否かを判定して検査対象物１６，１７の歪みや反りの存在を判定する。 （もっと読む）

【課題】 安定的に検査領域を特定することが可能な画像処理装置及び外観検査方法を提供する。
【解決手段】 濃淡画像を取得する濃淡画像取得手段１１０と、距離画像を生成する距離画像生成手段１３０と、濃淡画像と距離画像の一方の画像において、他方の画像上で検査範囲に相当する検査領域を特定するための特定パターンを検出する特定パターン検出手段１５０と、濃淡画像と距離画像の他方の画像において、特定パターン検出手段により検出された特定パターンの位置及び傾斜角度の少なくとも一方に基づいて、検査領域を特定する検査領域特定手段１７０と、特定された検査領域から特徴量を算出する特徴量算出手段１８０と、算出された特徴量に基づいて、ワークの良否を判定する判定手段１９０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】表面の凹凸、輪郭線近傍の欠陥等の存在を高い精度で検出することができ、良品判定を確実に行うことができる画像処理装置、画像処理方法、及びコンピュータプログラムを提供する。
【解決手段】撮像手段で撮像された、良品に関する複数の第一の多値画像を取得し、取得した第一の多値画像の画素ごとに、撮像手段からの距離を濃淡値に変換した第一の距離画像を生成する。生成した第一の距離画像の画素ごとの濃淡値の、良品判定を行うための分布範囲を算出する。判定対象物に関する第二の多値画像を取得し、取得した第二の多値画像の画素ごとに、撮像手段からの距離を濃淡値に変換した第二の距離画像を生成する。生成した第二の距離画像の画素ごとの濃淡値が対応する分布範囲に含まれているか否かを判断する。 （もっと読む）

【課題】従来の画像処理による自動検卵機構を改良する。
【解決手段】有精卵を配置する検査用ホイルと有精卵内部に光を当てる照射手段と卵内部のカラー画像を撮像するカラーＣＣＤカメラを備えた画像撮像と撮像した卵画像を用いて正卵判定する非破検査部とを備えた有精卵の検査装置において、割卵機から供給される液卵を収容して搬送されるカップを検知するセンサーと，該センサーのカップ検知によりＣＣＤカラーカメラで液卵の画像を取り込む画像処理装置と、該画像処理装置に割卵機制御装置を介して不良液卵をカップから排出させる分別機構により、出力トリガ信号を送信する出力バッファとから構成されることを特徴とする画像受理による自動検卵機構の提供。 （もっと読む）

【課題】透明部品の表面状態を正確に、かつ容易に検査する。
【解決手段】測定対象の表面を撮像する撮像装置１０と、測定対象の表面に光を照射する照射部２０と、撮像装置１０の焦点位置と測定対象の表面の相対位置を制御する制御部３０と、撮像装置１０が撮像した画像の輝度を検出する検出部４０と、を備え、制御部３０は、撮像装置１０の焦点位置を、測定対象の表面に合わせた第１の焦点位置と、第１の焦点位置とは異なる第２の焦点位置に制御し、検出部４０は、第１の焦点位置において検出した輝度と、第２の焦点位置において検出した輝度との差から、測定対象の表面にある異物又はキズを検知する。 （もっと読む）

【課題】反射防止フィルムに一定周期で発生する低コントラストの共通欠陥を容易に検出し、更に共通欠陥の発生原因を同定可能な反射防止フィルム検出装置を提供する。
【解決手段】基材を搬送する搬送手段と、基材を照明する手段と、基材を撮像して撮像画像を得る撮像手段と、所定の搬送長さ毎に撮像タイミング信号を発生する手段と、撮像画像を記憶保持する手段その（１）と、撮像画像を特定の周期で重ね合わせ処理を行い欠陥を検出する画像処理手段と、記憶保持された撮像画像から基材の搬送方向の濃度分布波形を求め、該濃度分布波形を解析して欠陥及び欠陥が発生する周期を求める手段と、重ね合わせ処理を行い検出された欠陥及び前記濃度分布波形を解析して検出された欠陥の画像を記憶保持する手段その（２）と、前記各手段を構成する各装置を制御する制御手段と、出力部と、を備えたことを特徴とする反射防止フィルム欠陥検出装置。 （もっと読む）

【課題】 欠陥検査方法、工程管理方法及び欠陥検査装置に関し、複数品種の電子デバイスの欠陥数データを同一のチャートにプロットして、工程管理を定期的に精度良く行う。
【解決手段】 電子デバイスチップが形成されたウェーハ表面に光を照射し、反射光強度を予め設定した閾値と比較してハレーションの有無を判定し、前記ハレーションの有無により前記ウェーハ中のハレーションのない領域の面積を算出し、前記測定した反射光強度の内の前記ハレーションのない領域の反射光強度について、互いに隣り合う前記電子デバイスチップ間で比較して欠陥の有無を判定し、前記判定結果より前記ウェーハ全体の欠陥数を集計し、前記集計した欠陥数を前記ハレーションのない領域の面積で割って実質欠陥密度を算出する。 （もっと読む）

【課題】カラー画像に基づいて高精度に外観の良否判定ができる外観検査装置を提供する。
【解決手段】輝度平均値算出部１２は、各フィルタ画像データＤrf，Ｄgf，Ｄbfからそれぞれ輝度平均値Ａvr，Ａvg，Ａvbを求める。平均値比較部１３は、その求めた輝度平均値Ａvr，Ａvg，Ａvbから、ルックアップテーブルＬＴを使って、異物と背景色とのコントラストが最も大きいフィルタ画像データを選択する。そして、異物判定処理部１４は、その選択した異物と背景色とのコントラストが最も大きいフィルタ画像データに基づいて画像処理を行う。従って、各フィルタ画像データＤrf，Ｄgf．Ｄbfの中から、異物と背景色とのコントラストが最も大きいフィルタ画像データを使って画像処理を行い異物と背景色との判断を行うことから、閾値の設定も容易でかつ高精度の異物検出が可能となる。 （もっと読む）

【課題】塗膜で光を反射させたときの明暗の境界の鮮明さを定量的に表す評価値を用い、従来の官能評価と合致する評価を得ることができ、評価のばらつきを抑えることが可能な塗装ムラ評価値算出方法、塗装ムラ評価値算出装置、及び塗装ムラ評価方法を提供する。
【解決手段】塗膜へ光を照射し、当該光の正反射光が入射しない角度から撮像した画像を複数の領域に区分し、各領域の明度を求めて近傍の領域間の明度差に基づき、画像全体での明度の勾配に係る値を求め、塗膜の塗装ムラの評価値とする。塗膜Ａのように階調的に変化する場合と、塗膜Ｂのように急激に変化する場合とでは塗膜Ｂの方が明暗の境界が鮮明となり、塗装ムラの評価は悪くなる。算出される明度の勾配に係る値により、定量的な塗装ムラの評価が可能となる。 （もっと読む）