【課題】良好な感度、パターン形状を示し、残渣が少なく、かつ未露光部の残膜の少ないネガ型レジスト組成物、それを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）ラジカル重合性基とアルカリ可溶性基とを有する化合物、および、（Ｃ）光ラジカル発生剤、を含有する、ネガ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】低い露光量（特に２００ｍＪ／ｃｍ^２未満）でパターン形成された際も、解像性に優れ、かつ後工程のポストベークでもパターン矩形性が劣化しない感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】樹脂と、オキシム系光重合開始剤と、紫外線吸収剤と、全固形分中における含有量が３０質量％以上である、水素結合性基を有するモノマーと、を含有し、固体撮像素子の画素形成に用いられる感光性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置において、遮光膜の上にカラーフィルタのフィルタセグメントを形成するときに発生するツノ段差の高さを低減することを可能とするフィルタセグメント用の感光性着色組成物を提供することを課題とする。また、該感光性着色組成物を用いた液晶表示装置用カラーフィルタを提供することを課題とする
【解決手段】樹脂、モノマー、光開始剤および着色材を含有する感光性着色組成物であって、該モノマーから成るホモポリマーのガラス転移点（Ｔｇ）が５０℃以下であることを特徴とする感光性着色組成物を提供する。また、該感光性着色組成物を用いた液晶表示装置用カラーフィルタを提供する。 （もっと読む）

【課題】微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能な化学増幅型ポジ型レジスト膜を成膜することができる感放射線性組成物等を提供する。
【解決手段】本感放射線性組成物は、酸解離性基含有重合体（Ａ）と、酸発生剤（Ｂ）とを含有するものであって、前記重合体（Ａ）として、下式で表される繰り返し単位を含む重合体を含有する。


〔Ｘは置換若しくは非置換のメチレン基、炭素数２〜２５の置換若しくは非置換の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基、又は炭素数３〜２５の脂環式炭化水素基。〕 （もっと読む）

【課題】 レジストパターンの倒れ、ラインエッジラフネス、並びにスカムの発生が改良され、プロファイルの劣化も少なく、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能なレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 （Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂（ｃ）を２以上含有する樹脂、及び（Ｄ）溶剤、を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】感度、解像度、密着性、レジスト形状及び硬化後の剥離特性がいずれも良好である感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント及びプリント配線板の製造方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）バインダーポリマー（Ｂ）式（１）の化合物を含む光重合性化合物及び（Ｃ）光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物。
【化１】


［式中、Ｒ^１及びＲ^２は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^３は水素原子又は一価の有機基を示し、Ｒ^４は置換又は無置換の環式炭化水素基を示し、−（ＸＯ）−及び−（ＯＹ）−は、（ポリ）オキシエチレン鎖、（ポリ）オキシプロピレン鎖、又はエチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとのブロック共重合鎖若しくはランダム共重合鎖を示し、−（ＸＯ）−及び−（ＯＹ）−に含まれるオキシエチレン基の総数は２〜４０であり、オキシプロピレン基の総数は０〜４０である。］ （もっと読む）

【課題】レジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】ポジ型レジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、
前記レジスト膜を露光する工程、前記レジスト膜の露光後加熱を８０℃以下で行う工程、
および前記レジスト膜をアルカリ現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法であって、前記ポジ型レジスト組成物は、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、該基材成分（Ａ）を構成する全構成単位に対する酸解離性溶解抑制基を有する構成単位の割合が５５〜８０モル％であることを特徴とする、レジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高さの異なる付加構造体の一括形成に用いた際、微細加工精度良く形成することが可能な樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】上記課題を解決するために、本発明は、半透過膜またはｉ線波長での解像限界以下の遮光膜パターンを有するフォトマスクを介して露光され、少なくともバインダー樹脂、光重合性モノマー、光重合開始剤、および溶剤からなる液晶表示装置用感光性樹脂組成物において、該感光性樹脂組成物が、バインダー樹脂／光重合性モノマーの重量比が４０／６０以上８０／２０以下、バインダー樹脂の重量平均分子量が１００００以上１０００００以下、かつバインダー樹脂の酸価が５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上７５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性が向上し、良好な形状のレジストパターンを形成することができるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法、並びに、当該レジスト組成物用の光塩基発生剤および当該光塩基発生剤として有用である新規な化合物の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分、露光により酸を発生する酸発生剤成分、および特定構造の露光により塩基を発生する光塩基発生剤を含有するレジスト組成物。
（もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィにおけるレジスト中のクェンチャーの液体への溶出によるパターン不良を防止できるようにする。
【解決手段】基板１０１の上に、塩基性化合物であるクェンチャーを含むレジスト膜１０２を形成する。その後、レジスト膜１０２の上に、アルカリ可溶性のクラウンエーテルを含むバリア膜１０３を形成する。続いて、バリア膜１０３の上に液体１０４を配した状態で、バリア膜１０３を介してレジスト膜１０２に露光光を選択的に照射することによりパターン露光を行う。その後、パターン露光が行われたレジスト膜１０２に対して現像を行って、バリア膜１０３を除去すると共にレジスト膜１０２からレジストパターン１０２ａを形成する。 （もっと読む）

【課題】色純度及び遮光性を向上させても、パターン形状の悪化や高精細化が可能な着色アルカリ現像型感光性組成物、ならびにそれを用いたカラーフィルタを提供することにある。
【解決手段】（イ）バインダー樹脂、（ロ）エチレン性不飽和結合を有する化合物、（ハ）光重合開始剤、（ニ）色材、（ホ）溶剤からなる着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物において、（ロ）エチレン性不飽和結合を有する化合物のエチレン性不飽和結合の当量が、８０〜１１０の範囲であることを特徴とする着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物である。ここで、エチレン性不飽和結合当量（二重結合当量）は、エチレン性不飽和結合当量＝（エチレン性不飽和結合を有する化合物の1分子の分子量）／（エチレン性不飽和結合を有する化合物1分子中に含まれるエチレン性二重結合の数）で定義される。 （もっと読む）

【課題】良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】側鎖に３級炭素を有する特定構造の構成単位、および側鎖に酸解離性溶解抑制基を有する特定構造の構成単位からなる群から選択される少なくとも１種の構成単位（ａ０）を有する樹脂成分（Ａ）と、特定構造で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）とを含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】複雑な構成を用いることない、描画開始から終了に至るまでの全体にわたって欠陥のない滑らかなパターン形成方法を実現することを目的とする。
【解決手段】保護剤で被覆して安定化した超微粒子を基板に接触させ、基板上にエネルギービームを照射しながら基板上を走査することで超微粒子を基板上に固定するパターン形成法において、エネルギービームの照射開始時にエネルギービームのエネルギーをエネルギービームの照射開始点のパターン中央部に欠陥が生じないよう所定時間かけて増加させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】膜厚、解像度、パターン形状、透明性、耐熱性、耐溶剤性等の諸性能、特に耐熱性に優れ、且つ諸性能のバランスに優れたマイクロレンズを形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】感放射線性樹脂組成物は、酸性官能基を有する重合性不飽和化合物、脂環式炭化水素基を有する重合性不飽和化合物および他の重合性不飽和化合物を重合して得られるアルカリ可溶性共重合体、重合性不飽和化合物、光重合開始剤ならびに、相互に独立に、水素原子または（メタ）アクリロイル基を有する１価の基を有する化学式で表される化合物を含有する。 （もっと読む）

【課題】レジストパターン形状に優れたポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、特定構造の構成単位（ａ０）を有し、かつ、前記酸発生剤成分（Ｂ）が、特定構造で表されるアニオン部を有する酸発生剤（Ｂ１）を含むことを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】露光、現像、及び後加熱処理により、高精細で、且つ、順テーパーの断面形状を有し、更に、膜強度に優れた着色パターンを形成し得る着色硬化性組成物を提供する。また、本発明の他の目的は、高精細で、且つ、順テーパーの断面形状を有し、更に、膜強度に優れた着色パターンを有するカラーフィルタ、その製造方法、及び該カラーフィルタを備えた液晶表示素子を提供する。
【解決手段】（ａ）分子内に、１つ以上の重合性基を有しない環構造、２つ以上のラジカル重合性基、及び１つ以上の脂環式開環重合性基を有する化合物、（ｂ）光重合開始剤、及び（ｃ）着色剤を含むことを特徴とする着色硬化性組成物、カラーフィルタ、その製造方法、及び該カラーフィルタを備えた液晶表示素子。 （もっと読む）

【課題】良好な形状のレジストパターンを形成できる、ネガ型レジスト組成物、当該ネガ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、および当該ネガ型レジスト組成物に用いる樹脂成分として有用な高分子化合物の提供。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）および架橋剤成分（Ｃ）を含有するネガ型レジスト組成物であって、前記アルカリ可溶性樹脂成分（Ａ）は、塩基解離性基を含む構成単位（ｆ１）と架橋性基含有基を含む構成単位（ｆ２）とを有する高分子化合物（Ｆ）を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】従来のものより食い込みの程度が大きいマイクログルーブを形成可能であり、リフトオフ法による金属配線パターンの形成に好適なリフトオフ用ポジ型レジスト組成物を提供すること。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、感光剤（Ｂ）と、増感剤（Ｃ）と、を含有するリフトオフ用ポジ型レジスト組成物であって、前記（Ａ）成分に対して、前記（Ｃ）成分の含有量が４０質量％以上８０質量％以下であり、前記（Ｃ）成分が所定の化学式で表されるものであるリフトオフ用ポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】高感度で硬化し、未硬化部の除去性に優れ、アルカリ現像時に良好なパターン形成性を有し、支持体との密着性に優れた着色パターンを形成しうる光重合性組成物を提供する。
更に、上記光重合性組成物を用いてなるカラーフィルタ、製造方法、固体撮像素子を提供することにある。加えて、高感度で、経時安定性及び耐刷性に優れ、且つ、残膜のない平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表されるラジカル重合性化合物と、（Ｂ）光重合開始剤とを含有する光重合性組成物である。


〔前記一般式（１）中、Ａは、ｎ+１価の有機連結基を表す。Ｘは、Ｓ原子またはＮ−Ｒ基を表し、Ｒは、水素原子または１価の有機基を表す。Ｙは、カルボキシ基またはスルホン酸基を有する１価の有機基を表す。ｎは、２以上１１以下の整数を表す。Ｚ^１及びＺ^２は、各々独立に、水素原子またはメチル基を表す。〕
である。 （もっと読む）

【課題】露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度で高解像性を有し、露光後のパターン形状が良好で、特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示し、超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適な化学増幅ポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】カルボキシル基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位と、式（１）の基を有する繰り返し単位を含む重量平均分子量１，０００〜５００，０００の高分子化合物をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


（Ｒ¹、Ｒ²は水素原子、又はＲ¹とＲ²は互いに結合してメチレン基、エチレン基又は−Ｏ−を形成する。Ｒ³は単結合又はメチレン基、Ｒ⁴は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、アセチル基、又は酸不安定基、ｍは１〜４の整数） （もっと読む）