【課題】発明の目的は、小さな寸法形状のフィルターの精密な形成が可能である、ネガ型感光性緑，青，そして赤色組成物、フィルター用ネガ型緑，青，そして赤色膜、カラーフィルター、そしてカラーフィルター製造方法を提供することである。
【解決手段】緑，青，赤色組成物は、モノマー（Ｍ）対開始剤（Ｉ）の比（Ｉ／Ｍ）が２０〜４０％、モノマー種及びポリマー種の夫々が単一組成である。そして、合計樹脂量に対する開始剤とモノマーの合計量が、緑色組成物は４〜６％，青色組成物は６〜７％，そして赤色組成物は３．５〜６％である。カラーフィルター製造方法は：撮像素子１４の複数の光電変換素１２に対応して緑，青，赤色組成物によりネガ型膜１８を形成し、この膜を濃度分布マスクを介してパターン露光した後に現像し、現像後に各色フィルターの外表面が凸レンズ形状に形成されている。 （もっと読む）

【課題】高コントラストのパネル設計であっても、画素形成後の研磨やＯＣ層形成などの工程を追加することなく、低コストかつ平易な方法で、ブラックマトリックスと着色画素との境界部分での盛り上がりが抑制され、高品質の画像を表示することができるカラーフィルタ及びその製造方法並びに液晶表示装置を提供する。
【解決手段】コントラストが５０００以上であり、かつ、ブラックマトリックスを構成する隔壁４の側面と底面との成す角度θが１０°〜３５°の範囲にあるとともに、該角度θの相対標準偏差が０．１５以下であることを特徴とするカラーフィルタ及びそれを備えた液晶表示装置。現像によってアンダーカットの長さが１．０〜８．０μｍの隔壁により構成されるブラックマトリックスを形成した後、ベークすることにより、ブラックマトリックスの隔壁側面が上記角度となるように熱変形させる。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体素子、液晶表示装置、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにはその他のフォトファブリケーションのリソグラフィ工程に用いられる、膜減りしにくく、パターン倒れしにくいネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ可溶性樹脂を架橋する架橋剤、（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により架橋反応を進行させる化合物、（Ｄ）カチオン重合性基を有する化合物、を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法。 （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）で示されるスルホニウム塩を含有する高分子化合物。


【効果】上記繰り返し単位を含有する高分子化合物を感放射線レジスト材料のベース樹脂として用いた場合、高い解像性能を発揮し、パターンのＬＥＲが小さく仕上がる。 （もっと読む）

【課題】現像後のレジストパターンのディフェクト、特に微細なスカムやマイクロブリッジの発生を抑制でき、またラインエッジラフネスの小さいレジスト組成物の製造方法、レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）特定の繰り返し構造単位を含有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、（Ｃ）溶剤、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物を製造する方法であって、濾過工程を含み、その過程においてナイロンからなる濾過膜を有するフィルターを通過させることを特徴とするポジ型レジスト組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】感度、解像度及び耐熱性に優れる硬化パターンまたは硬化膜を形成できる感光性樹脂組成物を提供すること。また、前記感光性樹脂組成物の使用により、感度、解像度及び耐熱性に優れ、良好な形状のパターンが得られるパターン形成方法を提供すること。また、良好な形状と特性のパターンを形成することにより、信頼性の高い電子デバイスを提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるモノマーと下記一般式（２）で表されるモノマーとを反応して得られる高分子化合物（ａ）と感光剤（ｂ）を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。
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【課題】高解像性、良好なパターン形状、充分な焦点深度を有し、同時に現像後の欠陥が少なく、かつプラズマエッチング耐性に優れたレジスト組成物の提供。
【解決手段】（Ａ)一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される各繰り返し単位を全て含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂および（Ｂ)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法。Ａは酸の作用により分解し脱離する基、Ｒ₁は各々独立して水素またはメチル基、Ｒ₂はフェニル基またはシクロヘキシル基を表す。ｍは１または２、ｎは０〜２の整数を表す。
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【課題】ラインエッジラフネス、及び露光ラチチュードに優れたポジ型感光性組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）ラクトン構造を有する繰り返し単位と、ファンデルワールス体積が３０６×１０^−３０ｍ^３以下である繰り返し特定構成単位を有する、酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸解離指数ｐＫａが−５．０以上のベンゼンスルホン酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物、並びに該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】感度、解像度及び耐熱性に優れる硬化パターンまたは硬化膜を形成できる感光性樹脂組成物を提供する。また、前記感光性樹脂組成物の使用により、感度、解像度及び耐熱性に優れ、良好な形状のパターンが得られるパターンの製造法を提供する。また、良好な形状と特性のパターンを形成することにより、信頼性の高い電子デバイスを提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるモノマーと下記一般式（２）で表されるモノマーとを反応して得られる高分子化合物（ａ）と感光剤（ｂ）を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。


（ここで、Ｔは酸素原子および/もしくは硫黄原子を示す。Ａｒ_１、Ａｒ_２は炭素数６〜３０の２〜６価の有機基を示し、置換基によって置換されていてもよい。Ｒ_１およびＲ_２は水素原子またはシリル基を表し、各々が異なっていても同じであってもよい。Ｘ_１およびＸ_２は脱離基を表し、各々が異なっていても同じであってもよい。Ｙは酸性基または酸分解性基で保護された酸性基を含む基を表す。高分子化合物中に含まれる複数のＹは、１種類でも、２種類以上でもよい。ａ、ｂは各々０〜４の整数であり、ａ+ｂ≧１である。） （もっと読む）

【課題】露光、現像、及び加熱処理により、高精細で、且つ、順テーパーの断面形状を有し、更に、膜強度に優れた着色パターンを形成し得る着色硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）分子内にエチレン性不飽和結合を２つ有する重合性モノマー又はオリゴマー、（ｂ）光重合開始剤、（ｃ）熱架橋剤、及び（ｄ）着色剤を含み、前記（ａ）分子内にエチレン性不飽和結合を２つ有する重合性モノマー又はオリゴマーは、Ｉ／Ｏ値が０．６５以下であり、分子内のエチレン性不飽和結合間の距離が６０原子以下であり、更に、分子中に２つ以上の環構造を有するものであり、且つ、前記（ｄ）着色剤の含有量が着色硬化性組成物の全固形分に対して３０質量％以上６０質量％以下であることを特徴とする着色硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】パターン形状が良好で、デフォーカスラチチュードの広いネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）酸の作用により架橋する化合物、（Ｃ）光酸発生剤、を含むネガ型レジスト組成物であって、前記（Ａ）アルカリ可溶性樹脂が下記一般式（ＮＨ２）で表されるナフトール構造を有する繰り返し単位と、脂環構造を有する繰り返し単位と、を含む樹脂であることを特徴とする、ネガ型レジスト組成物。
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【課題】 本発明の課題は、カーボンブラック顔料の分散液の安定性を向上させ、十分な感度、適切なパターン形状や微細パターンを得ることのできるカーボンブラック分散液及び黒色感光性組成物、それを用いた遮光性の高いブラックマトリクスを有するカラーフィルタ及びそのカラーフィルタを含む液晶表示装置を提供することである。
【解決手段】少なくとも（A）カーボンブラック顔料、（B）高分子分散剤、（C）溶剤からなるカーボンブラック分散液において、前記（B）高分子分散剤のうちの一つが、不飽和二重結合とウレタン結合を有する化合物であることを特徴とするカーボンブラック分散液である。またその分散液を使用した黒色感光性組成物、それを用いた遮光性の高いブラックマトリクスを有するカラーフィルタ及びそのカラーフィルタを含む液晶表示装置である。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜との密着性に優れ、レジストパターンの再現性を向上させるとともに、現像等に用いられるアルカリ液及びレジスト除去時の酸素アッシングに対して耐性を有し、レジスト材料の染み込み量が少ないレジスト下層膜を形成することができ、且つ保存安定性に優れるレジスト下層膜用組成物を提供する。
【解決手段】本レジスト下層膜用組成物は、側鎖にメタクリレート基を有する構成単位、及び側鎖にフェニル基を有する構成単位を含有するポリシロキサンと、溶剤と、を含む。 （もっと読む）

【課題】パターン化された傾斜フォトレジスト層の新しい形成方法を提供する。
【解決手段】上面と底面を有する基板を提供するステップ、前記基板の上面にフォトレジスト層を形成するステップ、前記フォトレジスト層上に透明層を提供するステップ、前記透明層上に遮光層を提供するステップ、前記遮光層および前記透明層を通過して前記フォトレジスト層を露光する露光源を提供するステップ、及び前記フォトレジスト層を現像してパターン化されたフォトレジスト層を形成するステップを含み、前記パターン化されたフォトレジスト層と前記基板とが直角でない接触角を有するパターン化されたフォトレジスト層の形成方法である。 （もっと読む）

【課題】反射防止膜としての機能を有するとともに、パターン転写性能、エッチング選択性、及びインターミキシング防止効果が良好なレジスト下層膜を形成可能な下層膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位（Ｒ^１は水酸基等、ｎは０〜６の整数、Ｘは炭素数１〜２０の置換可能なアルキレン基等、ｍは１〜８の整数をそれぞれ示す）を必須の構成単位として有し、その他の特定の繰り返し単位を更に有する重合体（Ａ）を含有する下層膜形成用組成物である。
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【課題】厚膜化することが可能であり、シャープなパターニング形状が得られ、かつ、光硬化後及びパターニング後もガラス基板等に対する密着性を失わない硬化膜を与える硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記構造単位（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）を有するアルカリ可溶性を有する共重合体（ａ）カルボキシル基を有するラジカル重合性化合物に由来する構成単位、（ｂ）フェノール性水酸基を有するラジカル重合性化合物に由来する構成単位、（ｃ）他のラジカル重合性化合物に由来する構成単位、（Ｂ）２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物、（Ｃ）２個以上のエポキシ基を有し、２５℃における水１００ｇへの溶解度が２０ｇ以下である化合物、（Ｄ）数平均粒径が０．５μｍ以上のシリカ微粒子、及び（Ｅ）光ラジカル重合開始剤を含有する硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】成膜したときの膜全体の重合開始効率が良好で、高い線幅感度と広いＤＯＦマージン（深い焦点深度）を有し、露光・現像後に支持体との密着性を保持することができる着色硬化性組成物、精細でパターン形状（特に固体撮像素子の場合はパターンの矩形性）の良好なカラーフィルタ及びその製造方法、並びに色再現性に優れた固体撮像素子を提供する。
【解決手段】着色剤と、重合性モノマーと、オキシム系重合開始剤と、アミノアルキルフェノン系重合開始剤とを含有する着色硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】パターニング時の加熱による膜の流動性が良好な着色硬化性組成物を提供することにある。また、パターニング時の加熱による膜の流動性が良好な着色硬化性組成物を用いたカラーフィルタ、及び該カラーフィルタを備えた液晶表示装置を提供することにある。
【解決手段】（ａ）着色剤、（ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（ｃ）エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、（ｄ）光重合開始剤、及び、（ｅ）溶剤を含有し、該（ａ）着色剤が、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０、及びＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８を含み、含有量が、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６ １００質量部に対して、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０が０．５〜３６．６質量部、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８が０．５〜１８質量部であることを特徴とする着色硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足する電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解してアルカリ水溶液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）酸の作用により分解し、酸を発生する化合物及び（Ｄ）有機溶剤を含有し、（Ｃ）成分の化合物として、特定構造の化合物を含有する電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【解決手段】化学増幅型レジスト組成物に、
ベース樹脂１００質量部に対し全溶剤が１，４００〜５，０００質量部で、
全溶剤中、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートと乳酸エチルを６０％以上、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの質量の割合が他の溶剤よりも高く、
乳酸エチルを１０〜４０％、
γ−ブチロラクトン、アセト酢酸アルキルエステル、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールブチルエーテル、トリプロピレングリコールブチルエーテル、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネートから選択される溶剤を０．２〜２０％配合する。
【効果】本発明は、上記溶剤を上述した割合で含有する混合溶剤を用いてレジスト組成物を調製することで、レジスト塗膜が均一に形成でき、ラインエッジラフネスが改善され、保存安定性に優れたレジスト組成物を与え、優れたパターン形成方法を提供できる。 （もっと読む）