【課題】カラーフィルタの各着色画素の矩形性を向上させ、且つ赤色画素の形成時に残渣が生じないようにする。
【解決手段】支持体上に第１色目として、ドライエッチング法を用いて、ストライプ状の赤色パターン２７を形成後、青色層３３Ｂを形成し、赤色パターン及び青色層をドライエッチングして、青色・赤色画素２０Ｂ，２０Ｒ及び、緑色画素形成領域３９を形成する。次に緑色層を形成し、赤色画素２０Ｒが露出されるまで、支持体の全露出面を平坦化処理する。 （もっと読む）

【課題】感度、解像性、密着性及びレジスト形状に優れ、且つ剥離特性を十分に満足するレジストパターンを形成し得る感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性基含有バインダーポリマー、（Ｂ）光重合性化合物、及び（Ｃ）光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物であって、水晶振動子上に形成された前記感光性樹脂組成物の硬化膜を、２５℃、１質量％炭酸ナトリウム水溶液に浸漬し、浸漬直後の水晶振動子マイクロバランス（ＱＣＭ）の指示値を０Ｈｚとしたとき、浸漬後６０秒における振動数変化量が、硬化膜の膜厚１μｍあたり−８０Ｈｚ以上−２０Ｈｚ以下である、感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】低い露光量（特に２００ｍＪ／ｃｍ^２未満）でパターン形成された際も、解像性に優れ、かつ後工程のポストベークでもパターン矩形性が劣化しない感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】樹脂と、オキシム系光重合開始剤と、紫外線吸収剤と、全固形分中における含有量が３０質量％以上である、芳香環を有するモノマーと、を含有し、固体撮像素子の画素形成に用いられる感光性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】高い感度と解像性を備えるとともに、アルカリ現像可能な感光性組成物の提供。
【解決手段】溶剤と（２-ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタノール誘導体でアモルファス性を示す、例えば４−（４'''−｛２−［ヒドロキシ−（２−ヒドロキシフェニル）−フェニル−メチル］｝［１，１’；４’，１”］ビフェニル）−（２−ヒドロキシフェニル）−フェニル−メタノールや下式で示される化合物をマトリックス化合物として含有する感光性組成物。
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【課題】ドライエッチング速度の選択比が大きく、しかもＡｒＦエキシマレーザーのような短波長でのｋ値及び屈折率ｎが所望の値を示すレジスト下層膜を形成するための組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物は、ポリマー及び溶剤を含み、該ポリマーが１，１−シクロアルキルジカルボン酸とジグリシジル化合物との反応により生成される構造を有するものである。前記ポリマーにおいて、１，１−シクロアルキルジカルボン酸の酸基を除く部分が、エステル結合を介して該ポリマーの主鎖に導入されている。例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルが付加した脂環式構造、或いは脂肪族構造を有するテトラカルボン酸二無水物誘導体はエステル結合を介して線状ポリマーの主鎖に導入される。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物及びその製造方法、酸発生剤、レジスト組成物並びにレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、
前記酸発生剤成分（Ｂ）が、下記一般式（ｂ１−１）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含むことを特徴とするレジスト組成物［式中、Ｒ^１は、少なくとも１の水素原子がフッ素置換されている炭素数１〜１０のアルキル基であり；Ｒ^２は、置換基を有していてもよい炭化水素基であり；Ａ^＋はカチオンである。］。
［化１］
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【課題】パターン形状が良好で、充分な膜厚を有するフィルタセグメントおよびブラックマトリックスを有するカラーフィルタ及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】基板上に形成された感光性樹脂組成物の塗膜に、フォトマスクを介してレーザを照射し、現像してパターンを形成する工程を画素の色ごとに繰り返すことにより形成され、前記感光性樹脂組成物は、顔料、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマー、および光重合開始剤を含有し、レーザ照射により硬化可能であり、前記光重合開始剤が、オキシムエステル系光重合開始剤、α−アミノアルキルフェノン系光重合開始剤、及びカルバゾール系光重合開始剤より選ばれる少なくとも１種の光重合開始剤Ａと、アシルフォスフィンオキサイド系の光重合開始剤Ｂとを含み、前記光重合開始剤Ａの含有量（ａ）と、前記光重合開始剤Ｂの含有量（ｂ）とが、重量比で（ａ）／（ｂ）＝０．６〜４．０であり、前記レーザの積算露光量が１〜１５０ｍＪ／ｃｍ^２であることを特徴とするカラーフィルタ。 （もっと読む）

【課題】液浸露光による微細パターン形成プロセスにおける現像工程で、良好なレジストパターン形状を与える液浸露光フォトレジスト膜の保護層用塗布組成物、並びにパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】式（１）で示される化合物を５０質量％以上含む溶剤系に、フルオロアルコール基を側鎖に有する水不溶性、かつアルカリ可溶性ビニルポリマーを溶かしてなることを特徴とする液浸露光フォトレジスト膜の保護層用塗布組成物、並びにパターン形成方法。式（１）において、Ｒ₁及びＲ₂は、それぞれ独立に炭素数３〜５のアルキル基である。
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【課題】 側壁スペーサー法において、フォトレジストパターン上に珪素酸化膜を形成した際のフォトレジストパターンの変形やＬＷＲの増大を防ぐことができるパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 少なくとも、基板上にフォトレジスト膜を成膜し、該フォトレジスト膜を高エネルギー線で露光し、現像液を用いて現像し、フォトレジストパターンを形成した後、該フォトレジストパターンの側壁にスペーサーとして珪素酸化膜を形成する方法により基板上にパターンを形成するパターン形成方法において、少なくとも、前記珪素酸化膜は、ＣＶＤ法またはＡＬＤ法により、１分子内に少なくとも１つ以上のシラザン結合を有するシランガスを前記フォトレジストパターンに作用させ、酸化させることで得られた珪素酸化膜を用いることを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】隔壁で仕切られた領域に有機層を形成するアクティブ駆動型有機ＥＬ表示装置において、電極の断線がなく、高解像度の画像に対応出来るアクティブ駆動型有機ＥＬ素子を得るための隔壁用感光性組成物、およびその隔壁用感光性組成物を用いて形成された隔壁を有するアクティブ駆動型有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤、アルカリ可溶性バインダー、および撥液剤を含有し、アクティブ駆動型有機電界発光素子の有機層を区画する断面順テーパ状撥液性隔壁を形成するために用いられる隔壁用感光性組成物であって、アルカリ可溶性バインダーが側鎖にエチレン性不飽和基を有するものであり、撥液剤がフッ素系化合物であり、且つ、膜厚２μｍの塗膜におけるパターン露光用の光に対する吸光度が０．５以下であることを特徴とするアクティブ駆動型有機電界発光素子の隔壁用感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】電子線、Ｘ線、あるいはＥＵＶ光によるパターニングにおいて、ラインエッジラフネス低減とともに、高感度、高解像度、パターン形状が良好であるポジ型レジスト組成物、及び、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ラクトン構造を有するスルホニウム塩化合物を、ポジ型レジスト組成物中の全固形分に対し、２１質量％含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】隔壁で仕切られた領域に有機層を形成するアクティブ駆動型有機ＥＬ表示装置において、電極の断線がなく、高解像度の画像に対応出来ると共に、発光強度の経時的低下を抑制出来るアクティブ駆動型有機ＥＬ素子を得るための隔壁用感光性組成物、およびその隔壁用感光性組成物を用いて形成された隔壁を有するアクティブ駆動型有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤、およびアルカリ可溶性バインダーを含有し、アクティブ駆動型有機電界発光素子の有機層を区画する断面順テーパ状撥液性隔壁を形成するために用いられる隔壁用感光性組成物であって、エチレン性不飽和化合物として、９，９−ビス（４’−ヒドロキシフェニル）フルオレン型のヒドロキシ化合物あるいはそのエポキシ化化合物に不飽和カルボン酸あるいはそのヒドロキシアルキルエステルを反応させて得られる反応生成物を含有し、且つ、膜厚２μｍの塗膜におけるパターン露光用の光に対する吸光度が０．５以下であることを特徴とするアクティブ駆動型有機電界発光素子の隔壁用感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】隔壁で仕切られた領域に有機層を形成するアクティブ駆動型有機ＥＬ表示装置において、電極の断線がなく、高解像度の画像に対応出来るアクティブ駆動型有機ＥＬ素子を得るための隔壁用感光性組成物、およびその隔壁用感光性組成物を用いて形成された隔壁を有するアクティブ駆動型有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤、アルカリ可溶性バインダー、および撥液剤を含有し、アクティブ駆動型有機電界発光素子の有機層を区画する断面順テーパ状撥液性隔壁を形成するために用いられる隔壁用感光性組成物であって、撥液剤が架橋性基及びカルボキシル基を有するフッ素系化合物であり、且つ、膜厚２μｍの塗膜におけるパターン露光用の光に対する吸光度が０．５以下であることを特徴とするアクティブ駆動型有機電界発光素子の隔壁用感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物及びその製造方法、酸発生剤、レジスト組成物並びにレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、酸発生剤成分（Ｂ）が、一般式（ｂ１）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含むレジスト組成物。
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【課題】感度が良好で、良好なパターン形状の微細パターンを形成可能なネガ型レジスト組成物、該ネガ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法、を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）カチオン重合性基を持つ化合物、（Ｃ）光カチオン重合開始剤、を含有し、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂が下記一般式（ＳＦ）で表されるスルホンアミド構造を有する繰り返し単位、を含む樹脂であることを特徴とする、ネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法。式（ＳＦ）中、＊は結合手を表し、Ｒ^SFは少なくとも１つのフッ素原子を有する有機基を表す。
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【課題】感度が良好で、良好なパターン形状の微細パターンを形成可能なネガ型レジスト組成物、該ネガ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法、を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）ラジカル重合性基を持つ化合物、（Ｃ）光ラジカル重合開始剤、を含有し、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂が下記一般式（ＳＦ）で表されるスルホンアミド構造を有する繰り返し単位、を含む樹脂であることを特徴とする、ネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法。式（ＳＦ）中、＊は結合手を表し、Ｒ^SFは少なくとも１つのフッ素原子を有する有機基を表す。
（もっと読む）

【課題】感度、解像度、密着性、レジスト形状及び硬化後の剥離特性がいずれも良好な感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）バインダーポリマー、式（１）の化合物を含む（Ｂ）光重合性化合物及び（Ｃ）光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物。
【化１】


［式中、Ｒ^１及びＲ^２は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ^３及びＲ^４のうち少なくとも１つ並びにＲ^５〜Ｒ^１２のうち少なくとも１つはアルキル基、シクロアルキル基又はフェニル基を示し、−（ＡＯ）−及び−（ＯＢ）−は（ポリ）オキシエチレン鎖又はエチレンオキサイドとプロピレンオキサイドとの共重合鎖を示し、オキシエチレン基の総数は２〜４０であり、オキシプロピレン基の総数は０〜４０である。］ （もっと読む）

【課題】良好な感度、パターン形状を示し、残渣が少なく、かつ未露光部の残膜の少ないネガ型レジスト組成物、それを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）ラジカル重合性基とアルカリ可溶性基とを有する化合物、および、（Ｃ）光ラジカル発生剤、を含有する、ネガ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】感度が良好で、良好なパターン形状の微細パターンを形成可能で、未露光部の残膜の少ないネガ型レジスト組成物、該ネガ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法、を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）少なくとも１種のカチオン重合性基を持つ化合物、（Ｃ）光カチオン重合開始剤、とを含有するレジスト組成物であって、該レジスト組成物中に異なる複数のカチオン重合性基が存在することを特徴とする、ネガ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 水系現像が可能で、良好なパターン形状が得られ、耐熱性、加水分解耐性、接着性等の諸物性と、感光性、難燃性、十分な機械強度、低そり及び柔軟性とを両立させることが可能であり、電子機器における電子部品の小型化、軽量化に十分に対応できる配線基板の製造に好適に用いることができる新規鎖状ホスファゼン化合物と、該ホスファゼン化合物を用いてなる感光性樹脂組成物と、その代表的な利用方法とを提供することにある。
【解決手段】 少なくとも、側鎖に、アリール基、炭素−炭素二重結合及びカルボキシル基を有する鎖状ホスファゼン化合物を用いることにより、上記課題を解決し得る。 （もっと読む）