【課題】現像欠陥の発生が抑制され、且つ、露光ラチチュード及びラインエッジラフネス性能に優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂および、（Ｃ）疎水性樹脂を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物であって、（Ａ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物が、下記一般式（１）で表される酸を発生する化合物であることを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。（式中の符号は、明細書に記載の意味を有する。）
【化１】
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【課題】広い露光ラテテュード、パターン裾引き低減、良好なパターン形状、優れたドライエッチング耐性を満たし、更に現像後の欠陥が少ないパターンを形成することができる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）式（Ｉ）、(II)及び(III)により表される繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂、及び（Ｂ）２種類以上の、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。
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【課題】十分な減衰係数及びエッチング選択性を有し、かつ室温においても高い溶解性を有するレジスト下層膜形成組成物の提供。
【解決手段】下記式（１）：


で表される繰返し単位構造を有するポリマー及び溶剤を含むレジスト下層膜形成組成物。〔式中、Ａｒはベンゼン環を表し、Ａ_１、Ａ_２、Ａ_３、Ａ_４、Ａ_５及びＡ_６はそれぞれ独立に、水素原子、メチル基又はエチル基を表し、Ｑは２つの炭素原子間の二価の有機基を表す。〕 （もっと読む）

【課題】スリット塗布を行った後減圧乾燥または真空乾燥による方法を用いることなく自然乾燥した場合にも、短時間の乾燥で、塗布ムラがなく、塗布膜厚が均一で、露光、現像後のレジストパターンの形状が良好な感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物として、アルカリ可溶性ノボラック樹脂、キノンジアジド基を含んだ感光剤およびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（Ａ）と沸点が１４５℃以下かつ酢酸ｎ−ブチル蒸発速度が５０以上の溶剤（Ｂ）との混合溶剤を含む感光性樹脂組成物を用い、これを基板上にスリットコーティングし、減圧乾燥または真空乾燥による方法を用いることなく乾燥し、その後露光、現像することによりレジストパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】広い露光ラチチュード、広いデフォーカスラチチュード、良好なパターン形状を得ることができる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）式（Ｉ）、(II)及び(III)により表される各繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂、及び（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有してなり、成分（Ｂ）の化合物として、少なくともカルボン酸を発生する非イオン性化合物を含む２種以上の化合物を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。
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【課題】特定の波長のレーザ露光方式において、高感度であっても、断面形状に優れたフィルタセグメントおよびブラックマトリックスを形成可能な着色組成物、それを用いたカラーフィルタの製造方法、およびその方法により製造されたカラーフィルタの提供。
【解決手段】基板上に着色組成物を用いて着色塗膜を形成する工程と、前記着色塗膜のフィルタセグメントまたはブラックマトリックスとなる部分に、波長３４０〜３８０ｎｍのレーザを照射して硬化させる工程と、前記着色塗膜の未硬化部分を除去してフィルタセグメントまたはブラックマトリックスを形成する工程とを具備するカラーフィルタの製造方法に用いられる着色組成物であって、顔料、透明樹脂、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマー、光重合開始剤および重合禁止剤を含有する着色組成物。 （もっと読む）

【課題】半導体装置製造に用いられるポジ型フォトレジスト用モノマーあるいは溶解抑止剤などとして有用な、溶解特性、露光感度、解像度、ラフネス、耐熱性等に優れ、特に現像液に対する溶解抑止効果に優れた脂環式化合物、その製造方法、それを含む組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】アダマンタン骨格にコール酸類エステル構造含有基が結合した脂環式化合物、その製造方法、それを含む組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】超微細領域での、特に、電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光リソグラフィーにおける、高感度、高解像性、良好なパターン形状、および良好なラインエッジラフネスを同時に満足するパターンを形成可能な感活性光線または感放射線性樹脂組成物、それを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解してアルカリ水溶液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）製膜により膜表面に偏在する化合物、を含有することを特徴とする感活性光線または感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】良好な形状で、ＬＷＲの小さいレジストパターンを形成でき、基板とのマッチングが良好なポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物の基材として利用できる高分子化合物、およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ）は、末端にカルボキシル基を有する脂肪族炭化水素基を側鎖に含む特定のアクリル酸系エステルから誘導される構成単位（ａ０）、環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基がエステル結合した脂肪族炭化水素基を側鎖に含む特定のアクリル酸系エステルから誘導される構成単位（ａ５）及び酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有する。 （もっと読む）

【課題】良好な形状で、ＬＷＲの小さいレジストパターンを形成でき、基板とのマッチングが良好なポジ型レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、末端にカルボキシル基を有する脂肪族炭化水素基を含む特定のアクリル酸系エステルから誘導される構成単位（ａ０）、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）を少なくとも２種、及びラクトン含有環式基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ２）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】良好な形状のレジストパターンを形成できるレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、および含窒素化合物（Ｄ）を含有するレジスト組成物であって、前記含窒素有機化合物（Ｄ）が、アンモニウム塩化合物であって、アニオンが、下記式（ｄ１−１）〜（ｄ１−３）のいずれかで表されるアニオンであることを特徴とするレジスト組成物。
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【課題】 １液型又はドライフィルムとして保存安定性に優れ、感度、アルカリ現像性及びビア形状が良好で、且つ硬化膜の耐クラック性、ＨＡＳＴ耐性に優れる感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、ソルダーレジスト及びプリント配線板を提供する。
【解決手段】 （Ａ）バインダーポリマーと、（Ｂ）エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｄ）熱硬化剤と、を含有し、前記（Ｂ）成分が、（Ｂ−１）分子内にフルオレン骨格、及びオキシエチレン基又はオキシプロピレン基を含む感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】良好な形状のレジストパターンを形成できるレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、および含窒素化合物（Ｄ）を含有するレジスト組成物であって、前記含窒素有機化合物（Ｄ）が、下記一般式（ｄ１）［式中、Ｒ^１〜Ｒ^４はそれぞれ独立に置換基を有していてもよいアルキル基であり、Ｒ^５は置換基を有していてもよい炭化水素基である。］で表される化合物（Ｄ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。
［化１］
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【課題】焦点深度が広く、ＬＷＲ及びＭＥＥＦが小さく、パターン倒れ特性に優れ、かつ、現像欠陥性能にも優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式(１)および（２）で表される繰り返し単位と、カーボネート構造を有する繰り返し単位（３）をそれぞれ１種類以上含むことを特徴とする重合体（Ａ）、ならびに感放射線性酸発生剤（Ｂ）を含有する感放射線性樹脂組成物。
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【課題】波長３６５ｎｍや４０５ｎｍの光に対する感度が高く、経時安定性に優れ、加熱経時による着色が抑制された硬化膜を形成可能な感光性組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）重合性化合物、（Ｂ）バインダー樹脂及び（Ｃ）オキシムエステル化合物と一般式（１）〜（４）で示される化合物から選択された少なくとも１種の化合物とを含む光重合開始系を含む感光性組成物。
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【課題】波長３６５ｎｍや４０５ｎｍの光に対する感度が高く、経時安定性に優れ、現像性が良好な感光性組成物、およびカラーフィルタ用着色感光性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合性化合物、（Ｂ）バインダー樹脂、および（Ｃ）光重合開始系を含み、該（Ｃ）光重合開始系が、（Ｃ−１）オキシムエステル化合物と、（Ｃ−２）増感剤と、（Ｃ−３）下記一般式（１）〜（４）から選ばれた少なくとも１種以上の化合物とを含有する感光性組成物。
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【課題】反射防止膜を使用したレジストパターニング工程におけるパターニング性に優れる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の半導体装置の製造方法は、半導体ウェーハ１０上に第１の反射防止膜１１を形成する工程と、第１の反射防止膜１１上に第２の反射防止膜１２を形成する工程と、第２の反射防止膜１２上にレジスト膜１３を形成する工程と、レジスト膜１３を選択的に露光する工程と、この露光後にレジスト膜１３及び反射防止膜１１、１２を現像する工程と、この現像により得られたレジスト膜１３のパターンをマスクに半導体ウェーハ１０に対する処理を行う工程とを備え、第１の反射防止膜１１の感光剤濃度は第２の反射防止膜１２の感光剤濃度よりも高い。 （もっと読む）

【課題】
高い遮光性を有し、現像性、解像性（感度等）及びパターン形状（直線性等）に優れる感光性黒色組成物を提供することにある。又、本発明の他の目的は、遮光性が高く、解像性及びパターン形状（直線性等）に優れるブラックマトリックスを備えたカラーフィルタを提供することにある。
【解決手段】
カーボンブラック、光重合開始剤、エチレン性不飽和化合物、並びに、分子内に２つの水酸基と１つのチオール基とを有する化合物の存在下に、エチレン性不飽和単量体をラジカル重合してなる、片末端領域に２つの水酸基を有するビニル重合体中の水酸基と、テトラカルボン酸無水物中の酸無水物基と、を水酸基過剰で反応させてなる水酸基を有する化合物中の水酸基と、１つのイソシアネート基を有し且つ光硬化性部位を有する化合物中のイソシアネート基と、を反応させてなる感光性樹脂等からなる群から選ばれる感光性樹脂を含有してなる感光性黒色組成物により解決。 （もっと読む）

【課題】３００ｎｍ以下の波長の高エネルギー線又は電子線を用いてパターンを形成するレジスト組成物のベース樹脂に矩形性のよいパターンが形成できる新規な酸性基を有する繰り返し単位を導入する。
【解決手段】下記一般式（２）で示される繰り返し単位（ａ）を含む重量平均分子量１，０００〜１，０００，０００の含フッ素高分子化合物。
【化】



（式中、Ｒ¹は重合性二重結合含有基、Ｒ²はフッ素原子または含フッ素アルキル基、Ｒ³及は水素原子、酸不安定性基、架橋基またはその他の一価の有機基、Ｗ¹は連結基を表す。） （もっと読む）

【課題】高感度なポジ型のリソグラフィー性能を有し、かつ角のないパターン形状を形成可能な感光性樹脂組成物、該組成物を用いた硬化レリーフパターンの製造方法、並びに該硬化レリーフパターンを有してなる半導体装置を提供すること。
【解決手段】以下の：
（Ａ）アルカリ水溶液可溶性重合体１００質量部、
（Ｂ）光酸発生剤１〜５０質量部、及び
（Ｃ）置換基を有していてもよいベンゼン環、ナフタレン環又はアントラセン環からなる化合物であって、そのα位に、ＯＨ基と少なくとも一つの電子供与基とを有し、かつ、ＯＨ基をその分子内に1つのみ有する化合物１〜３０質量部、
を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）