【課題】プリント配線基板表面の絶縁層（レジスト層）からの光の反射が少なく、形成した絶縁層パターン開口部のアンダーカットが小さく、開口部の実装パッドに生じるシミや変色のない撮像用半導体チップの実装に適したプリント配線基板の提供。
【解決手段】配線４が形成された基板３に第１レジスト層２を形成する工程と、前記第１レジスト層２上に第２レジスト層１を形成する工程と、所定のマスクを用いて前記第１及び第２レジスト層を同時に硬化する露光工程と、前記第１及び第２レジスト層の未硬化部分を同時に溶解する現像工程と、ポストキュアを行なう工程とを含み、前記第２レジスト層が、光の反射を抑制する黒色のレジスト層であるプリント配線基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】露光照度依存性が小さく、残膜率が高く、現像残渣が少なく、解像性に優れたパターンを安定的に形成できる感光性透明樹脂組成物、可視光での透過率の落ちが少なく、精細で高品質の画像表示が可能なカラーフィルタ及びその製造方法の提供。
【手段】重合性モノマー、アルカリ可溶性樹脂、光重合開始剤及び式（Ｉ）で表される化合物を含有する感光性透明樹脂組成物、該組成物を用いたカラーフィルタ及びその製造方法。
【化１】


Ｒ^１及びＲ^２は、各々独立に、水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、又は炭素原子数６〜２０のアリール基を表す。Ｒ^１とＲ^２とは互いに同一でも異なっていてもよいが、同時に水素原子を表すことはなく、Ｒ^１及びＲ^２は窒素原子と共に環状アミノ基を形成してもよい。Ｒ^３及びＲ^４は、各々独立に電子求引基を表す。Ｒ^３及びＲ^４は、互いに結合して環状電子求引基を形成してもよい。 （もっと読む）

【課題】紫外領域から赤外領域までの広い範囲での遮光性を有し、感度が高く、且つサイドエッジが少ない感光性組成物を提供し、それを用いた固体撮像素子用感光性組成物、固体撮像素子用遮光性カラーフィルタ、および固体撮像素子を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合性化合物、（Ｂ）バインダーポリマー、（Ｃ）光重合開始剤、および（Ｄ）チタンブラック分散物 を含み、且つ（Ａ）重合性化合物／（Ｂ）バインダーポリマーの質量比が１．０以下であることを特徴とする感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜上に設けられる反射防止膜形成用組成物及び反射防止膜形成用組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】レジスト膜上に設けられる反射防止膜形成用組成物であって、（ａ）酢酸ビニル構成単位を有する水溶性樹脂及び（ｂ）下記式で表される構成単位を有する化合物を含む反射防止膜形成用組成物による。


［式中、Ｒ^１及びＲ^２は直接結合又はメチレン鎖、Ｒ^３及びＲ^４は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基又は−（ＣＨ_２）_ｎ−Ｏ−Ｒ^５−Ｒ^６基であって、Ｒ^３及びＲ^４の少なくとも１つは−（ＣＨ_２）_ｎ−Ｏ−Ｒ^５−Ｒ^６基であり、Ｒ^５は直接結合又は−Ｏ−で中断されていてもよい炭素数１〜１０のアルキレン鎖、Ｒ^６は一部又は全ての水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１〜１０のアルキル基、ｎは０〜１０の整数を表す。］ （もっと読む）

【課題】広い露光ラチチュード、ラインエッジラフネスの低減、良好なパターン形状及びドライエッチング耐性を満たし、更に現像後の欠陥が少ないパターンを形成することができるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）式（Ｉ）、(II)及び(III)により表される繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂、および（Ｂ）活性光線または放射線の照射によりフッ素を含有する酸を発生する化合物を含有する感活性光線または感放射線性樹脂組成物。（式（II）〜(III)中の符号は明細書に記載の意味を表す。）
【化１】
（もっと読む）

【課題】活性エネルギー線の照射によりパターン形成が可能で、エッチングに対する保護膜、層間絶縁膜、表面保護膜を形成しうるネガ型感光性樹脂組成物であって、感度、解像性、パターン形状及びアルカリ現像性に優れるネガ型感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶なフェノール樹脂、（Ｂ）フェノール性水酸基を有する特定の化合物、及び（Ｃ）光酸発生剤を含有することを特徴とするネガ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【解決手段】紫外線、遠紫外線、電子線、ＥＵＶ、Ｘ線、エキシマレーザー、γ線、又はシンクロトロン放射線の高エネルギー線に感応し、一般式（１ａ）で示されるスルホン酸を発生する化学増幅型レジスト材料用の光酸発生剤。
ＲＯＣ（＝Ｏ）Ｒ¹−ＣＯＯＣＨ₂ＣＦ₂ＳＯ₃^- Ｈ⁺ （１ａ）
（ＲＯは水酸基、又は炭素数１〜２０のオルガノオキシ基を示す。Ｒ¹は炭素数１〜２０の二価の脂肪族基を示し、ＲＯと共に単環もしくは多環構造を形成していてもよい。）
【効果】本発明の光酸発生剤は、レジスト材料中の樹脂類との相溶性がよく、酸拡散制御を行うことができる。これらスルホン酸を発生する光酸発生剤はデバイス作製工程での塗布、露光前焼成、露光、露光後焼成、現像の工程に問題なく使用できる。更にはＡｒＦ液浸露光の際の水への溶出も抑えることができるのみならず、ウエハー上に残る水の影響も少なく、欠陥も抑えることができる。 （もっと読む）

【課題】ラインエッジラフネス、及びパターン倒れが改善されたポジ型感光性組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）オオニシパラメータが５．０以下のラクトン構造を有する繰り返し単位と、酸の作用によりカルボン酸を生成する一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。（式中の符号は明細書に記載の意味を表す。）
【化１】
（もっと読む）

【課題】本発明の目的は、遠紫外線光、特に波長が１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザを用いるミクロフォトファブリケーションの性能向上技術の課題を解決することであり、より具体的には、微細なパターン形成においてもパターン倒れが発生し難く、良好な解像性を示すネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）分子量２０００以下のオキセタン構造を有する低分子化合物を有する化合物、（Ｃ）光カチオン重合開始剤、を含有することを特徴とする、ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】膜減りしにくく、パターン倒れしにくいネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ可溶性樹脂を架橋する架橋剤、（Ｃ１）活性光線又は放射線の照射により架橋反応を進行させる化合物、（Ｃ２）光ラジカル発生剤、、および、（Ｄ）ラジカル重合性基を有する化合物、を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】高コントラストのパネル設計であっても、画素形成後の研磨やＯＣ層形成などの工程を追加することなく、低コストかつ平易な方法で、ブラックマトリックスと着色画素との境界部分での盛り上がりが抑制され、高品質の画像を表示することができるカラーフィルタ及びその製造方法並びに液晶表示装置を提供する。
【解決手段】コントラストが５０００以上であり、かつ、ブラックマトリックスを構成する隔壁４の側面と底面との成す角度θが１０°〜３５°の範囲にあるとともに、該角度θの相対標準偏差が０．１５以下であることを特徴とするカラーフィルタ及びそれを備えた液晶表示装置。現像によってアンダーカットの長さが１．０〜８．０μｍの隔壁により構成されるブラックマトリックスを形成した後、ベークすることにより、ブラックマトリックスの隔壁側面が上記角度となるように熱変形させる。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体素子、液晶表示装置、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにはその他のフォトファブリケーションのリソグラフィ工程に用いられる、膜減りしにくく、パターン倒れしにくいネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ可溶性樹脂を架橋する架橋剤、（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により架橋反応を進行させる化合物、（Ｄ）カチオン重合性基を有する化合物、を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法。 （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）で示されるスルホニウム塩を含有する高分子化合物。


【効果】上記繰り返し単位を含有する高分子化合物を感放射線レジスト材料のベース樹脂として用いた場合、高い解像性能を発揮し、パターンのＬＥＲが小さく仕上がる。 （もっと読む）

【課題】現像後のレジストパターンのディフェクト、特に微細なスカムやマイクロブリッジの発生を抑制でき、またラインエッジラフネスの小さいレジスト組成物の製造方法、レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）特定の繰り返し構造単位を含有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、（Ｃ）溶剤、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物を製造する方法であって、濾過工程を含み、その過程においてナイロンからなる濾過膜を有するフィルターを通過させることを特徴とするポジ型レジスト組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】感度、解像度及び耐熱性に優れる硬化パターンまたは硬化膜を形成できる感光性樹脂組成物を提供すること。また、前記感光性樹脂組成物の使用により、感度、解像度及び耐熱性に優れ、良好な形状のパターンが得られるパターン形成方法を提供すること。また、良好な形状と特性のパターンを形成することにより、信頼性の高い電子デバイスを提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるモノマーと下記一般式（２）で表されるモノマーとを反応して得られる高分子化合物（ａ）と感光剤（ｂ）を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。
（もっと読む）

【課題】高解像性、良好なパターン形状、充分な焦点深度を有し、同時に現像後の欠陥が少なく、かつプラズマエッチング耐性に優れたレジスト組成物の提供。
【解決手段】（Ａ)一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される各繰り返し単位を全て含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂および（Ｂ)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法。Ａは酸の作用により分解し脱離する基、Ｒ₁は各々独立して水素またはメチル基、Ｒ₂はフェニル基またはシクロヘキシル基を表す。ｍは１または２、ｎは０〜２の整数を表す。
（もっと読む）

【課題】ラインエッジラフネス、及び露光ラチチュードに優れたポジ型感光性組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）ラクトン構造を有する繰り返し単位と、ファンデルワールス体積が３０６×１０^−３０ｍ^３以下である繰り返し特定構成単位を有する、酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸解離指数ｐＫａが−５．０以上のベンゼンスルホン酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物、並びに該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】感度、解像度及び耐熱性に優れる硬化パターンまたは硬化膜を形成できる感光性樹脂組成物を提供する。また、前記感光性樹脂組成物の使用により、感度、解像度及び耐熱性に優れ、良好な形状のパターンが得られるパターンの製造法を提供する。また、良好な形状と特性のパターンを形成することにより、信頼性の高い電子デバイスを提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるモノマーと下記一般式（２）で表されるモノマーとを反応して得られる高分子化合物（ａ）と感光剤（ｂ）を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。


（ここで、Ｔは酸素原子および/もしくは硫黄原子を示す。Ａｒ_１、Ａｒ_２は炭素数６〜３０の２〜６価の有機基を示し、置換基によって置換されていてもよい。Ｒ_１およびＲ_２は水素原子またはシリル基を表し、各々が異なっていても同じであってもよい。Ｘ_１およびＸ_２は脱離基を表し、各々が異なっていても同じであってもよい。Ｙは酸性基または酸分解性基で保護された酸性基を含む基を表す。高分子化合物中に含まれる複数のＹは、１種類でも、２種類以上でもよい。ａ、ｂは各々０〜４の整数であり、ａ+ｂ≧１である。） （もっと読む）

【課題】露光ラチチュード及びラインエッジラフネス性能が改善されたポジ型感光性組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位と一般式(II)で表される繰り返し単位を有する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物、並びに該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法。（式中の各符号は明細書に記載の意味を有する。）
【化１】
（もっと読む）

【課題】遠紫外線光、特に波長が１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザを用いるミクロフォトファブリケーションの性能向上技術の課題を解決することであり、より具体的には、感度、パターン形状、パターン倒れに優れたネガ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）酸の作用により架橋する化合物、（Ｃ）光酸発生剤、を含むネガ型レジストであって、前記（A）アルカリ可溶性樹脂が下記一般式（ＳＦ）で表されるスルホンアミド構造を有する繰り返し単位を含む樹脂であることを特徴とする、ネガ型レジスト組成物。


式（ＳＦ）中、＊は単結合又は有機基を表し、Ｒ^ＳＦは、アルキル基を表す。ただし該アルキル基は、１個以上の水素原子がフッ素原子で置換されたアルキル基を表す。 （もっと読む）