【解決手段】カルボキシル基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位と、ラクトン環とフェノール性水酸基を同一分子内に有する繰り返し単位を含む重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物をベース樹脂にしていることを特徴とするポジ型レジスト材料。
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度で高解像性を有し、露光後のパターン形状が良好で、その上特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】露光感度、現像性、パターン断面形状が良好であり、かつ、オーバーコート層との密着性に優れたカラーフィルタ材料として好適な感光性着色組成物、及び該組成物を用いて形成されたカラーフィルタ基板を提供する。
【解決手段】赤色感光性着色組成物の固形分中のウレタン基数を４．０×１０-⁴ｍｏｌ／ｇ以上、２．０×１０^-3ｍｏｌ／ｇ以下、かつ、固形分中の顔料を３５質量％未満、緑感光性着色組成物の固形分中のウレタン基数を１．４×１０-⁴ｍｏｌ／ｇ以上、１．５×１０^-3ｍｏｌ／ｇ以下、かつ、固形分中の顔料を３３質量％未満、青色感光性着色組成物の固形分中のウレタン基数を１．８×１０-⁴ｍｏｌ／ｇ以上、１．５×１０^-3ｍｏｌ／ｇ以下、かつ、固形分中の顔料を３０質量％未満とし、この感光性着色組成物を用いてカラーフィルタを形成する。 （もっと読む）

【課題】半透過型液晶表示装置のカラーフィルタ基板であって、透明着色画素の着色反射部に特に、径１０μｍあるいはそれ以下の微細なスルーホールを再現することができ、かつ高感度、現像プロセスマージンに優れ、オーバーコート層との密着性に優れる感光性着色組成物からなるカラーフィルタ基板を提供する。
【解決手段】少なくとも、(a)感光性透明樹脂(b)非感光性透明樹脂(c)３つ以上のエチレン性不飽和二重結合を有する多官能モノマー(d)重合開始剤(e)着色材(f)重合禁止剤、及び(g)溶剤を含有する感光性着色組成物であって、前記着色材(e)は青色、シアン色、紫色のいずれかであり、前記３つ以上のエチレン性不飽和二重結合を有する多官能モノマー(c)の分子量が１０００以上であり、重量モル濃度が、感光性透明樹脂と非感光性透明樹脂、及び多官能モノマーの合計重量を基準として４．１×１０^-3〜５．５×１０^-3ｍｏｌ／ｇの範囲であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高精細かつ高アスペクト比のパターンを形成するために、露光量マージンが大きく、かつ感度の高いネガ型感光性ペーストを提供する。
【解決手段】低軟化点ガラス粉末を含む無機成分ならびに感光性有機成分およびチタノセン誘導体を含む有機成分からなり、塗布、乾燥して膜厚１５０μｍの塗布膜を形成した時の波長４０５ｎｍにおける全光線透過率をＴ_１（％）、４３６ｎｍにおける全光線透過率をＴ_２（％）としたとき、Ｔ_１＞Ｔ_２であることを特徴とするネガ型感光性ペーストとする。 （もっと読む）

【課題】露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高感度で高解像性を有し、露光後のパターン形状が良好で、特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示し、超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適な化学増幅ポジ型レジスト材料を提供する。
【解決手段】カルボキシル基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位と、式（１）の基を有する繰り返し単位を含む重量平均分子量１，０００〜５００，０００の高分子化合物をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


（Ｒ¹、Ｒ²は水素原子、又はＲ¹とＲ²は互いに結合してメチレン基、エチレン基又は−Ｏ−を形成する。Ｒ³は単結合又はメチレン基、Ｒ⁴は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、アセチル基、又は酸不安定基、ｍは１〜４の整数） （もっと読む）

【課題】低露光量でもパターンエッジの欠けおよびアンダーカットを生じることがなく、且つ現像時に未溶解物が残存したりパターンエッジにスカムを生じたりすることなく微細パターンの形成が可能である新規な感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）側鎖に特定のオキシラニル基に不飽和結合を有するカルボン酸を付加反応して得られた基を有する重合体を含有してなる重合性不飽和化合物、および（Ｃ）光重合開始剤を含有することを特徴とする感放射線性組成物。 （もっと読む）

【課題】ＬＥＲとエッチング耐性とのバランスがとれ、極微細で均一なパターン形成を可能とするリソグラフィー用重合体とその製造方法、リソグラフィー用組成物及び該組成物を使用した半導体の製造方法の提供。
【解決手段】芳香族環式基を有するアセタール結合で架橋された重合体、すなわち、下記式で示す繰り返し構造単位を有する重合体により上記課題を解決する。一般式（Ｉ）中、Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁶は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基又はハロアルキル基を表す。Ｒ²、Ｒ⁵、は各々独立に、水素原子、シアノ基、等を表す。Ｘ¹、Ｘ²は各々独立に、単結合、あるいは置換基を有していても良い２価のアルキレン基、アルケニレン基、シクロアルキレン基、等を表す。Ｘ³、Ｘ⁴は各々独立に、単結合、もしくは−ＣＯ−を表す。Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰は、各々独立に、水素原子、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。
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【課題】フリージングプロセスにおいて第一のレジストパターンに対して特別な化学処理を施すことなく、第二のレジストの溶剤及び現像液に対して実質的に溶解せず、且つ第二のレジストパターン形成後においても形状を悪化させずにラインエッジラフネスが良好な第一のパターンを形成することができる、新規なフリージング処理用のポジ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有するポジ型レジスト組成物において、樹脂（Ａ）が、（ａ１）酸の作用により分解し、アルカリ可溶性基を生じる基を持つ繰り返し単位と、（ａ２）加熱により樹脂間を架橋する官能基を有する繰り返し単位、とを有する樹脂である、ポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は上記事情に鑑みて成されたものであり、前記フリージングプロセスにおいて第一のレジストパターンに対して特別な化学処理を施すことなく、第二のレジストの溶剤及び現像液に対して実質的に溶解せず、且つ第二のレジストパターン形成後においても形状を悪化させずにラインエッジラフネスが良好な第一のパターンを形成することができる、新規なフリージング処理用のポジ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（Ｃ）加熱により樹脂間を架橋する官能基を有する化合物、を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】半透過型液晶表示装置のカラーフィルタ基板の透明着色画素の着色反射部ｂに特に、径１０μｍあるいはそれ以下の微細なスルーホールを再現することができ、かつ高感度、現像プロセスマージンに優れ、オーバーコート層との密着性に優れる感光性着色組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】(a)感光性透明樹脂、(b)非感光性透明樹脂、(c)３つ以上のエチレン性不飽和二重結合を有する多官能モノマー、(d)重合開始剤、(e)着色材、(f)重合禁止剤、及び(g)溶剤を含有して構成される感光性着色組成物であって、該着色材(e)は赤色、マゼンタ色、黄色のいずれかであり、該重合禁止剤(f)が化学式（１）で表される化合物であり、該着色組成物中の3つ以上のエチレン性不飽和二重結合を有する多官能モノマー(c)の重量が、感光性透明樹脂(a)、および非感光性透明樹脂(b)の合計重量の１．０〜２．０倍である感光性着色組成物である。 （もっと読む）

【課題】高屈折率液浸リソグラフィに用いる非水液によるレジスト膜への影響を防止して、良好な形状を有する微細化パターンを得られるようにする。
【解決手段】基板１０１の上にレジスト膜１０２を形成し、形成したレジスト膜１０２の上に、スルホニル基を主鎖に持つポリマー、例えばポリブテンスルホンを含むバリア膜１０３を形成する。続いて、バリア膜１０３の上に非水液である例えばヘキサンを配した状態で、バリア膜１０３を介してレジスト膜１０２に露光光を選択的に照射することによりパターン露光を行う。続いて、バリア膜を除去し、その後、レジスト膜１０２に対して現像を行って、レジスト膜１０２からレジストパターン１０２ａを形成する。 （もっと読む）

【課題】半導体装置製造に用いられるフォトレジスト用モノマー原料や該モノマーなどとして有用な、露光感度、溶解性、相溶性、ディフェクト低減、ラフネス改善等に優れた脂環構造含有化合物、（メタ）アクリル酸エステル類及びその製造方法、（メタ）アクリル系重合体並びにポジ型レジスト用組成物を提供すること。
【解決手段】エステル結合を有する連結基及びエーテル結合を有する連結基を含む脂環構造含有化合物、該脂環構造含有化合物から誘導される（メタ）アクリル酸エステル類及びその製造方法、該（メタ）アクリル酸エステル類に基づく単量体単位を含む（メタ）アクリル系重合体並びに該（メタ）アクリル系重合体を含有するポジ型レジスト組成物である。 （もっと読む）

【課題】ＬＤＩ方式に適用した場合でも優れた感度が得られ、且つ、充分な保管安定性を有し、アンダーカットやオーバーハング等のない良好なレジスト形状を有するレジストパターンを形成することができる感光性樹脂組成物、感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及び永久レジストを提供する。
【解決手段】（ａ）カルボキシル基及びエチレン性不飽和基を有する感光性プレポリマー、（ｂ）エチレン性不飽和基を有する光重合性モノマー、（ｃ）光重合開始剤、及び（ｄ）熱硬化剤を含有する感光性樹脂組成物であって、前記（ｄ）熱硬化剤が一般式（１）で表されるマレイミド化合物を含有する感光性樹脂組成物。
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【課題】ウォーターマーク欠陥やＢｌｏｂ欠陥等を抑制することができる上層膜用組成物を提供すること。
【解決手段】一般式（１）及び（２）で表される単位のいずれか、並びにそれ以外の特定の単位を有する重合体（Ａ）を含む重合体と溶剤とを含有する上層膜用組成物。
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【課題】解像度、現像性及び電気特性に優れ、微細パターンを精度良く形成できる着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物は、アルカリ現像型感光性樹脂組成物に色材（Ｇ）を含有させてなる着色アルカリ現像型感光性樹脂組成物において、該アルカリ現像型感光性樹脂組成物が、化合物（Ｚ）及び光重合開始剤（Ｆ）を含有してなり、該化合物（Ｚ）が、多官能エポキシ化合物（Ａ）に不飽和一塩基酸（Ｂ）を反応させて得られる構造を有する化合物（Ｘ）と、ポリヒドロキシ芳香族化合物（Ｃ）にエポキシ化合物（Ｄ）を反応させて得られる構造を有する化合物（Ｙ）とを、多塩基酸無水物（Ｅ）で架橋させて得られる構造を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用のクエンチャー成分として有用な新規な化合物、クエンチャー成分として該化合物を含有するレジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、およびクエンチャー成分（Ｄ）を含有するレジスト組成物であって、前記クエンチャー成分（Ｄ）が、カチオン部に芳香族基を有さないオニウム塩（Ｄ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用のクエンチャーとして有用な新規な化合物、該化合物からなるクエンチャーを含有するレジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、およびクエンチャー成分（Ｄ）を含有するレジスト組成物であって、前記クエンチャー成分（Ｄ）が、下記一般式（ｄ１−３）で表される化合物からなるクエンチャー（Ｄ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。式（ｄ１−３）中、Ｒは水素原子、フッ素原子、アルキル基又はフッ素化アルキル基であり；Ｘは−Ｃ（Ｏ）−又は−ＳＯ_２−であり；Ｒ’は脂肪族基であり；ｎは１〜１０の整数であり；Ａ^＋は芳香族基を有さない脂肪族有機カチオンである。
［化１］
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【課題】液浸露光に於いて、レジストパターンの倒れ、プロファイルの劣化が少なく、液浸液への溶出が抑制された液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合溶媒として、鎖状ケトン、環状ケトン、鎖状エーテル及び環状エーテルからなる群から選択される溶剤を用いて製造された、特定の、シクロアルキル構造を有する繰り返し単位を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する液浸露光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】機能性材料、医薬・農薬等の原料として有用であり、なかでも波長５００ｎｍ以下、特に波長３００ｎｍ以下の放射線に対して優れた透明性を有し、現像特性の良好な感放射線レジスト材料のベース樹脂を製造するための単量体の提供。
【解決手段】一般式（１）で示されるカルボキシル基を有するラクトン化合物。


（Ｒ¹はＨ、Ｆ、メチル基又はトリフルオロメチル基。Ｒ²、Ｒ³はＣ１〜１０の１価炭化水素基又はＨ。あるいは、Ｒ²、Ｒ³は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に脂肪族炭化水素環を形成してもよい。Ｗは−ＣＨ₂、−Ｓ−又は−Ｏ−。ｋ¹は０〜４の整数。ｋ²は０又は１。） （もっと読む）

【課題】良好な形状のレジストパターンを形成できるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、γ−ブチロラクトンと、一般式（ｄ１）［式中、Ｒ^１〜Ｒ^３はそれぞれ独立して置換基を有していてもよい炭化水素基であって、Ｒ^１〜Ｒ^３のうち少なくとも１つが極性基含有炭化水素基であり、かつ、Ｒ^１〜Ｒ^３のうち少なくとも１つが疎水基である。ただし、Ｒ^１〜Ｒ^３のいずれか２つが相互に結合して式中の窒素原子と共に環を形成してもよい。］で表され、かつ、分子量が２００以上である含窒素有機化合物（Ｄ１）とを含有するレジスト組成物。
［化１］
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