【課題】従来から要望されているカラーフィルタに対する特性を付与することができるとともに、優れた感度を示す着色感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】メタアリル基を有する化合物（Ａ）、２個以上のメルカプト基を有する化合物（Ｂ）、アクリロイル基及びメタアクリロイル基からなる群から選ばれる２以上の基を有する化合物（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）、着色剤（Ｅ）及びアルカリ可溶性樹脂（Ｆ）を含有する着色感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】永久膜用途に用いられ、ハロンゲンを含有する感光剤を用いていない感光性樹脂組成物、ドライフィルム、及びこのドライフィルムを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）脂環式エポキシ基を有するポリマー、（Ｂ）ラジカル重合性基を有するモノマー、（Ｃ）ラジカル重合開始剤、及び（Ｄ）光照射によってスルホン酸を発生する感光剤を含む感光性樹脂組成物は、永久膜用途に用いたとしても、微細部品等に用いられる材料を腐食させることがないので、永久膜用途の感光性樹脂組成物として、好適に使用することができる。 （もっと読む）

【課題】
フォトリソ工程に必要な現像性と光反応性を損なうことなく、かつ硬化収縮が少なく反りの無い基板を提供できる光硬化性熱硬化性樹脂組成物、ドライフィルム及びそれらの硬化物を提供すること。
【解決手段】
本発明のアルカリ現像可能な光硬化性熱硬化性樹脂組成物は、一分子中に（メタ）アクリロイル基とカルボキシル基を併せ持つ重量平均分子量が２，０００〜５０，０００である化合物と、光重合開始剤から構成された感光性成分と、熱硬化性成分を含有し、不飽和二重結合を有するモノマーを含有しないことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高温下に晒されたとしても変色が生じ難く、かつ基板等に対する密着性が低下し難いレジスト膜を得ることを可能とする感光性組成物の提供。
【解決手段】１分子中に少なくとも１つのカルボキシル基を有する重合性炭化水素モノマーもしくは重合性炭化水素ポリマーである重合性炭化水素化合物（Ａ）と、（Ｂ）１分子中に少なくとも２つの環状エーテル基を有する化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｄ）下記の式（１）で表されるアンモニウム塩または特定構造で表されるホスホニウム塩を含む、感光性組成物。
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【課題】感度が良好で、良好なパターン形状の微細パターンを形成可能で、未露光部の残膜の少ないネガ型レジスト組成物、該ネガ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法、を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）少なくとも１種のカチオン重合性基を持つ化合物、（Ｃ）光カチオン重合開始剤、とを含有するレジスト組成物であって、該レジスト組成物中に異なる複数のカチオン重合性基が存在することを特徴とする、ネガ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】感度が良好で、良好なパターン形状の微細パターンを形成可能なネガ型レジスト組成物、該ネガ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法、を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）カチオン重合性基を持つ化合物、（Ｃ）光カチオン重合開始剤、を含有し、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂が下記一般式（ＳＦ）で表されるスルホンアミド構造を有する繰り返し単位、を含む樹脂であることを特徴とする、ネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法。式（ＳＦ）中、＊は結合手を表し、Ｒ^SFは少なくとも１つのフッ素原子を有する有機基を表す。
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【課題】高解像性、高アスペクト比のパターンを形成でき、かつ高感度で高い保存安定性を有する厚膜用ネガ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される光酸発生剤（Ａ）、ＡＤＲ（アルカリ溶解速度）が１０００Å／ｓ以上であるフェノール樹脂（Ｂ）及び一分子中にエポキシ基を二個以上有するエポキシ樹脂（Ｃ）を含有してなる厚膜用ネガ型レジスト組成物を用いて、厚膜の積層体、パターン等を形成する。
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【課題】発生する塩基の強度が高く、エポキシ系化合物等に適用した場合には、塩基発生
反応が連鎖的に行われ、反応効率に優れる塩基発生剤及び当該塩基発生剤を含有する感光
性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】本発明の塩基発生剤は、ケトプロフェンと、アミジン類あるいはイミダゾール類からなる化合物であり、光によって脱炭酸し、その結果、遊離の塩基を生成する。本発明の塩基発生剤は、塩基性が高く、反応効率が優れることになり、塩基発生剤から発生する塩基とエポキシ系化合物等との反応が連鎖的に進行し、室温レベルでも硬化が速やかに実施されて硬化が十分になされる感光性樹脂組成物となる。かかる効果を奏する本発明の感光性樹脂組成物は、例えば、高感度の光硬化材料やレジスト材料等に好適に用いることができる。 （もっと読む）

【課題】良好な画像解像度、熱安定性、耐薬品及び溶媒溶解性を有し、高感度でかつプレッシャークッカー試験（ＰＣＴ）後の基板への密着性が低下しない感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】光カチオン重合開始剤（Ａ）と１分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂（Ｂ）を含有してなるＭＥＭＳ用感光性樹脂組成物であって、光カチオン重合開始剤（Ａ）がトリフルオロメチルスルホニウム含有イオン化合物からなる光カチオン重合開始剤であるＭＥＭＳ用感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】良好な画像解像度、熱安定性、耐薬品及び溶媒溶解性を有し、高感度でかつプレッシャークッカー試験（ＰＣＴ）後の基板への密着性が低下しない感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】テトラキスペンタフルオロフェニルボレート錯体からなる光カチオン重合開始剤（Ａ）と１分子中に２個以上のエポキシ基を有する特定構造のエポキシ樹脂（Ｂ）を含有してなるＭＥＭＳ用感光性樹脂組成物。該エポキシ樹脂（Ｂ）の軟化点が４０℃以上１２０℃以下かつエポキシ当量が１５０〜５００／ｅｑ．であるＭＥＭＳ用感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】良好な解像度、熱安定性、耐薬品、溶解性を有し、高感度でかつ基板への密着性が低下しない感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）


（Ｒ₁はアルキル基又はアリール基を、Ｒ₂及びＲ₃はアルキル基、アリール基又はアルケニル基を表す。Ｙはフッ素原子又は塩素原子を、Ｚはフッ素原子、シアノ基、ニトロ基及びトリフルオロメチル基からなる群から選ばれる基２つ以上で置換されたフェニル基を、ｍは０から３の整数、ｎは１から４の整数、ｍ＋ｎ＝４。）で表される光カチオン重合開始剤（Ａ）とエポキシ樹脂（Ｂ）を含有してなるＭＥＭＳ用感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】高感度であり、且つ保存安定性に優れたフォトマスク材料、及び該フォトマスク材料を用いて作製された解像度の高いフォトマスクを提供する。
【解決手段】透明基材上に、（Ａ）遮光材料、（Ｂ）特定構造の増感色素、（Ｃ）ラジカル、酸または塩基を生成しうる開始剤化合物、及び（Ｄ）ラジカル、酸または塩基の少なくともいずれかによって反応する重合性化合物を含有する感光性層を有することを特徴とするフォトマスク材料、及び該フォトマスク材料を用いて作製されたフォトマスク。 （もっと読む）

【課題】光に対する感度が高く、パターンニング性に優れた樹脂組成物を提供する。特に、半導体素子の機能面側に接合して設けられ、前記半導体素子の前記機能面側に形成される空隙を定めるためのスペーサの形成や、半導体素子の保護膜、絶縁膜等の形成に好適に用いることが可能な樹脂組成物を提供する。
【解決手段】エポキシ基を有するノルボルネン系重合体と、特定構造のオニウム塩である感光剤とを含むことを特徴とする。ノルボルネン系重合体は、付加重合体であるのが好ましい。感光剤の含有量は、ノルボルネン系重合体１００重量部に対して、０．１〜１０重量部であるのが好ましい。さらに、酸捕捉剤を含むのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】撥インク性がより向上した着色感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】光重合性化合物（Ａ）と、撥インク性化合物（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）と、着色剤（Ｄ）と、を含有する着色感光性樹脂組成物において、撥インク性化合物（Ｂ）として、エチレン性不飽和基及びケイ素原子に結合した少なくとも１つのアルコキシ基を有するケイ素含有モノマー（Ｂ１）と、該ケイ素含有モノマー（Ｂ１）と共重合可能なフッ素系モノマー（Ｂ２）とを少なくとも共重合させた共重合体を用いる。 （もっと読む）

【課題】高い撥インク性を有し、現像性も良好な着色感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】光重合性化合物（Ａ）と、撥インク性化合物（Ｂ）と、光重合開始剤（Ｃ）と、着色剤（Ｄ）と、を含有する着色感光性樹脂組成物において、撥インク性化合物（Ｂ）として、エチレン性不飽和基及び下記式（ｂ１）で表される構造を有するモノマー（Ｂ１）と、該モノマー（Ｂ１）と共重合可能なフッ素系モノマー（Ｂ２）とを少なくとも共重合させた共重合体を用いる。


（式（ｂ１）中、Ｒ^１ｂは炭素数１〜５のアルキレン基を示し、ｎは１以上の整数を示す。） （もっと読む）

【課題】アルカリ現像性が良好であり、かつ、その硬化物が優れた柔軟性および弾性回復特性を有するフォトスペーサ用感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】親水性樹脂（Ａ）、多官能（メタ）アクリレートモノマー（Ｂ）、エポキシ基、オキセタン基、ビニルエーテル基、およびプロペニルエーテル基からなる群から選ばれる１種または２種以上の反応性官能基を有するカチオン重合性化合物（Ｃ）、光ラジカル重合開始剤（Ｄ）、および酸発生剤（Ｅ）を含有するアルカリ現像可能なフォトスペーサ用感光性樹脂組成物（Ｑ）である。 （もっと読む）

【課題】i線照射により酸を発生する優れた光酸発生剤及びこれを含むフォトリソグラフィ組成物の提供。
【解決手段】光酸発生剤は、式（Ｉ）


（式中、R₁は低級アルキル基であり、R₂は低級アルキル基である。また、R₃は水素又は低級アルキル基である。さらに、X^-はCF₃SO₃^-、PF₆^-、SbF₆^-、BF₄^-、C₄F₉SO₃^-のうちの何れか一つである。）で示される化合物やその異性体などを含むものである。また、フォトリソグラフィ組成物は前記光酸発生剤を含むものである。 （もっと読む）

【課題】工程が簡便で、歩留まりが高く、高精度なアスペクト比の高い微細な構造体の形成を可能にする感光性樹脂製の転写層並びに高アスペクト比の構造体を有する成形体を簡便に作成する方法を確立する。
【解決手段】表面に凹凸の設けられた基板と表面に感光性樹脂層が形成された基材とを該凹凸と感光性樹脂層が内側になるように対向させ、次いで、前記基板と感光性樹脂層を圧着させた後、基材を感光性樹脂層から剥離することにより凹凸の設けられた基板上に感光性樹脂製の転写層を形成する方法において、前記感光性樹脂層が多官能エポキシ樹脂及び光カチオン重合開始剤を含有することを特徴とする前記転写層の形成方法、及びこのようにして得られた転写層にフォトリソグラフィーによるパターニングを施すことにより得られる高アスペクト比の構造体を有する成形体。 （もっと読む）

【課題】オキシラン基又はアンハイドライド基をカーボンナノチューブの表面に化学的方法で導入し、このように表面修飾されたカーボンナノチューブの光硬化によってパターン薄膜を形成し、或いは熱硬化によってカーボンナノチューブの高分子複合体を製造する方法を提供する。
【解決手段】カーボンナノチューブの表面に陽イオン重合に参加することが可能なオキシラン基又はアンハイドライド基を導入し、前記カーボンナノチューブを光酸発生剤又は光塩基発生剤と共に有機溶媒に分散させ、基材上にコーティングした後、フォトマスクを介してＵＶに露光させ、露光部でカーボンナノチューブの陽イオン重合を誘発した後、非露光部を現像液で除去することにより、カーボンナノチューブのネガティブパターンを形成する。また、カーボンナノチューブを熱硬化剤と共に有機溶媒に分散させ、基材上にコーティングした後、熱硬化させてカーボンナノチューブ高分子複合体を製造する。 （もっと読む）

【課題】高感度で熱硬化後にアルカリ溶剤へ耐性がある感光性シロキサン組成物の提供。
【解決手段】（ａ）ポリシロキサン（ｂ）下記一般式（１）で表されるキノンジアジド化合物、（ｃ）溶剤からなる感光性シロキサン組成物。
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