【課題】最終的に得られるポリイミドの化学構造を問わず大きな溶解性コントラストを得られ、形状が良好なパターンを得ることができ、簡便に合成できて安価に入手可能な、高感度の感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表わされる繰り返し単位を有するポリイミド前駆体、及び、光塩基発生剤を含有する、感光性樹脂組成物である。
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【課題】活性エネルギー線の照射によりパターン形成が可能で、エッチングに対する保護膜、層間絶縁膜、表面保護膜を形成しうるネガ型感光性樹脂組成物であって、感度、解像性、パターン形状及びアルカリ現像性に優れるネガ型感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶なフェノール樹脂、（Ｂ）フェノール性水酸基を有する特定の化合物、及び（Ｃ）光酸発生剤を含有することを特徴とするネガ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、透明性、低誘電率特性、耐溶剤性に優れ、ＴＦＴ基板用層間絶縁膜として好適である新規なポリオルガノシロキサン化合物、これを含む感光性樹脂組成物および熱硬化性樹脂組成物並びにパターン形成方法を提供する。
【解決手段】式（１）のポリオルガノシロキサンに含まれるケイ素原子結合水酸基の一部の水素原子が式（２）の酸不安定基で置換及び／又は式（３）の架橋基で架橋され、Ｍｗが３００〜２００，０００のポリオルガノシロキサン化合物。式（１）Ｒ^１_ａＳｉ（ＯＲ^２）_ｂ（ＯＨ）_ｃＯ_{（４−ａ−ｂ−ｃ）／２}。


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【課題】感度、残膜率、保存安定性に優れた、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法であって、硬化させることにより耐熱性、密着性、透過率などに優れる硬化膜が得られる、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法を提供すること。
【解決手段】解離性基が解離することで、カルボキシル基を生じる特定のアクリル酸系構成単位とカルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基を有する構成単位を含有し、アルカリ不溶性若しくはアルカリ難溶性であり、且つ、酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物、及び、波長３００ｎｍ以上の活性光線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物、及び、それを用いた硬化膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、前記問題に鑑みてなされたものであり、耐傷性に優れ、感度、現像ラチテュードに優れ、耐薬品性に優れる平版印刷版材料を提供することである。
【解決手段】支持体上にポジ型画像形成層を有する平版印刷版材料において、該ポジ型画像形成層が下記一般式（１）で表される化合物を含有することを特徴とする平版印刷版材料。
【化１】
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【課題】感度、残膜率、保存安定性に優れた、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法であって、硬化させることにより耐熱性、密着性、透過率などに優れる硬化膜が得られる、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法を提供することである。
【解決手段】解離性基が解離することで、カルボキシル基を生じる特定のアクリル酸系構成単位を含有し、アルカリ不溶性若しくはアルカリ難溶性であり、且つ、酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、エポキシ基含有ラジカル重合性単量体から誘導される構成単位を含有する樹脂、分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物（但し、エポキシ基含有ラジカル重合性化合物からなる構成単位を含有する前記樹脂を除く。）、波長３００ｎｍ以上の活性光線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物、及び、それを用いた硬化膜形成方法。 （もっと読む）

【課題】液浸露光用レジスト組成物用の添加剤として有用な含フッ素化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（ｃ０）で表される含フッ素化合物。
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【課題】現像後のレジストパターンのディフェクト、特に微細なスカムやマイクロブリッジの発生を抑制でき、またラインエッジラフネスの小さいレジスト組成物の製造方法、レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）特定の繰り返し構造単位を含有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、（Ｃ）溶剤、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物を製造する方法であって、濾過工程を含み、その過程においてナイロンからなる濾過膜を有するフィルターを通過させることを特徴とするポジ型レジスト組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高感度で、ポリイミド前駆体の種類を問わず大きな溶解性コントラストを得られ、結果的に十分なプロセスマージンを保ちつつ、形状が良好なパターンを得ることができる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】アントラセン骨格もしくはチオキサントン骨格を有し、塩基発生部位としてＣＨ_２２−Ｙ^＋Ｘ⁻（ここでＹ^＋は特定の第４級アンモニオ基、Ｘ⁻はそのカウンターイオン）が置換された特定の化合物である光塩基発生剤、及びポリイミド前駆体を含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】水に対する安定性が高く、耐熱性に優れ、酸発生剤により発生する酸に対する安定性が高く、現像時の耐アルカリ性に優れる樹脂を得ることができる。
【解決手段】下記式（１）で表される重合性化合物。


式（１）において、Ｒは水素原子またはメチル基を表し、Ｒ’は酸の作用により解離する基を表し、該重合性化合物は、重合体の側鎖にアダマンタン基に由来する嵩高い化学構造を有する基を有し、更に側鎖末端に導入される基を分子設計することで、解離をさせるための活性化エネルギーを任意に調節できる重合体を製造できる。 （もっと読む）

【課題】 アルカリ現像性が良好であり、かつ、その硬化物が優れた液晶配向性、電圧保持特性および弾性回復特性を有する垂直配向型液晶表示素子用の突起を形成するために用いられるアルカリ現像可能な感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
フェノール性水酸基を有する樹脂（Ａ）、光酸発生剤（Ｂ）、および架橋剤（Ｃ）を含有する、垂直配向型液晶表示素子用の突起を形成するために用いられるアルカリ現像可能な感光性樹脂組成物であり、（Ａ）がフェノール性水酸基の一部を酸解離性溶解抑制基で保護してなる樹脂である感光性樹脂組成物（Ｑ）である。 （もっと読む）

【課題】金属のコンタミ、エステル部分の加水分解を起こさずに、所定の保護基のみを選択的に脱離させるアルケニルフェノール系重合体の製造方法、この製造方法によって製造されたアルケニルフェノール系重合体、このアルケニルフェノール系重合体を含有する感度、パーティクル、現像欠陥が改良されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定化合物の単独重合又はビニル芳香族化合物との共重合又はアクリル酸エステルとの共重合又はメタクリル酸エステルとの共重合から得られた重合体から、所定の保護基を脱離させて、アルケニルフェノール系重合体を製造する方法に於いて、脱離剤として特定化合物を用いるアルケニルフェノール系重合体の製造方法、この製造方法によって製造されたアルケニルフェノール系重合体、このアルケニルフェノール系重合体を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 アルカリ現像性が良好であり、かつ、その硬化物が優れた電圧保持特性を有する垂直配向型液晶表示素子用の突起形成に使用される感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
親水性樹脂（Ａ）、ビニルエーテル基又はプロペニルエーテル基を１分子中に３個以上含有するカチオン重合性化合物（Ｂ）、光ラジカル重合開始剤（Ｃ）、および酸発生剤（Ｄ）を含有するアルカリ現像可能な感光性樹脂組成物（Ｑ）を用いて垂直配向型液晶表示装置を形成する。 （もっと読む）

【課題】金属のコンタミを起こさずに、所定の保護基のみを選択的に脱離させるアルケニルフェノール系重合体の製造方法、この製造方法によって製造されたアルケニルフェノール系重合体、このアルケニルフェノール系重合体を含有するパーティクル、感度、現像欠陥が改良されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定化合物の単独重合又はビニル芳香族化合物との共重合又はアクリル酸エステルとの共重合又はメタクリル酸エステルとの共重合から得られた重合体から、所定の保護基を脱離させて、アルケニルフェノール系重合体を製造する方法に於いて、脱離剤として水素酸の非水溶液を用いるアルケニルフェノール系重合体の製造方法、この製造方法によって製造されたアルケニルフェノール系重合体、このアルケニルフェノール系重合体を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】高アスペクト比の周期的な構造を有する３次元モールドを、製造効率良く製造する方法と、この製造方法によって得られる３次元モールド、加工物、及び樹脂成形品を提供する。
【解決手段】本発明の３次元モールドの製造方法では、レジスト層を基体上に備える被加工物を準備する工程、第一の加熱工程、照射工程、第二の加熱工程、及び現像工程を少なくとも有する。レジスト層は、下記一般式（１）で表されるアルコキシシランの加水分解物および縮合物の少なくとも一方を含む。下記一般式（１）において、Ｒ^１は水素原子又は１価の有機基を表し、Ｒ^２は１価の有機基を表し、ｎは１〜３の整数を表す。第二の加熱工程ではレジスト層を３００℃以上で加熱する。更にこの製造方法によって得られる３次元モールドをモールドとして、加工物及び樹脂成形品を作製する。
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【課題】感度、解像性、パターン形状、サイドローブマージン、露光量依存性（ＥＬ）、フォーカス余裕度（ＤＯＦ）性能、ＬＷＲ性能に優れたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解性が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）オキシアルキレン基を有する２価のアミン化合物及び（Ｄ）溶剤を含有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】新規なネガレジスト材料を提供する。
【解決手段】式（I）で示される重合体。


式（Ｉ）中、Ｒは、Ｃ１〜４０のアルキル基、（置換）アリール基、又は（置換）アリールアルキル基であり、Ｒ^２は単結合、Ｃ１〜４０のアルキレン基、又は（置換）アリーレン基であり、Ｒ^３はＣ１〜８のアルキル基、又は少なくとも一つの水素が−ＯＲ^４もしくは水酸基で置換されたフェニル基であり、ｎは２以上の整数である。 （もっと読む）

【課題】屈折率、可視領域での透明性、及び耐熱性に優れるマイクロレンズ及びマイクロレンズ用感光性組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される構成単位を有する重合体（Ａ）、光酸発生剤（Ｂ）、硬化剤（Ｃ）、及び溶剤（Ｄ）を含有する感光性組成物を用いて形成されるマイクロレンズ。


［式（Ｉ）中、Ｒ¹は、水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ_1-12の炭化水素基、又はＣ_7-12のアラルキル基を示す。］ （もっと読む）

【課題】耐熱光透過率に優れたパターンを形成し得る感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いて形成されるパターン及び表示装置を提供する。
【解決手段】ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）、シロキサン化合物（Ｂ）（ただし、（Ａ）を除く。）、感光物質（Ｃ）を含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】短波長放射光１９３ｎｍ以下で十分に低い光学密度を有する新しいフォトレジスト組成物の提供。
【解決手段】（ａ）多環式オレフィンモノマーを含むモノマー配合物、非オレフィン系連鎖移動剤および任意の活性剤化合物を合わせて混合物を形成すること；（ｂ）混合物を加熱すること；および（ｃ）Ｎｉおよび／またはＰｄを含有する重合触媒を加えることを含む、多環式オレフィンモノマーの重合方法。非オレフィン系連鎖移動剤には、Ｈ_２、アルキルシラン、アルキルアルコキシシラン、アルキルゲルマン、アルキルアルコキシゲルマン、アルキルスタナン、およびアルキルアルコキシスタナンからなる群より選択される１種以上の化合物が含まれる。活性剤は、ｐＫａが少なくとも５の活性水素を有することを特徴とする。得られる多環式オレフィンポリマーはフォトレジスト組成物に用いることができる。 （もっと読む）