【課題】光酸発生剤としてレジスト組成物に使用した場合に、高感度且つ高い透明性を実現するレジストを作製できる新規化合物の提供。
【解決手段】
式［１］


（式中、Ｒ¹は、置換又は非置換アリール基を表し、Ｒ²は、水素原子、ハロゲン原子、ＣＮ基、ＮＯ₂基、炭素原子数１〜１０のアルキル基又はアルコキシ基、炭素原子数１〜５
のハロアルキル基又はハロアルコキシ基を表し、Ｒ³は、炭素原子数１〜１０のアルキル
基又はアルコキシ基、炭素原子数１〜５のハロアルキル基又はハロアルコキシ基、Ｗで置換されていてもよいフェニル基、ナフチル基又はアントラニル基を表し、Ｗは、ハロゲン原子、ＣＮ基、ＮＯ₂基、炭素原子数１〜１０のアルキル基又はアルコキシ基、炭素原子
数１〜５のハロアルキル基又はハロアルコキシ基を表す。）で表されるアリール置換ベンジルシアニド系オキシムスルホネート化合物。 （もっと読む）

【課題】水ムラのない画素を与えることができる着色層形成用感放射線性組成物を提供すること、およびプレベーク工程を省いても、十分な諸特性を有する画素及びブラックマトリックスを与えることのできる着色層形成用感放射線性組成物を提供すること。
【解決手段】着色層形成用感放射線性組成物は、（Ａ）着色剤、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）２個以上の重合性不飽和結合を有する単量体、（Ｄ）オキセタニル基を有する化合物、（Ｅ）感放射線性ラジカル発生剤、並びに（Ｆ）特定のオニウムフッ素化アルキルフルオロリン酸塩を含有する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、赤外レーザ露光可能な平版印刷版材料を、地汚れ発生防止性（印刷汚れ発生防止性）に優れ、かつ、しかも耐刷性、にも優れて現像することができる平版印刷版材料の現像処理方法を提供することにある。
【解決手段】アルミニウム支持体の上にアルカリ可溶性樹脂を含有する感光性の画像形成層を有する平版印刷版材料を自動現像機で現像漕内にある回転するブラシローラーと現像液を用いて擦りながら搬送して現像処理する平版印刷版材料の現像処理方法において、該ブラシローラーを構成する植毛が剛性度が１２００ｋｇ／ｃｍ²〜５０００ｋｇ／ｃｍ²の熱可塑性樹脂で構成された発泡糸であり、且つ自動現像機内での平版印刷板材料の搬送速度Ｖｐ（ｃｍ／分）と、該ブラシローラーの回転周速Ｖｒ（ｃｍ／分）の関係が、Ｖｒ／Ｖｐ＝４〜２５であることを特徴とする平版印刷版材料の現像処理方法。 （もっと読む）

【課題】レジストに必要な透明性や酸反応性を損なうことなく、装置汚染の原因となる溶出や脱ガスの恐れが少ない酸発生側鎖としてのスルホニウム塩含有側鎖を含有する樹脂、及び該樹脂の構成成分としてのモノマーの提供。
【解決手段】下記一般式（１）で表されることを特徴とするモノマー。
【化１６】


・・・一般式（１）
前記一般式（１）において、Ｒ_１及びＲ_３は、−Ｈ基及び−ＣＨ_３基のいずれかであり、各々同一でも異なっていても良い。前記一般式（１）において、Ｒ_２は、フェニル基及びアダマンチル基のいずれかを示す。前記一般式（１）において、Ｑ_１は、炭素数１〜４のパーフルオロアルキル基を表す。 （もっと読む）

【課題】ダブルパターニング法によるパターン不良の発生を防止して、良好な形状を有する微細パターンを得られるようにする。
【解決手段】基板１０１の上にポジ型化学増幅レジストからなるレジスト膜１０２を形成し、その上にアルカリ可溶で芳香環を有するフッ素ポリマーを含む光吸収膜１０３を形成する。その後、第１のマスクを介した極紫外線からなる第１の露光光１０４をレジスト膜に光吸収膜を通して照射することにより第１のパターン露光を行う。続いて、第２のマスクを介した露光光１０５をレジスト膜に光吸収膜を通して照射することにより第２のパターン露光を行う。基板を加熱した後、レジスト膜を現像して光吸収膜を除去すると共にレジスト膜からレジストパターン１０２ａを形成する。第２のマスクの開口部は、第１のマスクにおける開口部が形成されていない非開口部に相当する領域に形成されている。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜を形成する工程においてプリベークを必要とせず、さらに高感度かつパターン形成性が良好なポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式（Ｉ）


（式中、Ｒ^１は水素原子または低級アルキル基を表し、Ｒ^２は置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアリール基または置換もしくは非置換のアラルキル基を表す。）で表される構造単位を有するガラス転移温度２０〜１００℃のビニル系重合体１００質量部に対して、（Ｂ）特定の構造で表される光酸発生剤を１．０〜３０質量部含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】高エネルギー線、特に電子線、Ｘ線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特に電子線使用時における真空中ＰＥＤ特性、ラインエッジラフネスおよびパターン形状を同時に満足し、またＥＵＶ光使用時における感度、溶解コントラストに優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）少なくとも１つの分岐部を介してポリマー鎖を３つ以上有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する、星型ポリマーまたはハイパーブランチドポリマー、（Ｂ）特定の活性光線または放射線の作用により酸を発生する化合物、及び、（Ｃ）界面活性剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】反応系をゲル化させることなく、高度に分岐したハイパーブランチポリマーを合成できるハイパーブランチポリマーの合成方法およびレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】多官能ラジカル重合性単量体と一官能ラジカル重合性単量体とのラジカル重合を経てハイパーブランチポリマーを合成する際に、ラジカル重合を開始させる重合開始剤が存在する反応系に、多官能ラジカル重合性単量体および一官能ラジカル重合性単量体を同時に加えて、ラジカル重合をおこなうようにした。多官能ラジカル重合性単量体および一官能ラジカル重合性単量体は、ラジカル重合に用いる一官能ラジカル重合性単量体全量のうち、一部の一官能ラジカル重合性単量体を混合した反応系に加える。また、多官能ラジカル重合性単量体および一官能ラジカル重合性単量体の混合物を加えてもよい。 （もっと読む）

【課題】 アルカリ現像性が良好であり、かつ、その硬化物が優れた電圧保持特性を有する垂直配向型液晶表示素子用の突起形成に使用される感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
エポキシ樹脂を変性してなる（メタ）アクリロイル基及びカルボキシル基を含有する親水性樹脂（Ａ）、エポキシ基、オキセタン基、ビニルエーテル基、およびプロペニルエーテル基からなる群から選ばれる１種または２種以上の反応性官能基を有するカチオン重合性化合物（Ｂ）、光ラジカル重合開始剤（Ｃ）、および酸発生剤（Ｄ）を含有する垂直配向型液晶表示素子用の突起形成に用いられるアルカリ現像可能な感光性樹脂組成物（Ｑ）である。 （もっと読む）

【課題】基板密着性やドライエッチング耐性を損なうことなくアルカリ可溶性機能が向上したフォトレジスト用樹脂組成物の製造法を提供する
【解決手段】酸の作用によりアルカリ可溶となる繰り返し単位Ａ１を１モル％以上６１モル％未満含み且つ極性基及び脂環式骨格を有する繰り返し単位Ｂを有する重合体Ｘを含有する混合液に、脂環式骨格を有し且つ酸の作用によりアルカリ可溶となる繰り返し単位Ａ２に対応する単量体を６１モル％以上含む単量体混合物Ｍ^Ｙを、重合体Ｘ／単量体混合物Ｍ^Ｙ（重量比）＝７５／２５〜９９／１となるような量だけ加えて重合させる工程を含むフォトレジスト用樹脂組成物の製造法。 （もっと読む）

【課題】アルカリ現像性が良好であり、かつ、その硬化物が優れた柔軟性および弾性回復特性を有するフォトスペーサ用感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】親水性樹脂（Ａ）、多官能（メタ）アクリレートモノマー（Ｂ）、エポキシ基、オキセタン基、ビニルエーテル基、およびプロペニルエーテル基からなる群から選ばれる１種または２種以上の反応性官能基を有するカチオン重合性化合物（Ｃ）、光ラジカル重合開始剤（Ｄ）、および酸発生剤（Ｅ）を含有するアルカリ現像可能なフォトスペーサ用感光性樹脂組成物（Ｑ）である。 （もっと読む）

【課題】低い屈折率を有し、スィングカーブがなだらかであり、スィング比が小さい上面反射防止膜を形成するための組成物の提供。
【解決手段】親水性基を含んでなるアントラセン骨格含有化合物と溶媒とを含んでなる上面反射防止膜形成用組成物。この組成物はレジスト膜上に反射防止膜を形成させ、１６０〜２６０ｎｍの光を用いてパターンを形成させるフォトリソグラフィーに用いられる。 （もっと読む）

【課題】密着性、感度、および表面平滑性を向上させ、超ＬＳＩなどの半導体装置製造用の微細パターンを形成すること。
【解決手段】ハイパーブランチポリオールから誘導される構造を有するコア部の末端に、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する部位を有するシェル部を設け、コアシェル型ハイパーブランチポリマーとした。ハイパーブランチポリオールは、分岐ポリエーテルポリオール、分岐ポリエステルポリオール、分岐ポリアミドポリエステルポリオールからなる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、化学増幅型ネガティブフォトレジストとポジティブフォトレジストとの組み合せによる露光及び現像によりパターンピッチが露光装備の解像度の1/2倍であるマスクパターンを形成するマスクパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明に係るマスクパターン形成方法の代表的な構成は、基板の上部にネガティブフォトレジスト(Negative Photo Resist)膜を形成する。ネガティブフォトレジスト膜の一部領域を露光する。ネガティブフォトレジスト膜を現像する。ネガティブトーンワーキングフォトレジスト(negative tone working photo resist)膜を含む基板の上部にポジティブフォトレジスト(Positive Photo Resist)膜を形成する。ネガティブトーンワーキングフォトレジスト膜の境界部のポジティブフォトレジスト膜に水素気体が拡散するように基板をベーキング(Baking)する。ポジティブフォトレジスト膜を現像する。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な新規な非イオン性感光性化合物、酸発生剤、レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】その構造中に、環骨格にエステル結合を含む環式基を有する非イオン性感光性化合物。該非イオン性感光性化合物からなる酸発生剤。酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および放射線の照射により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）が、その構造中に、環骨格にエステル結合を含む環式基を有する非イオン性感光性化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】 アルカリ現像性が良好であり、かつ、その硬化物が優れた電圧保持特性を有する垂直配向型液晶表示素子用の突起形成に使用される感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
エポキシ樹脂を変性してなる（メタ）アクリロイル基及びカルボキシル基を含有する親水性樹脂（Ａ）、アルコキシメチル基、メチロール基、イミノ基、オキサゾリン基、グリシジル基、イソシアネート基及びブロックイソシアネート基からなる群より選ばれる官能基を有する化合物（Ｂ）および光ラジカル重合開始剤（Ｃ）を含有する、垂直配向型液晶表示素子用の突起形成に用いられるアルカリ現像可能な感光性樹脂組成物（Ｑ）である。 （もっと読む）

【課題】液浸露光用レジスト組成物用の添加剤として有用な新規な含フッ素化合物、該含フッ素化合物を含有する液浸露光用レジスト組成物、および該液浸露光用レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（ｃ−１）［式中、Ｒ^Ｘは有機基であり、Ａ_Ｎは置換基を有していてもよいナフタレン環であり、Ｒ^２は塩基解離性基であり、ａは１または２であり、Ａ_Ｎおよびａ個のＲ^２のうちの少なくとも１つはフッ素原子を有する。］で表される含フッ素化合物。
［化１］
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【解決手段】(A)式(1)の化合物と式(2)の化合物との加水分解縮合で得られる金属酸化物含有化合物、
Ｒ¹_m1Ｒ²_m2Ｒ³_m3Ｓｉ(ＯＲ)_(4-m1-m2-m3) (1)
(Ｒはアルキル基、Ｒ¹〜Ｒ³はＨ又は１価有機基、m1〜m3は０又は１。m1＋m2＋m3は０〜３。)
Ｕ(ＯＲ⁴)_m4(ＯＲ⁵)_m5 (2)
(Ｒ⁴、Ｒ⁵は有機基、m4、m5は０以上の整数、Ｕは周期律表のＩＩＩ〜Ｖ族の元素。)
(B)式(3)又は(4)の化合物、
Ｌ_aＨ_bＸ (3)
(ＬはＬｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ又はＣｓ、Ｘは水酸基又は有機酸基、ａは１以上、ｂは０又は１以上の整数、ａ＋ｂは水酸基又は有機酸基の価数。)
Ｍ_aＨ_bＡ (4)
(Ｍはスルホニウム、ヨードニウム又はアンモニウム、ＡはＸ又は非求核性対向イオン、ａは１以上、ｂは０又は１以上の整数。)
(C)有機酸、
(D)有機溶剤
を含む熱硬化性金属酸化物含有膜形成用組成物。
【効果】本発明組成物で形成された金属酸化物含有中間膜を用いることで、良好なパターン形成ができる。 （もっと読む）

【課題】解像性を損なうことなく、レジストパターン形状が逆テーパ形状となることを回避可能なレジストパターン形状制御材料、半導体装置の製造方法、及び磁気ヘッドの製造方法の提供。
【解決手段】本発明のレジストパターン形状制御材料は、スルホン基を有する基材樹脂、光酸発生剤、及び溶剤を含むことを特徴とする。基材樹脂が、ベンゼンスルホン酸からなるモノマー単位を含むポリマーである態様、基材樹脂が、硫黄含有量で１重量％以上のスルホン基を有する態様などが好ましい。 （もっと読む）

【課題】従来使用ないし提案されている２−アルキルアダマンチル（メタ）アクリレートよりもさらに高い酸解離性能を有する酸解離性（メタ）アクリレートモノマーを共重合成分とし、アルカリ不溶性または難溶性であるが、酸の作用によって優れた応答性でアルカリ可溶性となる（メタ）アクリル酸エステル樹脂を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される構造単位を含む（メタ）アクリル酸エステル樹脂。
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