【課題】反射防止膜を用いず、高反射基板をそのまま用いたとしても、定在波の発生が抑制され、矩形なプロファイルが得られ、かつ高感度、高解像性の化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ベンゼン環上に、−ＣＨ_２−Ｙ−Ｚ¹で表される基（Ｙは、単結合または２価の連結基である。Ｚ¹は、非酸分解性基を表す）を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】耐久性及び耐熱性に優れる硬化膜を形成できる感光性樹脂組成物、低温で硬化しても耐久性及び耐熱性に優れる硬化膜を形成できる感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物より形成された良好な形状と特性のパターンを有する、信頼性の高い電子デバイスを提供する。
【解決手段】酸解離性基を有するポリイミド樹脂、光照射によりスルホン酸を発生する化合物、および架橋剤を含有する感光性樹脂組成物、該組成物を用いたパターンの製造法、および該パターンを有する電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】耐久性及び耐熱性に優れる硬化パターンを形成できる感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物より形成された、良好な形状と特性のパターンを有する信頼性の高い電子デバイスを提供する。
【解決手段】（ａ）特定の繰り返し単位を含む樹脂、（ｂ）光照射により酸を発生する化合物、（ｃ）架橋剤、および（ｄ）熱酸発生剤を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物、該組成物を用いたパターンの製造法、および該パターンを有する電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】反射防止膜を用いず、高反射基板をそのまま用いたとしても、定在波の発生が抑制され、矩形なプロファイルが得られ、かつ高感度、高解像性の化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ベンゼン環上に、−ＣＨ_２−Ｙ−Ｚ¹で表される基（Ｙは、単結合または２価の連結基である。Ｚ¹は、任意の置換基を表す）を有する繰り返し単位と、特定の酸分解性繰り返し単位とを含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【解決手段】紫外線、遠紫外線、電子線、ＥＵＶ、Ｘ線、エキシマレーザー、γ線、又はシンクロトロン放射線の高エネルギー線に感応し、下記一般式（１ａ）又は（１ｃ）のいずれかで示されるスルホン酸を発生する化学増幅型レジスト材料用の光酸発生剤。
Ｒ¹−ＣＯＯＣＨ（ＣＦ₃）ＣＦ₂ＳＯ₃^- Ｈ⁺ （１ａ）
Ｒ¹−Ｏ−ＣＯＯＣＨ（ＣＦ₃）ＣＦ₂ＳＯ₃^- Ｈ⁺ （１ｃ）
（Ｒ¹はステロイド骨格を有する炭素数２０〜５０の炭化水素基を示す。）
【効果】本発明の光酸発生剤は、レジスト材料中の樹脂類との相溶性がよく、酸拡散制御を行うことができる。また、これらスルホン酸を発生する光酸発生剤はデバイス作製工程での塗布、露光前焼成、露光、露光後焼成、現像の工程に問題なく使用できる。 （もっと読む）

【課題】耐刷性、耐薬品性に優れ、露光におけるアブレーションの発生が抑制される平版印刷版用原版の提供。
【解決手段】支持体上に、下記（Ａ）、（Ｂ）、及び（Ｃ）の各成分を含有し、露光又は加熱によりアルカリ現像液に対する溶解性が向上するポジ型記録層を有する平版印刷版原版。（Ａ）：ビニルカプロラクタムに由来する構造単位を含むポリマー（Ｂ）：下記（ａ）及び（ｂ）からなる群より選択される少なくとも１種のモノマーを重合してなるポリマー（ａ）１分子中に、窒素原子上に少なくとも一つの水素原子が結合したスルホンアミド基を有するモノマー（ｂ）１分子中に、〔−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−ＳＯ_２−〕で表される活性イミノ基を有するモノマー（Ｃ）：光を吸収して熱を発生する化合物 （もっと読む）

【課題】光の照射により塩基を発生させる際に脱炭酸反応を伴うことがなく、膜強度の高い硬化膜が得られるうえ、高温耐性に優れた感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】光の照射により、脱炭酸反応を伴うことなくアミン化合物を発生する一般式（１）で表される光環化型の光塩基発生剤と、塩基反応性樹脂と、を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物によれば、高温耐性に優れ、膜強度の高い硬化膜が得られる。


［一般式（１）中、Ｚはアミノ基を表す。］ （もっと読む）

【課題】高い解像度と改善されたエッジラフネスとを備えるとともに、アルカリ現像可能な感光性組成物を提供する。
【解決手段】（１，３，５−トリス（パラ−（パラヒドロキシフェニル）フェニル）ベンゼン）を母核に有し、酸分解性置換基を有する化合物と、化学放射線の作用により酸を発生する光酸発生剤とを含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 良好な感度を有し、高耐熱性で高残膜性をもち、その他特性についても汎用のものより劣ることのないフォトレジスト用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 フェノール類とアルデヒド類とを酸触媒の存在下で反応して得られるノボラック型フェノール樹脂中の水酸基の少なくとも一部を、酸の作用により脱離可能な基で保護したフォトレジスト用樹脂、架橋材、光酸発生剤及び溶媒を含有することを特徴とするフォトレジスト用樹脂組成物であって、前記フェノール類がメタクレゾールを必須成分として含有するものであり、前記ノボラック型フェノール樹脂の重量平均分子量が１０００以上２００００以下であり、前記酸の作用により脱離可能な基が、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、エトキシエチル基、テトラヒドロピラニル基、及びｔｅｒｔ−ブチル基からなる群より選ばれるものであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】通常露光（ドライ露光）、液浸露光、二重露光に於いて、感度、ラインエッジラフネスが良好である、ポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）アリール環上に電子供与性基を有するジアリールヨードニウム塩及び（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有するポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光においても、現像欠陥性能、パターン形状が良好であり、且つ、二重露光において、現像欠陥性能、パターン形状が良好である、ポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）樹脂中の全繰り返し単位に対して水酸基を有する特定構造の繰り返し単位を１〜２０モル％有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｃ）酸の作用により分解し、酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】大版での高生産性に対応した耐傷性を有し、ｐＨが低い又は疲労した活性の低い現像液に対しての現像ラチチュードに優れたポジ型感光性平版印刷版材料およびそれを用いたポジ型平版印刷版の作製方法を提供する。
【解決手段】基材上に下引き層およびアルカリ可溶性樹脂を含有する感光層を有するポジ型感光性平版印刷版材料であって、前記下引き層がモノマー成分が０．０１モル％以上１０モル％以下の含有率であるポリマー成分を含有し、かつ、前記アルカリ可溶性樹脂が少なくとも１つの共有結合単位と少なくとも１つの熱可逆性の非共有結合単位を有し、それぞれの前記非共有結合単位内に、２つ以上の水素原子中心結合を含有する単位を有し、重量平均分子量が１０，０００未満であり且つフェノール性水酸基の水素原子がＮ−イミド基で置換されていないことを特徴とするポジ型感光性平版印刷版材料。 （もっと読む）

【課題】レジスト用樹脂等に応用した場合に有機溶媒への溶解性が良好で、基板への密着性が良く、更に高い耐エッチング性を発揮できるものであり、また、工業的見地からコストや入手の面で優位にある樹脂、更にはその原料である単量体を提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）


（式中、Ｒ^ａは水素原子、ハロゲン原子、又はハロゲン原子を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｒ^１は飽和炭化水素６員環を含有する特定の基）で表されるフォトレジスト用単量体。 （もっと読む）

【課題】耐傷性に優れ、高感度でかつ画像再現の均一性に優れるポジ型平版印刷版材料を高い生産効率で製造する平版印刷版材料の製造方法の提供。
【解決手段】アルミニウム支持体上に、画像形成層用塗布液を塗布、乾燥して画像形成層を形成する工程および該画像形成層上に合紙を重ねる工程を有する平版印刷版材料の製造方法であって、該画像形成層がアルカリ可溶性樹脂、光熱変換化合物およびフッ素系化合物を含有し、該合紙を重ねる工程が湿度４０％ＲＨ（相対湿度）以上、８０％ＲＨ（相対湿度）以下で行われることを特徴とする平版印刷版材料の製造方法。 （もっと読む）

【課題】耐薬品性等の安定性を保持しつつ、有機溶剤に対する溶解性に優れ、加水分解性及び／又は加水分解後の水に対する溶解性を向上し、高い耐エッチング性を示すフォトレジスト樹脂及びその組成物を提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）


（式中、Ｒ^ａは水素原子、ハロゲン原子、又はハロゲン原子を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｒ^１はメチル基を示し、Ａはメチレン基、酸素原子、又は硫黄原子を示す。）で表されるフォトレジスト用単量体。 （もっと読む）

【課題】通常露光（ドライ露光）、液浸露光、二重露光において、パターン形状、ラインエッジラフネスが良好である、ポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型レジスト組成物に用いられる化合物を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｃ）カルボニル基若しくはスルホニル基とカルボン酸エステル構造とを有する、酸の作用により分解し、酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型レジスト組成物に用いられる化合物。 （もっと読む）

【課題】厚膜の形成に適したポジ型ホトレジスト組成物および積層体を提供すること。
【解決手段】本発明のポジ型ホトレジスト組成物は、ノボラック樹脂（Ａ）およびアクリル樹脂（Ｂ）を含む樹脂成分と光の照射によって酸を発生する光酸発生剤と有機溶剤とを含有する。ノボラック樹脂（Ａ）が有する水酸基の水素原子の一部は、以下の式（Ｉ）：
【化１】


（式中、Ｒ^１，Ｒ^２およびＲ^３は、互いに独立して、置換または非置換の、アルキル、アリールあるいはアラルキルを表す。但し、Ｒ^１とＲ^２とが隣接する炭素原子と一緒になってシクロアルキルを形成していてもよく、またはＲ^２とＲ^３とが隣接するＣ−Ｃ−Ｏと共に含酸素複素環を形成していてもよい。）によって表される基と置換されている。アクリル樹脂（Ｂ）は、酸によって解離する溶解抑制基を有する（メタ）アクリル酸エステルまたはアクリル酸エステルから誘導された構成単位（ｂ−１）から構成されている。 （もっと読む）

【課題】ポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる新規な高分子化合物、該高分子化合物用のモノマーとして有用な化合物およびその製造方法、前記製造方法において中間体として有用な化合物、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、ならびに該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸解離性溶解抑制基を有するアクリル酸エステルから誘導される構成単位を有する高分子化合物。 （もっと読む）

【課題】液浸露光技術において、液浸媒体への溶出を抑制してレジストの機能を損なわず、前記液浸媒体に対して高い接触角を有し、微細なレジストパターンを形成可能な液浸露光用レジスト組成物、及びそれを用いた半導体装置の製造方法の提供。
【解決手段】本発明の液浸露光用レジスト組成物は、レジストの基材樹脂の他に、シリコン含有側鎖を有し、酸によりアルカリ可溶性に変化する樹脂を含有するものであって、全樹脂中のシリコン含有量が１質量％以下である。本発明の半導体装置の製造方法は、被加工面上に、本発明の前記液浸露光用レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成した後、該レジスト膜に対して液浸露光により露光光を照射し、現像することによりレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、該レジストパターンをマスクとしてエッチングにより前記被加工面にパターンを転写するパターン転写工程とを少なくとも含む。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、長期間保存しても感度の変動が少なく、汚れ回復性に優れ、かつ印刷時の刷り出し性に優れる平版印刷版材料を与える平版印刷版材料の積層体およびその製造方法を提供することにある。
【解決手段】アルミニウム支持体上に赤外線吸収化合物を含有する画像形成層を有するポジ型平版印刷版材料の該画像形成層上に合紙が積層された平版印刷版材料の積層体であって、該画像形成層がフルオロアルキル基を有するアクリル樹脂を含有し、かつ該合紙の縦目方向のクラーク剛度が３０以下であることを特徴とする平版印刷版材料の積層体。 （もっと読む）