【課題】レジスト膜を形成する工程においてプリベークを必要とせず、さらに高感度、特に半導体レーザーを照射源とした最大発光波長が４００ｎｍ〜４１０ｎｍの範囲内にある活性エネルギー線に対して高感度かつパターン形成性が良好なポジ型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式（Ｉ）


で表される構造単位を有するビニル系重合体、（Ｂ）特定の構造で表される光酸発生剤、及び（Ｃ）特定の構造で表される増感色素を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】より微細なレジストパターンを簡便かつ効率的に形成することができるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（１）半導体基板上に、酸発生剤を含有するポジ型感放射線性樹脂組成物からなる第一のレジスト層を形成し、前記第一のレジスト層を選択的に露光し、現像して第一のパターンを形成する工程と、（２）隣接する前記第一のパターン同士の間に、酸発生剤を含有するネガ型感放射線性樹脂組成物からなる第二のレジスト層を形成する工程と、（３）第一のパターンおよび第一のパターンに隣接する第二のレジスト層を選択的露光し、第一のパターン側壁に前記第二のレジスト層に由来する側壁層を形成する工程と、（４）前記第一のパターン及び前記第二のレジスト層を除去する工程とを含むパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】シロキサンポリマーを含む感光性組成物を基板上に塗工し、感光性組成物を硬化させることにより形成された膜を基板から剥離する方法であって、膜を基板から容易に剥離できる膜の剥離方法を提供する。
【解決手段】シロキサンポリマーと、活性エネルギー線の照射によりシロキサンポリマーを架橋させる物質とを含む感光性組成物１を基板２上に塗工した後に、感光性組成物１に活性エネルギー線を照射し、感光性組成物１を硬化させることにより形成された膜１Ａを基板から剥離する方法であって、１０〜５０℃の水中で１０〜５００ｋＨｚ及び１０Ｗ〜３ｋＷの条件で５〜６０分間、膜１Ａに超音波をあてることにより、膜１Ａを基板２から剥離する膜１Ａの剥離方法。 （もっと読む）

【課題】光学的及び電気的特性に優れた耐熱性絶縁膜を形成することのできる感光性組成物及びこの感光性組成物に用いられるアルカリ可溶性シルセスキオキサン並びにその製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）間移動触媒を含有する有機溶媒層と水性溶媒層との二層状態を作り、前記有機溶媒層に一般式（１）：ＲＳｉＸ₃（式中、Ｒは、Ｃ₁〜Ｃ₅の脂肪族炭化水素基、シクロヘキシル基、Ｃ₂〜Ｃ₅のアルケニル基、又はアリール基を表し、Ｘは塩素、臭素又は沃素を表す。）で表されるトリハロシランを滴下し、有機溶媒層及び界面にて制御された反応を行うことによりポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）が２０００以下のシルセスキオキサンを製造し、（Ｂ）得られたシルセスキオキサンをアシル化剤を用い、例えばフリーデル−クラフツ反応によりアシル化することによりアシル化されたシルセスキオキサンを製造する。得られたシルセスキオキサンとキノンジアジド感光剤、あるいは光酸又は塩基発生剤とにより感光性組成物を製造し、これを基体上に塗布し、露光後現像し、硬化することにより、耐熱性絶縁パターン膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】光学的及び電気的特性に優れた耐熱性絶縁膜を形成することのできる感光性組成物及びこの感光性組成物に用いられるアルカリ可溶性シルセスキオキサン並びにその製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）Ｒ¹ＳｉＸ₃（式中、Ｒ¹は、Ｃ₁〜Ｃ₅の脂肪族炭化水素基、シクロヘキシル基、Ｃ₂〜Ｃ₅のアルケニル基、又はアリール基を表し、Ｘは塩素、臭素又は沃素を表す。）で表されるトリハロシランをアシル化して、アシル化されたトリハロシランを製造し、（Ｂ）層間移動触媒を含有する有機溶媒層と、水あるいは水とアルコール及び／又はグリコールとの混合水性媒体との二層状態を作り、前記有機溶媒層に前記アシル化されたトリハロシランを滴下し、有機溶媒層及び界面にて制御された反応を行うことによりアシル化されたシルセスキオキサンを製造する。得られたアシル化シルセスキオキサンとキノンジアジド感光剤、あるいは光酸又は塩基発生剤とにより感光性組成物を製造し、これを基体上に塗布し、露光後現像し、加熱、硬化することにより、耐熱性パターン膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】基板上に塗布して形成されるレジストを露光、加熱処理、現像すると良好なレジストパターンを形成でき、かつ、該レジストパターンが形成された基板にめっき処理を行うときクラックの発生を抑制することができるポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）


で表される構造単位を有する重合体と、放射線の照射により酸を発生する化合物と、有機溶剤とを含有するポジ型感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】露光及び現像により感光性組成物の硬化物からなるパターン膜を形成する際の現像性に優れており、さらに現像液として比較的低濃度のアルカリ溶液を用いることができる感光性組成物、並びに該感光性組成物を用いたパターン膜の製造方法を提供する。
【解決手段】カルボキシル基を有するシロキサンポリマーと、光架橋剤とを含む感光性組成物、並びに該感光性組成物を基板２上に塗工し、基板２上に感光性組成物層１を形成した後、感光性組成物層１を部分的に露光することにより、露光部１ａの感光性組成物層１を硬化させて、現像液に不溶にし、次に感光性組成物層１を現像液で現像することにより、未露光部１ｂの感光性組成物層１を除去し、感光性組成物の硬化物からなるパターン膜１Ａを形成するパターン膜１Ａの製造方法。 （もっと読む）

【課題】露光及び現像により感光性組成物の硬化物からなるパターン膜を基板上に形成した場合に、得られたパターン膜の柔軟性を高めることができ、従ってパターン膜の耐久性を高めることができる感光性組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される少なくとも１種のシラン化合物を重合させることにより得られたシロキサンポリマーと、光重合開始剤とを含有し、上記式（１）で表される少なくとも１種のシラン化合物に、下記式（１）で表され、かつ下記式（１）中のｐが２であるシラン化合物が含まれており、上記シロキサンポリマーの重量平均分子量が５００〜６００００の範囲内にあり、上記シロキサンポリマーの固形分酸価が５〜８００ＫＯＨｍｇ／ｇの範囲内にある感光性組成物。
Ｓｉ（Ｘ）_ｐ（Ｒ）_４−ｐ ・・・式（１）
上記式（１）中、Ｘは加水分解性基を表し、Ｒは炭素数１〜３０の非加水分解性の有機基を表し、ｐは１〜４の整数を表す。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性が向上し、良好な形状のレジストパターンを形成することができるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法、並びに、当該レジスト組成物用の光塩基発生剤および当該光塩基発生剤として有用である新規な化合物の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分、露光により酸を発生する酸発生剤成分、および特定構造の露光により塩基を発生する光塩基発生剤を含有するレジスト組成物。
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【課題】ポリシルセスキオキサン共重合体、その製造方法、これを利用するポリシルセスキオキサン共重合体薄膜、及びこれを利用する有機電界発光表示装置を提供。
【解決手段】アルコキシフェニルトリアルコキシシラン、アルコキシフェニルアルキルトリアルコキシシラン、アルコキシカルボニルフェニルトリアルコキシシラン及びアルコキシカルボニルフェニルアルキルトリアルコキシシランよりなる群から選択されたいずれか１つの単量体と、両端に反応サイトを有するα、ω−ビストリアルコキシシリル化合物単量体とを有機溶媒／水の混合溶媒の中で酸または塩基触媒を使用して共重合して製造されたポリシルセスキオキサン共重合体、その製造方法、これを利用したポリシルセスキオキサン共重合体薄膜、及びこれを利用した有機電界発光表示装置。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、高感度で、かつ耐傷性と保存性に優れたポジ型平版印刷版材料、該高感度で、かつ耐傷性と保存性に優れたポジ型平版印刷版材料を高い生産性で製造することができるポジ型平版印刷版材料の製造方法および平版印刷版材料梱包体を提供することにある。
【解決手段】アルミニウム支持体上に、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂と、波長７００〜１２００ｎｍに吸収極大を持つ近赤外線吸収色素とを含有する感光層を設けた後、熱処理して製造されたポジ型平版印刷版材料において、前記熱処理時の印刷版材料の雰囲気が、ｐＨ＝３〜６の酸性雰囲気であることを特徴とするポジ型平版印刷版材料。 （もっと読む）

【課題】レジスト保護膜形成組成物およびレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する重合体であり含フッ素重合体（Ｆ）よりフッ素含有量が低いレジスト重合体（Ｒ）を含む感光性レジスト層の表面に塗布されて用いられるレジスト保護膜形成組成物であって、含フッ素重合体（Ｆ）を含むアルカリ溶解性のレジスト保護膜用材料と、ハイドロフルオロカーボン系溶媒およびハイドロフルオロエーテル系溶媒から選ばれる少なくとも１種のフッ素系溶媒（Ｓ）を含む溶媒とを含む、レジスト保護膜形成組成物。 （もっと読む）

【課題】ハロゲン含有量がより少なく、かつ高感光性および高解像性を有する感光性樹脂組成物および感光性樹脂積層体と、この感光性樹脂組成物および感光性樹脂積層体を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物は、アクリル系エポキシ樹脂と、光重合開始剤と、１以上の架橋形成性部位を有するアクリル系モノマーと、を含有する。光重合開始剤は、たとえばカルバゾール骨格を有するオキシム系ラジカル重合開始剤であり、アクリル系エポキシ樹脂は、たとえば脂環式エポキシ基を有するモノマーから誘導される構成単位を有し、アクリル系モノマーは、たとえば架橋形成性部位として４以上の末端ビニル基を有する。 （もっと読む）

【課題】可視領域（４００ｎｍ〜７３０ｎｍ）での着色が抑制されたカラーフィルターを与える染料含有レジスト組成物を提供すること。
【解決手段】式［１］で表されるシクロヘキサジエン系オキシムスルホネート化合物からなる光酸発生剤を含む染料含有レジスト組成物。


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、ＣＮ、ＮＯ_２、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基等を表し、Ｒ^３は、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、ＣＮ基、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基等を表し、Ｒ^４は、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭素数１〜５のハロアルキル基、炭素数１〜５のハロアルコキシ基、Ｗで置換されていてもよいフェニル基等を表し、Ｗは、ハロゲン原子、ＣＮ、炭素数１〜１０のアルキル基等を表し、ｎは、１、２、３又は４の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】発生する塩基の強度が高く、エポキシ系化合物等に適用した場合には、塩基発生
反応が連鎖的に行われ、反応効率に優れる塩基発生剤及び当該塩基発生剤を含有する感光
性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】本発明の塩基発生剤は、ケトプロフェンと、アミジン類あるいはイミダゾール類からなる化合物であり、光によって脱炭酸し、その結果、遊離の塩基を生成する。本発明の塩基発生剤は、塩基性が高く、反応効率が優れることになり、塩基発生剤から発生する塩基とエポキシ系化合物等との反応が連鎖的に進行し、室温レベルでも硬化が速やかに実施されて硬化が十分になされる感光性樹脂組成物となる。かかる効果を奏する本発明の感光性樹脂組成物は、例えば、高感度の光硬化材料やレジスト材料等に好適に用いることができる。 （もっと読む）

【課題】含フッ素重合体を含有していてもアルカリ現像できる感光性組成物を提供すること。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物を構成モノマーとする重合体（Ａ）、光酸発生剤（Ｂ）、硬化剤（Ｃ）及び溶剤（Ｄ）を含有する感光性組成物（式（Ｉ）中、Ｒ¹〜Ｒ³は水素原子、フッ素原子又は脂肪族炭化水素基を示す。Ｒ⁴は単結合又はアルキレン基を示す。Ｒ⁵は単結合又は脂肪族炭化水素基を示す。Ｒ⁶は直鎖状アルキレン基を示す。Ｒ⁷は水素原子又は脂肪族炭化水素基を示す。但しＲ¹〜Ｒ⁷のいずれか一つは、フッ素原子又はフッ素原子で置換されている基である。）。
（もっと読む）

【課題】耐熱性に優れた重合体、さらにはアルカリ現像できる感光性組成物を得ることができる化合物を提供すること。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物を提供する（式（Ｉ）中、Ｒ¹〜Ｒ³は水素原子、フッ素原子又は脂肪族炭化水素基を示す。Ｒ⁴〜Ｒ⁶は単結合又はアルキレン基を示す。Ｒ⁷は単結合又は脂肪族炭化水素基を示す。Ｒ⁸は脂肪族炭化水素基を示す。Ｒ⁹は水素原子又は脂肪族炭化水素基を示す。但しＲ¹〜Ｒ⁹のいずれか一つは、フッ素原子又はフッ素原子で置換されている基である。）。
（もっと読む）

【課題】アルカリ現像可能で、解像性に優れるネガ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）特定の繰り返し単位を有するポリヒドロキシアミド：１００質量部、（Ｂ）特定のエステル化合物：１〜４０質量部、（Ｃ）光酸発生剤：１〜１５質量部、を含むことを特徴とするネガ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】最終的に得られるポリイミドの化学構造を問わず大きな溶解性コントラストを得られ、形状が良好なパターンを得ることができ、簡便に合成できて安価に入手可能な、高感度の感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表わされる繰り返し単位を有するポリイミド前駆体、及び、光塩基発生剤を含有する、感光性樹脂組成物である。
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【課題】活性エネルギー線の照射によりパターン形成が可能で、エッチングに対する保護膜、層間絶縁膜、表面保護膜を形成しうるネガ型感光性樹脂組成物であって、感度、解像性、パターン形状及びアルカリ現像性に優れるネガ型感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶なフェノール樹脂、（Ｂ）フェノール性水酸基を有する特定の化合物、及び（Ｃ）光酸発生剤を含有することを特徴とするネガ型感光性樹脂組成物。 （もっと読む）