【課題】被処理基板依存性の低いレジストパターンを形成することができるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】被処理基板上に、酸とその酸の塩とを含む緩衝剤含有膜を形成する工程と、前記緩衝剤含有膜の上に、光酸発生剤を含むフォトレジスト膜を形成する工程と、前記フォトレジスト膜を露光する工程と、前記フォトレジスト膜を現像する工程と、を備えたことを特徴とするレジストパターン形成方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】感度の経時安定性が良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解して、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射によりスルホン酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物であって、該樹脂（Ａ）が、フェノール性水酸基を有する重量平均分子量１５００〜３５００の樹脂であり、該レジスト組成物が、酸の作用により分解して２３℃常圧におけるテトラメチルアンモニウムヒドロキシド ２．３８ｗｔ％水溶液に対する溶解速度が２００〜５０００倍の範囲で増大する性質を有し、かつ、該レジスト組成物の固形分濃度が２．５から４．５質量％であるすることを特徴とする、ポジ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】良好な形状のレジストパターンを形成できるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、一般式（ｄ１）で表され、かつ、分子量が２００以上である含窒素有機化合物（Ｄ１）とを含有することを特徴とするレジスト組成物。
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【課題】本発明の目的は、画像形成層に傷の発生することなく、高い生産性が得られるポジ型の平版印刷版材料の製造方法を提供することにある。
【解決手段】粗面化されたロール状のアルミニウム支持体に、画像形成層が塗布・乾燥された後、枚葉状に切断、積載する工程を有するポジ型の平版印刷版材料の製造方法において、枚葉状に切断された各平版印刷版材料の間に合紙が設置されており、前記合紙の表面と前記平版印刷版材料の画像形成層との静止摩擦係数（μ１）が、前記合紙の裏面と前記平版印刷版材料のアルミ支持体の裏面との動摩擦係数（μ２）よりも０．０５〜０．３大きく、かつ平版印刷版材料を傾斜された架台の上に（枚葉状に切断された各平版印刷版材料の間に合紙が設置されて）積載することを特徴とするポジ型の平版印刷版材料の製造方法。 （もっと読む）

【課題】電子部品の絶縁材料や半導体装置におけるパッシベーション膜、バッファーコート膜、層間絶縁膜、α線遮蔽膜などに用いられる、低残留応力及び強靭性（高伸度）を有する薄膜パターンを形成するためのネガ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表されるポリアミド共重合体１００質量部に対して、（Ｂ）放射線照射により酸を発生する化合物０. ５〜２０質量部、及び（Ｃ）酸の作用により上記（Ａ）共重合体を架橋し得る化合物３〜４０質量部を含有することを特徴とするネガ型感光性樹脂組成物。
【化１】
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【課題】耐溶剤性に優れた硬化物を得ることが可能な樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で示される繰り返し単位、及び下記一般式（３）で示される繰り返し単位を含む重合体（Ａ）と、シランカップリング剤（Ｂ）と、溶剤（Ｃ）とを含有する樹脂組成物である。


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【課題】感光性樹脂組成物層を形成し、該感光性樹脂組成物層を部分的に露光した後に、現像を行うことなく、表面に凹凸パターンが形成されたパターン膜を得ることを可能とするパターン膜の製造方法を提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物からなる所定の厚みの感光性樹脂組成物層１を形成する工程と、感光性樹脂組成物層１が光の照射された露光部１ａと、光の照射されていない未露光部１ｂとを有するように、かつ露光部１ａの厚みが未露光部１ｂの厚みよりも相対的に薄くなるように、感光性樹脂組成物層１を部分的に露光する工程と、露光後、現像を行わずに、露光部１ａ及び未露光部１ｂの感光性樹脂組成物層１を焼成する工程とを備えるパターン膜１Ａの製造方法。 （もっと読む）

【課題】光リソグラフィを中心としたナノファブリケーションのための高分子素材として好適なレジスト化合物、レジスト組成物を得ること。
【解決手段】所定の範囲内に分子量分画されたフミン質または当該フミン質の誘導体に、酸分解性基を導入する。酸分解性基の導入は、たとえば、フミン質または当該フミン質の誘導体が有する官能基のうち、−ＣＯＯＨまたは−ＯＨ部の少なくとも一方に酸分解性基を結合させることによっておこなう。酸分解性基は、たとえば、フミン質または当該フミン質の誘導体をコア部に対するシェル部として、リビングラジカル重合あるいはラジカル重合によって導入する。 （もっと読む）

【課題】ラインエッジラフネスが小さくて良好なパターン形状が得られる、ＫｒＦエキシマレーザー、極端紫外線、電子線またはＸ線等の放射線に感応する感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】固形成分１〜４９重量％および溶媒５１〜９９重量％を含む感放射線性組成物であって、固形成分が、炭素数５〜４５で一〜四価の芳香族ケトンまたは芳香族アルデヒドと、炭素数６〜１５であり１〜３個のフェノール性水酸基を含有する化合物との縮合反応により合成した、分子量が３００〜３０００のポリフェノール化合物。
を含むことを特徴とする感放射線性組成物。 （もっと読む）

【課題】感度、残膜率、保存安定性に優れた、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法であって、硬化させることにより耐熱性、密着性、透過率などに優れる硬化膜が得られる、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法を提供することである。
【解決手段】解離性基が解離することで、カルボキシル基を生じる特定のアクリル酸系構成単位を含有し、アルカリ不溶性若しくはアルカリ難溶性であり、且つ、酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、カルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基を有する構成単位を含有する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物、及び、それを用いた硬化膜形成方法。 （もっと読む）

【解決手段】酸によってアルカリ溶解性が向上するベース樹脂となる高分子化合物と、下記一般式（１）で示される高分子材料とを含有することを特徴とするレジスト材料。


【効果】レジスト膜と液浸露光用のレジスト保護膜とのミキシングを防止することによりパターン形状の劣化を防止する。 （もっと読む）

【課題】１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、パターン倒れ性能、フォーカス余裕度が改良され、かつ良好な露光ラチチュードを有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定の３級エステル構造を有する酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により特定構造のプロトンアクセプター性官能基を有する化合物を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 レジスト用樹脂等に応用した場合に有機溶媒への溶解性が良好で、基板への密着性が良く、更に高い耐エッチング性を発揮できる樹脂、及びレジスト組成物、ならびに半導体の製造方法を提供する。
【解決手段】 下記式（１）


で表されるモノマー単位を有するフォトレジスト用高分子化合物。 更に、前記高分子化合物が、重合温度に制御された溶媒中へモノマー溶液及び重合開始剤溶液を添加しながら重合することを特徴とする前記記載のフォトレジスト用高分子化合物。 （もっと読む）

【課題】オキシラン基又はアンハイドライド基をカーボンナノチューブの表面に化学的方法で導入し、このように表面修飾されたカーボンナノチューブの光硬化によってパターン薄膜を形成し、或いは熱硬化によってカーボンナノチューブの高分子複合体を製造する方法を提供する。
【解決手段】カーボンナノチューブの表面に陽イオン重合に参加することが可能なオキシラン基又はアンハイドライド基を導入し、前記カーボンナノチューブを光酸発生剤又は光塩基発生剤と共に有機溶媒に分散させ、基材上にコーティングした後、フォトマスクを介してＵＶに露光させ、露光部でカーボンナノチューブの陽イオン重合を誘発した後、非露光部を現像液で除去することにより、カーボンナノチューブのネガティブパターンを形成する。また、カーボンナノチューブを熱硬化剤と共に有機溶媒に分散させ、基材上にコーティングした後、熱硬化させてカーボンナノチューブ高分子複合体を製造する。 （もっと読む）

【課題】得られるパターン形状が良好であり、焦点深度に優れ且つ液浸露光時に接触した水等の液浸露光用液体への溶出物の量が少なく、レジスト被膜と水等の液浸露光用液体との後退接触角が大きく、現像欠陥が少ない液浸露光用の感放射線性樹脂組成物、及びそれに用いられる新規重合体を提供する。
【解決手段】本樹脂組成物は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ法により測定される重量平均分子量が１０００〜５００００であり、重合体全体を１００モル％とした場合に、フッ素原子を含まず且つ親水性基として−ＯＨ基を含む繰り返し単位（１）を１〜４０モル％含有し、フッ素原子を含む繰り返し単位（２）を６０〜９９モル％含有し、且つ酸不安定基を含む繰り返し単位を含まない重合体（Ａ）、酸不安定基を含有する樹脂（Ｂ）、感放射線性酸発生剤（Ｃ）、窒素含有化合物（Ｄ）及び溶剤（Ｅ）を含有する。 （もっと読む）

【課題】焦点深度、ＬＷＲ、ＭＥＥＦに優れるとともに、現像欠陥にも優れた化学増幅型レジストである感放射線性樹脂組成物およびそれに用いられる新規化合物を提供する。
【解決手段】感放射線性樹脂組成物に使用できる下記式（１）で表される新規化合物。


式（１）において、Ｒ¹は水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表し、Ｒ²は水素原子または置換されていてもよい炭素数１〜５のアルキル基を表し、Ｒ³は置換されていてもよい炭素数４〜２０の三級炭化水素基を表し、Ｒ²およびＲ³がそれぞれ複数存在する場合には、その複数のＲ²およびＲ³は、それぞれ相互に同一であっても異なっていてもよく、ｍは１〜３の整数、ｎは０〜２の整数であり、ただしｍ＋ｎ＝３である。 （もっと読む）

【課題】化学増幅型ポジレジストが塗布され、そのレジストにパターンを形成するために液浸露光が行われる前あるいは行われた後の基板について、そのレジストの表面のみを酸触媒反応を起こすための加熱処理前に露光して、良好な形状のパターンを形成すること。
【解決手段】基板上のレジスト膜の表面に露光用の光を照射する光照射面を有する露光ヘッドと、前記露光ヘッドと基板の表面との間にその屈折率がレジスト膜の屈折率よりも大きい液体を供給する液体供給部と、基板に供給された前記液体を除去する液体除去部と、露光ヘッドに設けられ、前記光照射面から照射されて基板の表面から反射された光を吸収する光吸収体と、を備えるように表面露光装置を構成し、前記光照射面は、前記液体を介してレジスト膜の表面に供給された光が当該レジスト膜の表面にて全反射するようにその向きを設定して表面露光を行う。 （もっと読む）

【課題】反射防止膜を用いず、高反射基板をそのまま用いたとしても、定在波の発生が抑制され、矩形なプロファイルが得られ、かつ高感度、高解像性の化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】ベンゼン環上に、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｙ−（Ｚ¹）_ｍで表される基（Ｙは、単結合または連結基である。Ｚ¹は、非酸分解性基を表す。ｍは１または２を表す。）を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、反射防止膜を用いず、高反射基板をそのまま用いたとしても、定在波の発生が抑制され、矩形なプロファイルが得られ、かつ高感度、高解像性の化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される構造を有し２４８ｎｍの波長に吸収を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】着色や膜強度の経時変化が少ない膜物性に優れる組成物、及び、良好な形状と特性のパターンを有する信頼性の高い電子デバイスを提供する。
【解決手段】（ａ）特定の繰り返し単位を含むポリイミド樹脂、（ｂ）光照射によりスルホン酸を発生する化合物、及び（ｃ）アルコキシメチル基又はアシルオキシメチル基を窒素原子上に有する架橋剤を含有する感光性樹脂組成物、該組成物を用いたパターンの製造法、および該パターンを有する電子デバイス。 （もっと読む）