【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に於いて、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、解像力に優れ、パターン倒れが改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）特定の、不飽和３重結合を含む３級エステル基を有する繰り返し単位（Ｂ１）を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、定在波の残存、パターンプロファイルを同時に満たす良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】
２４８ｎｍに吸収を有する基を主鎖末端に有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に於いて、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成に於いても、パターン倒れが改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）特定の、アルコキシカルボニル基で置換された３級エステル基を有する繰り返し単位（Ｂ１）を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に於いて、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、解像力に優れ、パターン倒れが改良されたポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｂ）特定の、側鎖にエステル基を２個有する繰り返し単位を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用される感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法であって、ＰＥＢ温度依存性及び露光ラチチュードが改良された感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により特定構造のビス（有機スルホニル）イミド酸を発生する化合物及び（Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂を含有する感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】良好な形状を有する微細なパターンを得ることのできるダブルパターニングを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】基板１０１上に下層膜１０２、中間層膜１０３を形成した後、第１のレジスト膜１０４を用いた１回目のパターン露光、及び第２のレジスト膜１０７を用いた２回目のパターン露光で形成されたレジストパターンを中間層膜１０３に転写し、さらに中間層パターン１０３ｂをマスクに下層膜１０２下層膜１０２をエッチングして下層膜パターン１０２ｂを形成する。ここで、第１及び第２のレジスト膜１０４、１０７は、化学増幅型のレジスト膜であり、第２のレジスト膜１０７は、第１のレジスト膜１０４よりも、レジストの感度を向上させる添加物、若しくはレジスト露光部のアルカリ溶解性を向上させる添加物を多く含んでいる。 （もっと読む）

【課題】より安価で耐熱性の良好な塩基増殖剤、及び、その塩基増殖剤を含有した樹脂組成物、感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される構造を少なくとも１つ有し、アミノ化合物と共存下で１５０℃以上の加熱により分解し、アミノ化合物を生成することを特徴とする塩基増殖剤。


（式（１）において、Ｒ^１〜Ｒ^５は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、メルカプト基、ニトロ基、シリル基、シラノール基、又は１価の有機基であり、それらは互いに同一であっても異なっていても良く、それらが互いに結合を介して環状構造を形成していても良い。Ｒ^６は置換又は無置換の脂肪族炭化水素基、或いは置換又は無置換の芳香族炭化水素基である。） （もっと読む）

【課題】保存安定性に優れた酸発生剤としてのオキシムスルホン酸エステル、及び該酸発生剤を用い、保存安定性に極めて優れる感光性組成物の提供。
【解決手段】下記一般式（１）で表されることを特徴とするオキシムスルホン酸化合物及びそれを用いた感光性組成物である。


ただし、上記一般式（１）中、Ｒ^１は、置換基を有してもよいアルキル基、アリール基、複素芳香族基のいずれかを表し、Ａｒは、置換基を有してもよい芳香族環又は複素芳香族環を表し、Ｘは、Ｏ、及びＳのいずれかを表す。また、Ａは、５及び６員環のいずれかの態様が好ましい。 （もっと読む）

【課題】超微細領域での、特に、反射防止膜（ＢＡＲＣ）を使用しないイオン注入工程においても、高解像性、現像欠陥数、疎密バイアスを満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定のヒドロキシスチレン系繰り返し単位及び／又は（メタ）アクリル酸系繰り返し単位を有する、酸の作用により分解しアルカリ水溶液への溶解性が増大する樹脂(Ｂ１)、特定のヒドロキシスチレン系繰り返し単位及び／又は（メタ）アクリル酸系繰り返し単位と、特定の芳香環構造を有する繰り返し単位とを有する、酸の作用により分解しアルカリ水溶液への溶解性が増大する樹脂(Ｂ２)、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ａ）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】厚膜用化学増幅型ポジ型レジスト組成物であって高解像度であるとともに垂直な側壁を有するポジ型フォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）ｔ−ブチル（メタ）アクリレートから導かれる重合単位を１０〜７０モル％含有し、式（Ｉ）で示される化合物から導かれる重合単位群から選ばれる１種以上の重合単位を３０〜９０モル％含有し、ポリスチレン換算の重量平均分子量が５００００〜３０００００である重合体と、（Ｂ）アルカリ可溶性重合体と、（Ｃ）光酸発生剤とを含有するポジ型フォトレジスト組成物。
（もっと読む）

【課題】４００ｎｍ以上の波長領域に、光反応活性を有する新規な光塩基発生剤を提供する。また、高感度で、高分子前駆体の種類を問わず大きな溶解性コントラストを得られる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記式（１Ａ）〜（１Ｃ）で表わされる光塩基発生剤、及び当該光塩基発生剤と高分子前駆体を含有する、感光性樹脂組成物である。


（式中、Ｒ^ａとＲ^ｂは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、メルカプト基、ニトロ基、シリル基、シラノール基、もしくは１価の有機基を示す。Ｒ^ｃは、それぞれ独立に、水素原子、もしくは１価の有機基を示す。但し、Ｒ^ｃの少なくとも１つは、１価の有機基である。） （もっと読む）

【課題】ネガ型レジスト組成物および該ネガ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によって化学変換されアルカリ現像液に対する溶解性が減少する官能基を有する多核フェノール化合物および、トリフェニルメタン化合物から構成される、基材成分（Ａ）と、放射線の照射により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含むことを特徴とするネガ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に電子線、Ｘ線、ＫｒＦエキシマレーザー光、ＡｒＦエキシマレーザー光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、ラインエッジラフネス、現像欠陥が低減され、プロファイルが良好であるとともに、ホールパターンでの解像力、サイドローブマージンに優れたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】エステル結合、アミド結合、ウレタン結合、及びウレイド結合から選ばれた結合を少なくとも２つ以上有する含窒素化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】良好な分光特性を示す色フィルタアレイを形成し得る着色感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】式（Ｉ）で表される色素、アルカリ可溶性樹脂、感光性化合物、硬化剤、および溶剤を含有することを特徴とする着色感光性樹脂組成物。
（もっと読む）

【課題】分光特性を改善された色フィルタアレイを形成し得る着色感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】着色感光性樹脂組成物は、式（Ｉ）で表される化合物又はその塩を含有する。


［式（Ｉ）中、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹、Ｒ¹³、及びＲ¹⁴は、それぞれ独立して、水素原子又はアルキル基を示す。
Ｒ¹²は、スルホン酸基、カルボン酸基、これらのエステル、又は式（１）で表されるアミドを示す。
−ＳＯ₂ＮＨＲ¹⁵ …（１）
Ｘ^-は、ＢＦ_４^-、ＰＦ₆^-、Ｙ^-、ＹＯ₄^-（前二式中、Ｙはハロゲン原子である）、又はスルホン酸基を有する染料を示す。］ （もっと読む）

【課題】感度、解像度及びナノエッジラフネスに優れるパターンを形成することができるとともに、高精度な微細パターンを安定して形成可能なパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本パターン形成方法は、基板上にポジ型感放射線性樹脂組成物を用いてレジスト被膜を形成する工程、前記レジスト被膜に所定のパターンを有するマスクを介して放射線を照射して露光する工程、前記レジスト被膜上に上層膜を形成する工程、及び、現像によりレジストパターンを形成する工程を備えており、前記樹脂組成物は、感放射線性酸発生剤と、酸解離性基を有する繰り返し単位を含む樹脂と、を含有しており、且つ前記酸解離性基を有する繰り返し単位が前記樹脂中に３０〜８０モル％含まれている。 （もっと読む）

【課題】マトリックス樹脂が簡便な製造方法によって得られ、真空下で露光する非光リソグラフィプロセスに適用して微細なレジストパターン形成が可能であって、しかも露光時における保護基の脱落が抑制されている高解像度ポジ型化学増幅系レジスト材料を提供する。
【解決手段】フェノール性水酸基の一部又は全部がケタール基によって置換された、ポリ（４−ヒドロキシスチレン）又はその誘導体を含有するポジ型化学増幅系レジスト材料であって、前記ポリ（４−ヒドロキシスチレン）又はその誘導体は、ＲＡＦＴ剤としてのジチオエステル系化合物の存在下、スチレン系モノマーをリビングラジカル重合する工程を有する製造方法により得られる、ポジ型化学増幅系レジスト材料。 （もっと読む）

【課題】良好な分光特性を示す色フィルタアレイを形成し得る着色感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】式（Ｉ）で表される色素、アルカリ可溶性樹脂、感光性化合物、硬化剤、および溶剤を含有することを特徴とする着色感光性樹脂組成物。
（もっと読む）

【課題】熱リソグラフィーによって形状に優れたレジストパターンを形成できる熱リソグラフィー用レジスト組成物、該熱リソグラフィー用レジスト組成物を用いたレジスト積層体、該レジスト積層体を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】熱リソグラフィーにおいて用いられる露光光源の波長の光を吸収する熱リソグラフィー用下層膜上に、前記露光光源の波長の光に感光しないレジスト膜を形成するための熱リソグラフィー用レジスト組成物であって、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）と、熱の作用により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とが、ポリアルキレングリコール系溶剤（Ｓ１）を含む有機溶剤（Ｓ）に溶解してなることを特徴とする熱リソグラフィー用レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】高機能性高分子等のモノマー成分等として有用な新規な電子吸引性置換基及びラクトン骨格を含む多環式エステル、高分子化合物及びフォトレジスト樹脂組成物の提供。
【解決手段】下記式（１）


（式中、Ｒ^aは水素原子、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基等を示し、Ｒ¹は、ハロゲン原子、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基等を示す。Ａは炭素数１〜６のアルキレン基、酸素原子、硫黄原子又は非結合を示す。）で表される電子吸引性置換基及びラクトン骨格を含む多環式エステル。 （もっと読む）