【課題】定量的な管理による表示品質を保証すると共に、管理コスト及び製造コストを削減することができるリアプロジェクションテレビ（ＲＰＴＶ）の反射ミラー用ガラス基板を提供する。
【解決手段】リアプロジェクションテレビ（ＲＰＴＶ）の反射ミラー３は、フロート製法により板厚が３ｍｍに形成されたフロートガラス板（ガラス基板）１と、ガラス基板１の一方の表面１ａに、スパッタ法により形成されたアルミニウム（Ａｌ）から成る増反射膜２とを備える。カットオフ値０．８〜２５ｍｍの測定条件において、ろ波うねり曲線の最大振幅が０．５μｍ以下であり、ろ波うねり曲線のスペクトル解析による空間周波数２〜５００本／ｍｍ間の見易さ指標値γ（＝Ａ／Ｄ^３）の最大値が０．２（／ｍ^２）以下であり、見易さ指標値γの積分値が２０．０（／ｍ^３）以下である。 （もっと読む）

【課題】精度上の要求を満たしつつ、大型化及び軽量化の両立を可能にするミラー及びその製造方法を提供する。
【解決手段】反射膜１４を形成する板状の母材１１が、板ガラスを加熱によって軟化させ湾曲させることで形成されるととともに、研磨を含む表面仕上処理を施した光学面である表面１１ａを有するので、ミラー本体１０の光学的な精度を高めることができる。すなわち、母材１１の表面（光学面）１１ａは、加熱を利用した湾曲によって所望の曲率を有する曲面になっているだけでなく、研削や研磨といった表面仕上処理によって精度劣化につながる微視的な凹凸や巨視的な凹凸が除去されて光学的に精密なものとなっている。よって、この表面１１ａ上に反射膜１４を形成することにより、湾曲した板状でありながら高精度の反射面を有するミラー本体１０を得ること。 （もっと読む）

【課題】位置調整が簡易で製造が容易な光学素子、かかる光学素子を容易に作製できる製造方法、かかる光学素子を用いた組立容易な光アシスト磁気記録ヘッド、及びかかる光アシスト磁気記録ヘッドを用いた製造容易な磁気記録装置を提供する。
【解決手段】外周が曲面である棒状透明体の延在方向に沿って、切断または研磨を２回行って面が略９０度を成す棒状素子を得、得られた当該棒状素子を延在方向に対して垂直な面を形成するように複数回切断または研磨して光学素子を得る。 （もっと読む）

【課題】ＵＶ又はＥＵＶリソグラフィ用の光学素子における変形を低減するための光学素子を提供する。
【解決手段】基板４１の第１の表面４２上に機能性コーティング４６を備える光学素子であって、基板４１は、第１の表面４２と共通の縁部４５を有する第２の表面４３を備え、第２の表面４３は、コーティング４７も有し、第２の表面４３上のコーティング４７の厚さｔ_２及び応力σ_２を、第１の表面４２上の機能性コーティング４６の厚さｔ_１及び応力σ_１と組み合わせて条件ｔ_１・σ_１／ｔ_２・σ_２＝Ｘを満足し、式中、Ｘが０．８〜５．０の値を有するよう選択する。 （もっと読む）

【課題】低レベルのストリエーションを有する極紫外光光学素子及び極紫外光光学素子を製造するためのガラスブールを提供する。
【解決手段】研磨され、整形された表面を有し、０.２メガパスカル（ＭＰａ）より小さい山対谷ストリエーションレベルを有する、チタニア含有シリカガラスを含み、当該ガラスが、５重量％と１０重量％の間のチタニアを含有する。前記ガラスは、２０℃と３５℃の間で＋３０ｐｐｂ／℃から−３０ｐｐｂ／℃の範囲の熱膨張係数（ＣＴＥ）を有する。 （もっと読む）

【課題】 蛍光体からの蛍光光の利用効率が高い蛍光体基板を提供する。
【解決手段】 蛍光体基板200は、円板形状であって外周縁近傍位置に環状凹部が形成された基板201と、環状凹部の内面に形成された微細反射構造210と、この微細反射構造210上であって環状凹部に敷設された蛍光体層と、を備え、この微細反射構造210は、平面部221と、平面部221から突出する略錐形状とされた複数の凸部223と、から形成され、この凸部223の側面は、放物線面形状とされており、蛍光体層から基板201の平面と略平行方向に発光された蛍光光の光軸を射出面から射出されるように変換することにより蛍光光の利用効率を高めることができる。 （もっと読む）

【課題】一眼レフカメラ内で撮影レンズ系からの被写界光を受ける位置に配置され、入射した被写界光を透過光と反射光に分割するミラーにおいて、通常のガラス材質のハーフミラーに替わる光学特定の優れたペリクルミラーを提供すること。
【解決手段】ペリクルミラーをサファイア、水晶又は強化ガラスにより構成する。好ましくは、厚さが０．１ｍｍ以下の薄膜２０であり、周囲が枠２２に固定されており、カメラ内部において固定されて使用される。 （もっと読む）

【課題】プレス設備および金型を必要とせず、製造が容易で、高精度の凹面を形成できるヘリオスタット用凹面反射鏡およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基材１４の前面に鏡面部１５が設けられ、中央の剛性より周辺部の剛性が低く、かつ、鏡面部１５が凹面の放物面を形成するように弾性的に変形可能な反射部材１１と、反射部材１１の背面１６の周辺部を支持するフレーム部材１２と、反射部材１１の背面１６または前面の略中央と対向する位置で、フレーム部材１２に取り付けられ、反射部材１１の背面１６を引っ張り、または、反射部材１１の前面を押圧して、反射部材１１を弾性的に変形させる調整部材１３とを備える。 （もっと読む）

【課題】より容易にマイクロミラーアレイ基板を製造すること。
【解決手段】基板３上に配列させた金属柱２２を封止膜２３で被覆し、封止膜２３と金属柱２２の表面が略面一となるように研削して、封止膜２３の表面から金属柱２２の上端面２２ａを露出させる際、その上端面２２ａを研磨して鏡面加工を施し、光反射面２として形成することにより、マイクロミラーアレイ基板１Ａのミラー面に複数の光反射面２を一括して形成することを可能にした。 （もっと読む）

薄物部品（２、１４）の第１面（１６）のマイクロ変形方法であって、前記薄物部品は、前記第１面、前記第１面の反対側の第２面（４、１８）、及び前記第１面に接続する周辺部（２０）によって区切られており、前記第１面の上の最大測定可能距離（Ｄ）が前記第１及び前記第２面の間の距離（Ｅ）の約５倍を超え、好ましくは８倍を超え、前記第２面（４、１８）又は前記周辺部（２０）に局所的な加工が適用され、当該薄物部品に機械的な力を加えることなく、前記第１面（１６）に固定される静的マイクロ変形を生じさせることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高い反射率を維持することができる光反射体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】光を反射する光反射体であって、可視光から赤外光にわたる領域の光の反射率が８５％以上になるように表面が鏡面加工されたアルミニウム又はアルミニウム合金による基材１１と、基材１１に焼成して形成された二酸化チタンコート層１２と、を備える。 （もっと読む）

本発明は、ＥＵＶ波長領域に対する反射コーティングと、基板とを具えるミラーであって、基板の表面領域は反射コーティングの下側でこの反射コーティングに沿って均一に延在しているとともに、基板の表面から見て５μｍまでの深さｄを有している当該ミラーに関するものである。この場合、この表面領域はこの表面領域以外の残りの基板よりも２％だけ高い密度を有する。本発明は更に、上述した表面領域を同様に有する基板に関するものである。本発明は更に、イオン又は電子を照射することにより、上述した表面領域を有する上述したミラー及び基板を製造する方法に関するものである。
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【課題】真円状の加工穴を形成することができるレーザ加工機を得る。
【解決手段】レーザ発振器１１と、第１スキャンミラー１２ａを有しその第１スキャンミ
ラーを軸の周りに揺動させ、第２スキャンミラー１２ｂを有しその第２スキャンミラーを
、前記第１スキャナミラーが揺動する軸とほぼ直交する軸の周りに揺動させるガルバノス
キャナ１３とを備え、前記レーザ発振器１１から出射されたレーザ光が前記第１スキャン
ミラー１２ａから前記第２スキャンミラー１２ｂを経て走査されるレーザ加工機にあって
、前記スキャンミラーには偏光制御膜が施されており、一方はＳ波の位相をＰ波に対して
遅らせるミラーであり、他方はＰ波の位相をＳ波に対して遅らせるミラーである。 （もっと読む）

【課題】表面粗さが容易に得られるオーダーのガラス基材を直接接合させる。
【解決手段】
第１プリズム２１と第２プリズム２２を接着剤を用いずに直接接合するときに、まず、第１プリズム２１の斜面２１ａに、第１プリズム２１に接合する第２プリズム２２と主成分が等しいガラス薄膜２４を成膜する。そして、ガラス薄膜２４と第２プリズム２２の側面２２ａとを、その相互間に蒸留水３１を介在させて密着させた後に、蒸留水３１を蒸発させて第１プリズム２１と第２プリズム２２とを一体化する。 （もっと読む）

【課題】ミラー構成体のミラー支持治具の取り付けやすい構造を確立することによって、支持治具を取り付ける位置を原因とする鏡面歪を無くし安定して光学系を組み立てることが可能なミラー構成体の構造をつくる。
【解決手段】この発明のミラー構成体は、鏡面とは反対側の面から鏡面に向けてくぼんだ複数の凹穴６を有し、複数の凹穴６のうち少なくとも１つの凹穴６２は、隣接する凹穴６５と所定の間隔以上の間隔を有して配置され、凹穴６２と凹穴６５との間に平面６４を形成して、平面６４に支持治具を取り付ける。さらに、凹穴６２の穴側面６Ｐから隣接した凹穴６５の穴側面６Ｒに向けてくり抜かれたくり抜き穴１３ｂを有して、リブ構造体３を軽量化する。鏡面から一番遠い部分に支持治具を取り付ける平面を形成することにより、支持治具の取り付けにより鏡面歪が生じにくい構造のミラー構成体を形成できる。 （もっと読む）

視野ファセットミラーは、ＥＵＶマイクロリソグラフィのための投影露光装置の照明光学系における使用において、物体視野に配置された物体の構造を像視野へと伝達するように機能する。視野ファセットミラー（６）は、反射面（２２）を有する複数の視野ファセット（１８_x）を有する。互いに隣接する視野ファセット（１８_x）の装置は、基部平面（ｘｙ）を張っている。視野ファセット（１８ｘ）のうちの少なくとも２つの反射面（２２）の基部平面（ｘ，ｙ）上への投影は、サイズ、形状、向きというパラメータのうちの少なくとも１つに関して異なる。均一な物体視野照明と同時の高いＥＵＶ収量の保証が高い要件を満たす視野ファセットミラーがもたらされる。 （もっと読む）

【課題】本発明は光学反射素子を小型化することを目的とする。
【解決手段】この目的を達成するため本発明は、ミラー部１と、このミラー部１と第一の支持部２で連結された音叉形圧電振動子４と、この音叉形圧電振動子４の振動中心３と第二の支持部５で連結された支持体６とを備え、音叉形圧電振動子４は、その振動中心３を通る連結部７と、この連結部７の両端からそれぞれ延伸するアーム８、９とを有し、これらのアーム８、９の内側の辺と連結部７の内側の辺との成す角は、鈍角であるものとした。これにより本発明は、小型の光学反射素子を実現できる。 （もっと読む）

ペリクルビームスプリッタ(200,300,400,500,600,612,716)を製造するための方法は、アパーチャ（214,606,610,718,720）を支持基板（202,608,700）内にエッチングして、ビームスプリッタ基板（208,406,710）を該支持基板の上面に対して結合して該ビームスプリッタ基板が該アパーチャを覆うようにして、及び、少なくとも１つの光学コーティング（210、212、402、404、602、604、712、714）を前記ビームスプリッタ基板上に蒸着する、ことを含む。ペリクルビームスプリッタは、支持基板（202,608,700）と、半導体製造プロセスを用いて該支持基板内に作成されたアパーチャ（214,606,610,718,720）と、該アパーチャを覆うビーム分割コーティング（210,402,602,712）とを含む。
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【課題】本発明は光学反射素子の駆動精度を高めることを目的とする。
【解決手段】この目的を達成するため本発明は、ミラー部１と、このミラー部１とそれぞれ第一の支持部２で連結された、対の第一の音叉形圧電振動子３と、これらの第一の音叉形圧電振動子３とそれぞれ第二の支持部５で連結され、対の第一の音叉形圧電振動子３の外周を囲う枠体６と、この枠体６とそれぞれ第三の支持部７で連結された第二の音叉形圧電振動子８と、これらの第二の音叉形圧電振動子８とそれぞれ第四の支持部１０で連結された支持体１１とを備え、第一の音叉形圧電振動子３は、それぞれ第一の支持部２の両側に第一、第二のアーム１２、１３を有し、対の第一の音叉形圧電振動子３の少なくともいずれか一方は、第一または第二のアーム１２、１３上に第一のモニター電極１７を有するものとした。これにより本発明は、光学反射素子の駆動精度を高めることができる。 （もっと読む）

【課題】多層膜の層数を増やすことなく反射率の向上を図ることが可能な多層膜反射鏡を提供する。
【解決手段】本発明の多層膜反射鏡は、基材上にＭｏを主成分とするＭｏ層とＳｉを主成分とするＳｉ層とからなるＭｏ-Ｓｉペア層を交互に設けた多層膜反射鏡であって、基材直上の第１番目のＭｏ-Ｓｉペア層から第ｎ番目のＭｏ-Ｓｉペア層におけるＭｏ層の厚さＳｉ層の厚さが等しくなるように設定されることを特徴とする （もっと読む）