【課題】 光軸調心が容易な光回路及びその製造方法を提供するものである。
【解決手段】 本発明に係る光回路１０は、ガラス基板１１の一方の平面上に設けたクラッド層１２内に、そのクラッド層１２よりも高屈折率の光伝搬パターン１３を設けた回路部１４を有するものである。ガラス基板１１の他方の平面上にはメタルパターン１５が設けられ、クラッド層１２内に、このメタルパターン１５と略同形状の光伝搬パターン１３が設けられる。 （もっと読む）

【課題】 マスクを用いたエッチング加工を改良した半導体素子の作製方法及び半導体素子を提供すること。
【解決手段】 ＳｉＯ_２膜６３上にレジストを塗布した後に回折格子作製マスク用のレジストパターン６４を作製する（ｃ）。レジストパターンをマスクとしてＳｉＯ_２膜を加工することにより、レジストパターンをＳｉＯ_２膜６３に転写する（ｄ）。レジストパターン６４を除去することにより、ＩｎＰ上に傾斜面ａを有する導波層構造を作製するためのＳｉＯ_２マスクが形成される（ｅ）。マスクから半導体表面への塩素プラズマの拡散によりマスク端から離れるにつれてエッチング深さが浅くなり、傾斜面ａを有する形状が形成される（ｆ）。最後にＳｉＯ_２膜６３を、炭化フッ素系ガスを用いたＲＩＥにより除去する（ｇ）。 （もっと読む）

【課題】 光の経路を切り替える際に、機械的な駆動部分を無くして構造を単純化し、信頼性を高め小型化を可能とする。
【解決手段】 光に対して異なる屈折率を持つ媒質を周期的に配列したフォトニック結晶構造１０と、このフォトニック結晶構造１０における周期的配列の一部に設けられる線欠陥導波路１３と、この線欠陥導波路１３が分岐された第１の出力側線欠陥導波路１３ｂおよび第２の出力側線欠陥導波路１３ｃに配列され光学的状態が制御可能な電気光学物質１４と、この電気光学物質１４の光学的特性を変化させる第１の電極２４および第２の電極２５とを設けた。
（もっと読む）

【課題】機械的な動きなしで電気的信号を用いて安定的に共振周波数を変化させることが可能な、可変光偏向器を用いた波長可変型外部共振レーザダイオードを提供する。
【解決手段】様々な波長のビームを発生させる半導体光増幅器１１２と、受動導波路１１３と、スラブ導波路１００と、光入射面が凹状からなり、前記スラブ導波路から進行するビームを波長に応じて平行に回折させる凹曲面回折格子１２０と、前記スラブ導波路の一側面に形成され、前記凹曲面回折格子によって回折された平行なビームを反射させる反射鏡１０１と、前記凹曲面回折格子と前記反射鏡との間に位置し、電気的信号に応じて屈折率が変化し、前記凹曲面回折格子によって回折されたビームのうち特定波長のビームが前記反射鏡に垂直に入射するようにする可変光偏向器１３０とを含み、前記半導体光増幅器、前記回折格子及び前記可変光偏向器が前記スラブ導波路に集積される。 （もっと読む）

【課題】 光結合ロスを低減することができる光導波モジュール及びその実装構造を提供すること。
【解決手段】 第１の半導体層７、絶縁層８及び第２の半導体層９とがこの順に積層され、第１の半導体層７と第２の半導体層９との間に光導波層１０が形成されている光導波装置２と、光電変換素子（発光素子等の光入射手段３、受光素子等の受光手段４）とが、セラミクス等のインターポーザー５に配されている、光導波モジュール１。本発明の光導波モジュール１が、インターポーザー５を介して実装基板６に実装されている、光導波モジュールの実装構造。 （もっと読む）

【課題】 サイズが小さく、十分な強度を有する光導波路用フェルール、これに嵌合する光導波路、及びこれらを一体化した光コネクタを提供することにある。
【解決手段】 光信号を伝達する光導波路コアと、該光導波路コアを取り囲む板状のクラッド部と、を有する光導波路であって、前記クラッド部の少なくともいずれか一方の表面に、前記光導波路コアの延伸方向から０．１〜１５°傾いた方向に伸びる直線状凹部を有することを特徴とする光導波路、該光導波路が勘合する光導波路用フェルール、及びこれらを一体化した光コネクタである。 （もっと読む）

【課題】 複数の機能を実行することのできる光機能回路を、１つの基板上で作製する。
【解決手段】 仮想的なメッシュにより画定される仮想的なピクセルの各々が有する屈折率により、入力ポートから入射された光信号が多重散乱しながら分岐し、出力ポートから出射されるように決定された空間的な屈折率分布が形成された波動伝達媒体を備え、ピクセルは、コアに相当する高屈折率部と、空隙からなる低屈折率部とを有し、空隙に任意の材料を注入して機能を実現する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、小型で低損失な導波路型光デバイスを提供する。
【解決手段】本発明によると、基板（１）上に光導波路（２）が形成されていて、前記光導波路（２）が機能光導波路（２ｃ−１、２ｃ−２）を具備し、前記基板の長手方向側の端である基板端面（１ａ、１ｂ）に光導波路の光入力用端面（２ｆ）及び光出力用端面 （２ｇ）の少なくとも一方が設けられている導波路型光デバイスにおいて、前記光入力用端面（２ｆ）と前記機能光導波路（２ｃ−１、２ｃ−２）を結ぶ入力光導波路（２ａ）または前記光出力用端面（２ｇ）と前記機能光導波路（２ｃ−１、２ｃ−２）を結ぶ出力光導波路（２ｅ）の少なくとも一方が、前記光入力用端面（２ｆ）及び光出力用端面（２ｇ）の少なくとも一方側において、前記機能光導波路（２ｃ−１、２ｃ−２）と零でない角度をなし、かつそれぞれの側の前記基板端面（１ａ、１ｂ）に対してなす角度を９０度とは異ならしめて形成されていることを特徴とする導波路型光デバイスが提供される。 （もっと読む）

【課題】光回路を接続する際に簡便にかつ高効率で光結合するための光導波路を提案することにある。
【解決手段】光電気混載基板１４の光の入出力部にあけておいた穴３に勘合させる形で、突起状光導波路１１を挿入する。面型発光素子１２から発光した光２０は、突起状光導波路内に入り、突起状光導波路から出射され、光電気混載基板１４の光導波路に形成された４５度切断面１５で全反射し、９０度光路変換を行い、光導波路１３内へ導入される。 （もっと読む）

【課題】 フォトニック結晶構造を有する光学素子の光透過効率を向上させる。
【解決手段】 光学素子１０は、第１の媒質からなる通常媒質領域１１と、第１の媒質中に円孔１５が二次元的に配列された、第２の屈折率から成る平均屈折率を有するフォトニック結晶領域１２と、通常媒質領域１１からフォトニック結晶領域１２に向かって屈折率が第１の屈折率から第２の屈折率に徐々に変化する中間領域１３とを有する。中間領域１３には、突起付き円孔１６が周期的に形成され、突起付き円孔の突起の角度は、中間領域１３とフォトニック結晶領域１２との境界面１４から２０度傾いている。光は、境界面１４の垂線に関して突起の傾き方向とは逆の方向に、境界面１４の垂線から１０度傾いて入射される。 （もっと読む）

【課題】 光導波路内において効率良く光を伝搬させながら光検出を行うことができ、作製が容易な光導波装置を提供すること。
【解決手段】 光入射部から光出射部へ光を導くＳｉＯ₂膜等の光導波路２１ａと、この光導波路２１ａの外面に接して設けられたフォトダイオード等の受光部２と、光導波路２１ａに内設された４５°ミラー面の光反射部５とを有し、垂直入射光１１をミラー９で反射後に導びかれた信号光１１を光反射部５によって９０°光路変換して受光部２に入射してモニタを行う一方、残りの信号光を光導波路２１ａから出射する、光導波装置２３ａ。 （もっと読む）

【課題】小型で、環境変動に対し安定で制御しやすい光遅延回路を得ること。
【解決手段】フォトニック結晶の周期的な屈折率分布構造に対して導入される線状の欠陥によって形成される欠陥導波路３ａ，３ｂが複数並列に配置されてなる光遅延回路１であって、欠陥導波路３ａ，３ｂは、欠陥導波路３ａ，３ｂ間の距離が近接して配置され、光の合分波を行う合分波部４ａ，４ｂと、合分波部４ａ，４ｂから分岐し、欠陥導波路３ａ，３ｂ中を伝送する光が互いに干渉しない欠陥導波路間の距離を有して配置される光遅延部と、を備え、複数の欠陥導波路３ａ，３ｂ間の構成を異ならせる。 （もっと読む）

【課題】 小型化が可能であり、コストの低減を図ることができる光電変換装置及び光電変換素子アレイを提供すること。
【解決手段】 光導波路３等の光導波手段と、複数の光電変換素子（発光素子又は受光素子）４、６からなる光電変換素子アレイ１０、１１とが光結合してなる光電変換装置１において、光導波手段３の光入射又は光出射端部１８、１９にそれぞれ対応した複数の光電変換素子４、６が共通の導電層７上に設けられ、複数の光電変換素子４、６の各第１極８に対向した第２極９が、基準電位設定用として導電層７を介して、複数の光電変換素子４、６の少なくとも２個に共通して取り出されていることを特徴とする、光電変換装置１。また、この光電変換装置１を構成する光電変換素子アレイ１０、１１。 （もっと読む）

【課題】高温と低温が繰り返し現れる冷熱サイクル、かつ高湿の条件下において長期間使用しても、シリコンウェハ等の基材から剥離することのない光導波路及びその形成材料を提供する。
【解決手段】本発明の光硬化性組成物は、（Ａ）一般式：（Ｒ¹）_p（Ｒ²）_qＳｉ（Ｘ）_{４−ｐ−ｑ} ［式中、Ｒ¹はフッ素原子を含有する炭素数が１〜１２である非加水分解性の同一であるか又は異なる有機基を示し、Ｒ²はフッ素原子を含有しない炭素数が１〜１２である非加水分解性の有機基を示し、Ｘは同一であるか又は異なる加水分解性基を示す。また、ｐは１又は２であり、ｑは０又は１である。］で表される加水分解性シラン化合物、その加水分解物、またはその縮合物と、（Ｂ）有機溶媒に対して可溶性を有するシロキサン系カゴ状化合物とを含む。該組成物は、光導波路２４の下部クラッド層１２等の形成材料として用いられる。 （もっと読む）

【課題】光導波路板の製造方法において、余剰コア層からなる中間層が少なくて光導波損失が小さい光導波路の実現を可能とする。
【解決手段】光導波路板は、コア形成用の凹溝２１を有する下部クラッド２を基板１上に備えたクラッド基板３を形成するクラッド基板形成工程、クラッド基板表面に溶剤成分を含んだコア樹脂液５０を塗布するコア樹脂液塗布工程、コア樹脂液平坦化工程、コア樹脂液の溶剤成分を揮発させるコア溶剤揮発工程、クラッド基板の凹溝に入っているコア樹脂液５１のみを選択的に硬化させてコアを形成するコア樹脂部分硬化工程、クラッド基板表面から硬化していないコア樹脂液５１をエアジェットＡにより除去する未硬化コア樹脂液除去工程、上部クラッド樹脂液６０から上部クラッド６を形成する上部クラッド樹脂液塗布工程、上部クラッド樹脂液平坦化工程、上部クラッド樹脂硬化工程により製造される。 （もっと読む）

【課題】 ＦＴＴＨ用等に使用できる広帯域に渡り低損失かつ分岐比が一定な光スプリッタを、複雑な製造工程を経ずに提供する。
【解決手段】 本発明においては、１本の光導波路１０と２本の光導波路２０が、テーパ状光導波路３０によりＹ字型に接続された分岐光導波路を用い、テーパ状光導波路のコア内に、コアと屈折率の異なる光分割構造体を設ける。この光分割構造体は三角形５２、四角形５３、多角形、円形５４、楕円形の互いに分離した島状あるいは連結された島状５５であることが好ましい。これらの分岐光導波路を多段に接続して多分岐光導波路を構成することができる。 （もっと読む）

【課題】受光素子との集積化が可能であり、かつ、差動位相変調光の復調後の感度劣化を抑えることができる半導体光遅延干渉器を得る。
【解決手段】半導体光遅延干渉器は、半導体基板上に積層成長された半導体導波層構造を有し、分波光の一方を導波する接続導波路と、分波光の他方を導波し、差動位相変調光である入射光の１タイムスロットに相当する遅延長だけ接続導波路よりも長い経路長を有する遅延導波路とを備える。さらに、接続導波路は、接続導波路内を導波する分波光に対して、遅延導波路の遅延長の伝搬損失に相当する損失を与える損失付加部を備えている。 （もっと読む）

【課題】 製造工程を簡略化させて生産性の向上を図る。
【解決手段】 基板１上に形成された一または複数の樹脂層６の一部に凹面部７が設けられ、凹面部７内に、その凹面部を構成する樹脂層の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率樹脂層８が充填されている集光素子９を製造する際に、基板１上に、紫外線照射の有無によりベーク工程における体積収縮率が変化する樹脂層５を形成し、集光素子形成部以外の部分に紫外線ＵＶを照射して体積収縮率を照射部と非照射部で変化させ、これに対してベーク工程を行うことにより、樹脂層５の表面に凹面部７を形成する。 （もっと読む）

【課題】 光ファイバを用いることなく、光導波路および非光導波路を備えた光カードを廉価に製造すること。
【解決手段】 光カード１は、コア層２Ａが低屈折率の表面層２Ｂおよび裏面層２Ｃで挟まれた構成の本体シート２の表面２ａにＶ溝５および遮光用のＶ溝７を形成し、この上に、紫外線硬化型レジンを塗布し、表面保護シート４を積層し、紫外線を照射して紫外線硬化型レジンを硬化させることにより得られる。Ｖ溝５で仕切られている各区画部分６（ｎ）のうち、遮光用の溝７のない区画部分が光導波路として機能し、溝７が形成されている区画部分が非光導波路として機能する。本体シート２の表面にＶ溝を形成し、表面保護シート４で覆うという簡単な工程により、光ファイバを用いることなく、光導波路、非光導波路の組み合わせパターンにより情報を担持可能な光メモリを製造できる。 （もっと読む）

【課題】支持材、電気配線形成用の金属層及び光配線形成用の樹脂層を積層した積層材を用いて光電気配線混載基板を製造するにあたり、製造プロセスにおける支持材の不用意な剥離を防止、金属層からの支持材の剥離時における容易な剥離、電気配線の成形性向上を達成する。
【解決手段】支持材１の少なくとも一面側に電気配線形成用の金属層３を積層すると共にその界面の周縁部にのみ設けた接着剤２によって支持材１と金属層３を接着する。金属層３の支持材１とは反対側の面に、透明樹脂層４、活性エネルギー線の照射によって溶剤溶解度が変化するか或いは屈折率が変化する感光性樹脂からなる感光性透明樹脂層１２を順次形成する。このような構成の積層材６を用い、感光性透明樹脂層１２に活性エネルギー線を照射してコア層８を形成する。コア層８が形成された面に透明樹脂層１２を形成する。金属層３から支持材１を剥離した後に金属層３に配線加工を施す。 （もっと読む）