【課題】 フォトニック結晶配列の複合導波路で光制御された光を高効率に結合して利用する。
【解決手段】 光分岐部１１は１本の直線状の線欠陥で形成された入射側導波路１０を、２本の導波路に分岐し、分岐した２本の導波路は入射側導波路１０の光の進行方向に対して線対称にそれぞれ60度傾き、互いに120度傾いている。複合導波路１２は、分岐された２本の導波路から連続的に形成され、入射側導波路１０と同じ方向に延びる平行な２本の線欠陥で形成されている。光結合部１３は、光分岐部１１と線対称的な構造をもち、複合導波路１２の２本の線欠陥から連続的に形成され、複合導波路１２の２本の線欠陥における光の進行方向に対して60度傾いて交わる２本の導波路を結合する。複合導波路１２の間には、２本の線欠陥に平行に３列の直線状のホールの配列が挟まれており、中央の１列は両側よりも大きなホールで形成されている。 （もっと読む）

【課題】 ホログラフィック波動伝達媒体を適用した光導波路デバイスの接続を容易にする。
【解決手段】 基板（１０）上に形成されたクラッド層と、クラッド層に埋設されたコア部とからなる導波路により構成され、コア部は、導波路より屈折率の低い複数の散乱点により画定されるピクセル形状部（１１，１３）を含む光導波路デバイスにおいて、ピクセル形状部（１３）に画定されたポートが形成された基板（１０）の端面に、シリンドリカルレンズ（１４）を備えた。 （もっと読む）

【課題】 クラッド層の白濁を抑え、且つ、クラッド層のフッ素濃度を高めることができる光導波路デバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】 本発明による光導波路デバイス１の製造方法は、基板の主面上に、フッ素を添加した石英ガラスからなる第１のクラッド層を形成する第１のクラッド層形成工程と、第１のクラッド層の主面上に、純石英ガラスからなる第１の保護層を形成する第１の保護層形成工程と、第１の保護層を貫通して第１のクラッド層に達する溝を形成する溝形成工程と、溝に、純石英ガラスからなるコアを形成するコア形成工程と、第１の保護層の主面上およびコアの上に、フッ素を添加した石英ガラスからなる第２のクラッド層を形成する第２のクラッド層形成工程とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 処理情報量の大容量化、情報処理の高速化に対応することができる光電気配線板を提供すること。
【解決手段】 基板の両面に導体回路と絶縁層とが積層形成されたリジッド部と、１つまたは複数の屈曲可能なフレックス部とが一体化してなる光電気配線板であって、
前記リジッド部には、光学素子および／または光学素子を実装したパッケージ基板を搭載するための外部接続端子が形成されており、前記フレックス部の少なくとも１つには、光配線が形成されていることを特徴とする光電気配線板。。 （もっと読む）

【課題】 装置規模を縮小化させる。
【解決手段】 基板１０１にクラッド１０２および該クラッド１０２よりも屈折率が相対的に高いコア１０３が形成され、該コア１０３中を光が伝搬しうる光デバイス１であって、該コア１０３が、入射光伝搬パターン部２と、回折パターン部３と、位相差形成パターン部４と、をそなえ、かつ、少なくとも位相差形成パターン部４において、基板１０１に平行な方向と基板１０１に垂直な方向とでコア１０３中を伝搬する光の屈折率が異なる部分をそなえるように構成する。 （もっと読む）

【課題】石英系光波回路プロセス中で起こるシリコン基板のそりにより発生する複屈折性を無くすことと光機能デバイスの薄膜ヒータを構成する薄膜形成時の内部応力発生をゼロにすることで安定性や長期信頼性を向上させる。
【解決手段】シリコン基板１０２上に石英系光導波路１０１を形成後、シリコン基板１０２と石英系光導波路１０１の膨張係数の差に圧縮応力に伴うが、Ｔａ_２Ｏ_５薄膜１００からなる絶縁体薄膜を堆積させ、引張応力薄膜を形成した、入出力ポートに３ｄＢの方向性結合器と熱光学移相器を有するマッハツェンダ型干渉計構成の光スイッチ。 （もっと読む）

【課題】 高寸法精度で超微細な回路パターンを含んだトータルパターンの形成時間を短縮させる電子線描画を利用したパターンの高速加工方法を提供する。
【解決手段】 基板３１表面に加工膜３２を形成し、その加工膜３２に電子線描画により所望パターンを形成する方法において、加工膜３２の上に電子線レジスト膜２２を形成する工程と、電子線描画により電子線レジスト膜２２に回路パターンＡを描画する工程と、電子線レジスト膜２２を現像して電子線レジストパターン２４を形成する工程と、回路パターンＡの位置情報となる外枠パターンＢを形成するためのマスク２５を加工膜３２上に配置する工程と、加工膜３２を所望ガスでドライエッチングして加工膜３２に回路パターンＡと外枠パターンＢとを形成する工程とを含む方法である。 （もっと読む）

導波路コア上に実質的に平坦な上部クラッディング表面を形成することにより、アセンブルされた導波路（１２６０、１２７０）間における横結合を促進することおよび／または、機械的なアライメントおよび／または支持を提供する。光学アセンブリを固定すると共にその光学表面を保護するべく、埋め込み材料を使用可能である。薄型コアによって製造された構造要素を使用して、機械的なアライメントおよび／または支持を提供し、カプセル化プロセスを促進することができる。
（もっと読む）

【解決手段】 本発明の導波路型光合分波回路１は、第１のＡＷＧ２と複数並列配置した第２のＡＷＧ３とを組み合わせ、前記第１のアレイ導波路型回折格子回路と前記第２のアレイ導波路型回折格子回路の各回路との間で入出力される光信号のうち、所定の数だけの波長の光信号を組み合わせて前記第１のＡＷＧ２と前記第２のＡＷＧ３の各回路との間で入出力させるように構成している。
【効果】 本発明によれば、第１のＡＷＧと複数並列配置した第２のＡＷＧとを組み合わせ、これらの第１のＡＷＧと第２のＡＷＧの各回路で入出力される光信号のうち、所定の数だけの波長の光信号を組み合わせて入出力させるようにしたので、中心波長間隔やパスバンド幅の異なる光信号を合分波でき、例えば１心３波多重通信システムのような双方向の通信システムに適用できる。 （もっと読む）

【課題】基板上に断面形状が安定で意図どおりな無機質微細パターンを有する無機質微細パターン形成体を提供すること、およびそのような無機質微細パターンの形成方法を提供することを課題とするものである。
【解決手段】所定の幅、深さの成形用パターン１５を有する成形用型１４と、基板１２上にフェニル基含有量が４０〜９０％であるポリシロキサンを含有する放射線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる成形用層１３が積層された成形用基板１１を準備し、成形用層１３に成形用パターン１５を当てて成形を行ない、成形用型１４側から電離放射線１７を照射して成形用層を硬化させ、脱型することにより、無機質微細パターンを形成することができた。 （もっと読む）

【課題】 光学的なアライメントを容易に行うことができる画像形成装置の光源を提供するとともに、当該光源に用いる導光板を製造する際に、導光板のクラックやチッピング等の損傷が発生することを抑制できる端面加工方法を提供する。
【解決手段】 発光素子３が出射した光Ｄを集光するとともに、集光した光Ｄを個別に出射する複数条の導光路を備えた導光板２と、導光板２の出射面から出射した光を感光ドラム４００上に結像させるレンズアレイ１２とが基材１１に実装された構成を有し、基材１１が、実装されたレンズアレイの基材１１上の各焦点に対応する位置に、導光板２の出射面２４を位置決めする位置決め手段を備える。
また、導光板２の端面加工には、導光板２が導光板形成用基板２５と上部支持基板とに挟持された状態で、導光板形成用基板２５及び上部支持基板４とともに研磨する方法を採用する。 （もっと読む）

【課題】 損失を低くした光分岐装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 入力導波路１と、入力導波路１に接続されたモード変換テーパ導波路２と、モード変換テーパ導波路２に接続された２つの出力導波路３，４とからなり、入力導波路１からモード変換テーパ導波路２への光波の伝搬においては、モード変換テーパ導波路２の基底モードおよび高次モードが励振され、かつ前記基底モードが散逸しない構造を有すると共に、前記基底モードおよび前記高次モードによる干渉縞が、モード変換テーパ導波路２における出力導波路３，４との接続位置にその強度を局在させる構造を有し、入力導波路１と出力導波路３，４とを効率良く結合して、光波の損失を低減させるようにした。 （もっと読む）

【課題】 小型で安価な光分岐回路とこの光分岐回路を用いた同時に複数の化学物質の検出が可能なセンサを提供することを目的とする。
【解決手段】 センサ１１は表面に第１光導波路５が形成されたガラス製の基板２と、側面全周にわたってループ状に第２光導波路６が形成されたガラス製の略円柱状部材３と、第２光導波路６上の一部に塗布された機能性薄膜１２ａ〜１２ｄと、レーザ光源１３と、プリズム１４と、光検出器１５ａ〜１５ｅとを備え、略円柱状部材３は側面平坦部が基板２の表面に当接するように基板２上に配置されている。 （もっと読む）

【課題】出力分光特性としてフラットトップ特性を実現すると供に、パルス過渡特性の劣化を防ぐことができる、導波路基板を用いた二重分光装置を提供する。
【解決手段】 入力導波路２，９とＡＷＧ３，１０と出力導波路４，１１とが平面基板上に形成された分波用ＡＷＧ基板５及び合波用ＡＷＧ基板１３を備えていると供に、波長操作器６を備えている。分波用ＡＷＧ基板５の出力導波路４及び合波用ＡＷＧ基板１３の入力導波路９は、各波長チャネル毎に設けられており、これらの中を進行する光が発散と集光とを繰り返すように、これらの導波路４，９の幅方向に所定の屈折率分布を持っている。分波用ＡＷＧ３の入射ポートＩ０から合波用回折格子Ｉ０の出射ポートＩ１０までの間の中間結像位置Ｉ１〜Ｉ９の数は奇数個で、一つの波長チャネル内の光がいずれの光路を経ても、光路長が同じになるようになっている。 （もっと読む）

【課題】 欠陥の発生を確実に防止することができるとともに、高い信頼性を有する画像形成装置の光源及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の画像形成装置の光源１は、隔壁２２で仕切られた複数条の細溝２１を片面に備える板状のクラッド２３と、クラッド２３より高屈折率である透光性を有する材質からなるとともに、その上面が隔壁２２の高さより低い位置となる状態で細溝２１に充填されたコア１１と、コア１１の上面に設けられた発光素子３０とを備える。
上記構造によれば、コア１１上面に形成される下層電極３１を、その上面に成膜される発光層３２が確実に被覆できるため、発光素子３０に断線や短絡という欠陥が発生することを確実に防止できる。
また、上記構造はコア１１の材質としてクラッド２３より低硬度の材質を採用し、コア１１の上面とクラッド２３（隔壁２２）の上面をともに研磨する加工により容易に形成できる。 （もっと読む）

【課題】 ミラー面を有する高分子光導波路を好適な製造効率で簡易に製造することができる高分子光導波路の製造方法を提供する。
【解決手段】 高分子光導波路は、表面にコアパターン１２が凹設されたクラッド基部１１と、コアパターン１２の内部に形成されたコア１３と、コア１３を被覆するようにクラッド基部１１の表面に設けられたクラッド蓋部１４とを備えており、コアパターン１２の内面にはミラー面１５が設けられている。コアパターン１２及びミラー面１５は、スタンパを使用した加熱エンボス加工法によってクラッド基部１１に凹設される。このスタンパは、階調領域を有するマスキング部材を用い、フォトレジスト材料を露光及び現像することによって形成されている。 （もっと読む）

【課題】光通信や光情報処理に用いる光モジュールに関し、光導波路構造体を構成するクラッドの両曲面にコア部を形成することで光導波路のアレイ化を図り、光モジュール形成時に必要とされる高い位置合わせ精度を確保するとともに、良好な組み立て性を有する光導波路構造体および光モジュールを提供する。
【解決手段】一方の面から入射された複数の入射光を、進行方向を変えて他方の面から出射させる光導波路構造体１５或いは該光導波路構造体を含む光モジュールであって、光の進行方向に沿って表裏両面に溝が設けられた第１のクラッド１６と、前記第１のクラッドの屈折率よりも高い屈折率を有する透明材料からなり、少なくとも前記溝に埋設されるコア１７と、少なくとも前記コア１７の表出面を含む面を覆い、前記第１のクラッドと一体化された状態で前記第１のクラッドの表裏面上にそれぞれ設けられた第２のクラッド１８および第３のクラッド１９とを有する。 （もっと読む）

【課題】 回折格子に反射膜を形成しなくとも光損失を低減する。
【解決手段】 光信号を入射する複数の光入射部と、光入射部から入射した上記光信号を反射、回折する回折格子と、回折した上記光信号を導入して出射する光出射部とを備える光合波器において、回折格子へ入射した光信号が反射するように、光信号の波長をλ、回折格子の格子周期をｄ、光信号の回折格子への入射角度をｉ（ｉ＞０）、回折格子の入射側の屈折率をｎ₁ 、回折格子の外側の屈折率をｎ２としたとき、
ｎ₁＞ｎ₂ かつ、
【数１】


を満たして回折格子を形成した。 （もっと読む）

【課題】電気信号に変換することなく、制御光で信号光波の分波や合波をできるようにすること。
【解決手段】
第１光伝送路１４と他の光伝送路１６とを所定区間Ａにおいて接近させて同方向に光結合させる。また、第３光伝送路０を第１光伝送路１４と光結合させる。第３光伝送路を伝搬する制御光により第１光伝送路を伝搬する信号光波をラマン増幅させて伝搬定数を変化させる。これにより、第１光伝送路１４から第２光伝送路１６へ分波する信号光波の分波率を制御する。 （もっと読む）

【課題】 製造を容易にするとともに光の界面反射による損失を低減する。
【解決手段】 直線状に形成された第１の光導波路２と第２の光導波路４との間に曲がり導波路３が設けられている。曲がり導波路３は、互いに隣接する各底辺間が接続されて一連に形成され底辺側に湾曲させた多数の台形状のコア部９によって構成されている。第１および第２の光導波路２，４と曲がり導波路３とは、クラッド層５によって埋設され、基板１１上に積層形成されている。コア部９は、斜面の傾きが２で、かつ底辺に対する上辺の長さの比を０．６以下に形成され、クラッド層５のコア部９に対する比屈折率差を５％以下としている。 （もっと読む）