【課題】 光導波路に貫通穴または非貫通穴を設けるための技術を提供することにある。
【解決手段】 コア部とクラッド部を有する光導波路への貫通穴または非貫通穴の形成にレーザー加工処理を用いる。 （もっと読む）

【課題】 生産性が高く、低損失なスポットサイズ変換部を備えた光導波路及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 本光導波路は、下部クラッド並びに導波部及びスポットサイズ変換部から成るコアを有し、変換部の断面幅が高さ方向に徐々に小さくなる部分を有し、変換部の底面幅及び高さが先端に向かって次第に変化し、先端が光の進行方向と交差する面により断ち切られた形状であることを特徴とする。また、本光導波路の製造方法は、高さが一定で、底面幅が徐々に変化し、光の進行方向と交差する面により先端が断ち切られた形状で、断面がほぼ矩形のコアを形成する第１の工程及びコアをエッチングすることにより、断面幅が高さ方向に徐々に小さくなり、コアの底面幅の変化に対応して高さが変化する形状のコアを形成する第２の工程を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ミラー面を有する高分子光導波路を好適な製造効率で簡易に製造することができる高分子光導波路の製造方法を提供する。
【解決手段】 高分子光導波路は、表面にコアパターン１２が凹設されたクラッド基部１１と、コアパターン１２の内部に形成されたコア１３と、コア１３を被覆するようにクラッド基部１１の表面に設けられたクラッド蓋部１４とを備えており、コアパターン１２の内面にはミラー面１５が設けられている。コアパターン１２及びミラー面１５は、スタンパを使用した加熱エンボス加工法によってクラッド基部１１に凹設される。このスタンパは、階調領域を有するマスキング部材を用い、フォトレジスト材料を露光及び現像することによって形成されている。 （もっと読む）

【課題】 強誘電体材料およびその他の材料からなる張り合わせ型の光導波路の製造方法において、熱接合による不具合を回避する。
【解決手段】 複数の基材が接合され且つ少なくとも光が伝播される側の基材が強誘電体材料からなる光導波路の作製手法であって、接合面の主成分がいずれも二酸化シリコンとなるよう基体を選択するか或いは薄膜層を形成し、接合面にフッ化水素酸を含む溶液またはアルカリ溶液を滴下して基材を溶融させることにより常温にて接合可能とした。 （もっと読む）

【課題】 欠陥の発生を確実に防止することができるとともに、高い信頼性を有する画像形成装置の光源及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の画像形成装置の光源１は、隔壁２２で仕切られた複数条の細溝２１を片面に備える板状のクラッド２３と、クラッド２３より高屈折率である透光性を有する材質からなるとともに、その上面が隔壁２２の高さより低い位置となる状態で細溝２１に充填されたコア１１と、コア１１の上面に設けられた発光素子３０とを備える。
上記構造によれば、コア１１上面に形成される下層電極３１を、その上面に成膜される発光層３２が確実に被覆できるため、発光素子３０に断線や短絡という欠陥が発生することを確実に防止できる。
また、上記構造はコア１１の材質としてクラッド２３より低硬度の材質を採用し、コア１１の上面とクラッド２３（隔壁２２）の上面をともに研磨する加工により容易に形成できる。 （もっと読む）

【課題】 光学素子が実装されるとともに光信号通過領域が設けられ、接続信頼性に優れるＩＣチップ実装用基板を提供する。
【解決手段】 基板の両面に導体回路と層間樹脂絶縁層とが積層形成されるとともに、光学素子が実装され、光信号伝送用光路が形成されたＩＣチップ実装用基板であって、
前記光学素子の外周に接するように、光学素子封止層が形成されていることを特徴とするＩＣチップ実装用基板。 （もっと読む）

【課題】 製造を容易にするとともに光の界面反射による損失を低減する。
【解決手段】 直線状に形成された第１の光導波路２と第２の光導波路４との間に曲がり導波路３が設けられている。曲がり導波路３は、互いに隣接する各底辺間が接続されて一連に形成され底辺側に湾曲させた多数の台形状のコア部９によって構成されている。第１および第２の光導波路２，４と曲がり導波路３とは、クラッド層５によって埋設され、基板１１上に積層形成されている。コア部９は、斜面の傾きが２で、かつ底辺に対する上辺の長さの比を０．６以下に形成され、クラッド層５のコア部９に対する比屈折率差を５％以下としている。 （もっと読む）

【課題】 露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明の放射線硬化性組成物は、（ａ）成分：
Ｒ^１_ｎＳｉＸ_４−ｎ
（Ｒ^１は、Ｈ若しくはＦ原子、又はＢ、Ｎ、Ａｌ、Ｐ、Ｓｉ、Ｇｅ若しくはＴｉ原子を含む基又は有機基を示し、Ｘは加水分解性基を示し、ｎは０〜２の整数を示す。）
で表される化合物、その化合物の多量体、及び／又はその化合物の部分縮合物を必須成分としてを加水分解縮合して得られ、Ｓｉ原子１モルに対する、Ｓｉ原子に結合しているＨ、Ｆ、Ｂ、Ｎ、Ａｌ、Ｐ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｉ及びＣ原子からなる群より選ばれる少なくとも一種の原子の総含有割合が０．９０〜０．２０である樹脂を含むシロキサン樹脂、（ｂ）成分：光酸発生剤又は光塩基発生剤、及び（ｃ）成分：非プロトン性溶媒を含む溶媒を含有する。 （もっと読む）

【課題】電気信号に変換することなく、制御光で信号光波の分波や合波をできるようにすること。
【解決手段】
第１光伝送路１４と他の光伝送路１６とを所定区間Ａにおいて接近させて同方向に光結合させる。また、第３光伝送路０を第１光伝送路１４と光結合させる。第３光伝送路を伝搬する制御光により第１光伝送路を伝搬する信号光波をラマン増幅させて伝搬定数を変化させる。これにより、第１光伝送路１４から第２光伝送路１６へ分波する信号光波の分波率を制御する。 （もっと読む）

【課題】光通信や光情報処理に用いる光モジュールに関し、光導波路構造体を構成するクラッドの両曲面にコア部を形成することで光導波路のアレイ化を図り、光モジュール形成時に必要とされる高い位置合わせ精度を確保するとともに、良好な組み立て性を有する光導波路構造体および光モジュールを提供する。
【解決手段】一方の面から入射された複数の入射光を、進行方向を変えて他方の面から出射させる光導波路構造体１５或いは該光導波路構造体を含む光モジュールであって、光の進行方向に沿って表裏両面に溝が設けられた第１のクラッド１６と、前記第１のクラッドの屈折率よりも高い屈折率を有する透明材料からなり、少なくとも前記溝に埋設されるコア１７と、少なくとも前記コア１７の表出面を含む面を覆い、前記第１のクラッドと一体化された状態で前記第１のクラッドの表裏面上にそれぞれ設けられた第２のクラッド１８および第３のクラッド１９とを有する。 （もっと読む）

【課題】通常の電気コネクタ付電気ケーブルと同等の取り扱い容易性を有すると共に、フレキシブル性に優れる光電気複合配線部品を実現することにある。更に耐ノイズ性に優れると共に、高速・大容量・高品質な情報伝送が可能な光電気複合配線部品を提供すること。
【解決手段】電気配線を有する可撓性の基板と、電気配線に接続される電子部品と、電気配線に接続される光素子とからなる光電気複合配線部品において、光電気複合配線部品の両端に１個以上の端子を有する電気コネクタを設けると共に、光素子と光信号を光学的に結合して光信号を伝送する光導波路を備えた。 （もっと読む）

【課題】光導波路板の製造方法において、光導波路板のコアの３次元構造を精度良くかつ容易に形成可能とする。
【解決手段】光導波路板の製造方法において、光透過性樹脂よりなるクラッド基板を形成するクラッド基板形成工程（Ｓ１）、クラッド基板表面にクラッド基板より高屈折率の材料よりなるコア材を配置するコア材配置工程（Ｓ２）、コア材に選択的に光を照射して難溶部位と可溶部位とに区分けするコア材パターニング工程（Ｓ３）、コア材の可溶部位を第１の現像液で溶解する第１現像工程（Ｓ４）、第１の現像液をこの現像液より表面張力の低い第２の現像液で置換し第１の現像液及び又は第２の現像液でコア材の残留した可溶部位を溶解する第２現像工程（Ｓ５）、及びコア材の難溶部位の表面にオーバクラッド材を配置してオーバクラッドを形成しコア材の難溶部位をオーバクラッドとクラッド基板とで囲み光導波路とするオーバクラッド形成工程（Ｓ６）を備える。 （もっと読む）

【課題】 光学モジュールに関し、光スイッチが作り込まれた光導波路基板を含む光学モジュールに於ける電極配線密度を簡単且つ容易に向上して多チャネル化に対応することを可能にし、データ処理量増大の希求に応えようとする。
【解決手段】 基板１２上に光学材料からなるコア層１４とクラッド層１３及び１５とで形成された光導波路及び該光導波路の一部に表面から少なくともコア層１４を分断して形成された凹部及び凹部の底面上に形成された電極配線と絶縁性樹脂とからなる電極配線層の複数層２２Ａ、２２Ｂ、２３Ａ、２３Ｂなどを備えてなる光導波路基板１１と、表面に形成されたプリズム型電極部が前記電極配線層２３Ａ、２３Ｂに於ける電極と対向し且つ結合された光偏向素子部４Ａ、４Ｂと、光偏向素子部４Ａ、４Ｂと前記凹所との周囲に充填された接着剤とを備える。 （もっと読む）

【課題】入力光を分波して、出力面に2次元状に分布する複数の点光波源群として出力させる分波装置であって、簡便な構成で作製が容易である。
【解決手段】第1の形態の分波装置100は、第1光分割素子10と第2光分割素子20とを具えて構成される。第1光分割素子は、第1入力ポート10aと第1出力ポート群10bとを有しており、第1出力ポート群は1次元状に配列された複数の第1出力ポート（10b-1乃至10b-n）から成っている。第2光分割素子は、第2入力ポート群20aと出力面20sとを有している。第2入力ポート群は、第1出力ポートから出力される第1出力光群14を構成する各第1出力光（14-1乃至14-n）をそれぞれ一対一の関係で入力するよう割り当てられた各第2入力光を入力するための第2入力ポート群(20a-1乃至20a-n)から成っている。 （もっと読む）

【課題】 ウェットエッチング方法による光導波路の製造方法であって、光導波路形成領域内の分極極性が一様であって不均一性が生じていない光導波路を製造することができる光導波路製造方法を提供する。
【解決手段】 強誘電体結晶基板の結晶軸方位プラス面（難エッチング面）１７にリッジ構造を形成するようにして、（ａ）結晶軸方位プラス面１７上の光導波路を形成しようとする位置にマスク２１を形成する工程、（ｂ）結晶軸方位プラス面１７にプロトン交換処理を行う工程、（ｃ）プロトン交換部分をウェットエッチングする工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】制御性及び安定性が高く、更に高精度且つ高アスペクト比の加工が可能な窒化物半導体のエッチング方法及び該エッチング方法を利用した半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 窒化物半導体層であるｐ型ＧａＮ層１０３を電解液１１０中に浸すと主に、紫外線防止膜１１２等によってｐ型ＧａＮ層１０３に対する紫外線の照射を抑制しながら、ｐ型ＧａＮ層１０３に対してバイアス源１０８を用いてバイアスを印加することによりエッチングを行なう。 （もっと読む）

【目的】 本発明は、光通信分野で使用される光接続装置の製造法に関し、光配線層の端面加工過程で切断された箇所を自己形成光導波路により適宜接続すること。
【構成】 光配線層Ａの光軸に対して９０度光路変換が可能になるように対称的に４５度ミラー面３としてＶ字溝４を形成すること。該Ｖ字溝４に前記光配線層Ａ端面の屈折率差を消失させる感光性媒質Ｂを充填する。前記光配線層Ａの所望の光導波路１から直進する伝搬光により前記感光性媒質Ｂ内に自己形成光導波路７を形成する。該自己形成光導波路７の形成後に、前記感光性媒質Ｂを除去することで光接続装置を製造する。 （もっと読む）

【課題】 生産性と品質とを向上させることが可能な光導波路部材の製造方法及び光導波路部材を提供する。
【解決手段】 光導波路部材１は、光合波用（中継及び／又は光分波用）の複数の光導波路２と、その複数の光導波路２が配索される基板部３とを備える。基板部３を構成するアンダークラッドの表面端部には、光軸調芯用ガイド溝６を複数形成する。光導波路２の端面（端部）と光軸調芯用ガイド溝６との間には、端面壁７を設ける。光導波路部材の製造方法は、アンダークラッドを成形する第一工程と、端面壁７を介在させる第二工程と、光導波路２を成形する第三工程と、オーバークラッドを成形する第四工程と、を順に経て製造することを特徴とする。また、別の方法としては、端面壁７を有するアンダークラッドを成形する第一工程と、光導波路２を成形する第二工程と、オーバークラッドを成形する第三工程と、を順に経て製造することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 コア層の断面形状をより真円に近い形状とすることで、コア層内における光の反射伝搬をより均等にして、伝送信号の鈍りを低減することができる光導波路を提供する。
【解決手段】 コア層１と、溝部３を有するクラッド層２とを含み、信号光を入射−伝播−出射する光導波路１０である。コア層１の断面形状が略円形である。コア層１の、略円形中心近傍における屈折率が、円周近傍における屈折率よりも高いことが好ましい。また、コア層１が添加剤を含み、かつ、添加剤の濃度が、略円形中心近傍と円周近傍とで異なっていることも好ましい。 （もっと読む）

【課題】 光軸調心が容易な光ガイド用メタルパターン付き導波路型光回路及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 ガラス基板１１の一方の面上に設けた低屈折率層１２内に、高屈折率の光伝搬層が所望パターン形状で形成されて埋め込まれた光回路１０において、ガラス基板１１の他方の面上に、光伝搬層のパターン１４を反転させた形状のメタルパターン１５が形成されているものである。 （もっと読む）