【課題】 複数の設計波長で動作する３次元フォトニック結晶において、格子周期を変化させることなくフォトニックバンドギャップ波長帯域を所望の波長に制御することができる３次元フォトニック結晶、もしくはその内部に点欠陥共振器構造や線欠陥導波路構造を備えた光学素子を提供する。
【解決手段】 複数波長でフォトニックバンドギャップとして動作する３次元フォトニック結晶において、格子周期を変化させることなく、柱状構造間に具備した付加層に含まれる離散構造の形状および屈折率を制御することによってフォトニックバンドギャップ中心波長や波長帯域を制御する。 （もっと読む）

【課題】３％を越える高い比屈折率差Δにおいても吸収損失の小さくかつ屈折率制御性が高く緻密な高品質のＳｉＯＮ膜をコアとする、光導波路型の光素子が提供できるようにする。
【解決手段】基板１０１の表面を熱酸化することで膜厚１０μｍ程度の酸化シリコン膜を形成することで、基板１０１の上に下部クラッド層１０２が形成された状態とする。次に、下部クラッド層１０２の上にＥＣＲプラズマＣＶＤ法により膜厚３μｍのＳｉＯＮ膜を堆積する。ついで、堆積形成したＳｉＯＮ膜を公知のフォトリソグラフィ技術とエッチング技術とにより微細加工することで、下部クラッド層１０２の上にコア１０３が形成された状態とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、例えば光通信などにおいて、光分波器及び合波器などに適用される、偏光変化、コア層の作成時に起こる望ましくない膜厚変化、屈折率変化及び温度変化に強い高分子光導波路回路デバイスを得ることである。
【解決手段】基板の表面上に作られ、光導波路コアは、1.506〜1.567の屈折率n_gと0.008〜0.01の複屈折を有する高分子であり、光導波路コアを覆う下部クラッド層と上部クラッド層の材料は1550nm波長では1.503〜1.562の屈折率n_cと0.008〜0.01の複屈折を有する高分子である。またその光導波路コアの断面形状は8μm の幅と7〜8μmの厚さを有する矩形であり、一方の方向性結合器の平行部長さは0.691〜0.841mm或いは1.924〜2.381mm、他方の方向性結合器の平行部長さは1.924〜2.381mm或いは0.691〜0.841mm、一方の方向性結合器の平行部間隔は4.5〜5.2μm、他方の方向性結合器の平行部間隔は4.5〜5.2μm及び光導波路コアの長さの差ΔLは0.37〜0.45μmに構成される。 （もっと読む）

【課題】 量産性の向上および低コスト化を図ることができ、かつ、作業性および生産安定性に優れる光導波路の製造方法を提供すること。
【解決手段】 長尺の基材１の上に、フルオレン誘導体層２を連続して塗工し、これを硬化させてアンダークラッド層３を形成する。次いで、アンダークラッド層３の上に、感光性フルオレン誘導体層４を連続して塗工し、フォトマスク５を介して連続して所定のパターンで露光した後、連続して露光後加熱する。その後、連続して現像し、感光性フルオレン誘導体層４を所定のパターンに形成した後、連続して硬化させ、アンダークラッド層３の上にコア層６を所定のパターンで形成する。その後、アンダークラッド層３の上に、コア層６を被覆するように、フルオレン誘導体層８を連続して塗工し、これを硬化させて、オーバークラッド層７を形成する。 （もっと読む）

【課題】 光導波路内において効率良く光を伝搬させながら光検出を行うことができ、作製が容易な光導波装置を提供すること。
【解決手段】 光入射部から光出射部へ光を導くＳｉＯ₂膜等の光導波路２１ａと、この光導波路２１ａの外面に接して設けられたフォトダイオード等の受光部２と、光導波路２１ａに内設された４５°ミラー面の光反射部５とを有し、垂直入射光１１をミラー９で反射後に導びかれた信号光１１を光反射部５によって９０°光路変換して受光部２に入射してモニタを行う一方、残りの信号光を光導波路２１ａから出射する、光導波装置２３ａ。 （もっと読む）

【課題】 大面積かつ周期性の良い無反射周期構造体を得ることを目的としている。
【解決手段】 無反射周期構造体は、入射光の波長よりも短い周期の構造を物質表面に形成したものであり、この物質表面における前記入射光の反射を抑制する。本発明は、上部から照射されたレーザー光を回折して格子状の干渉縞を形成する位相格子マスクを用いて、照射されたレーザー光を干渉させ、その干渉光を物質表面に塗布又は堆積したレジストに照射し、現像することによって、前記周期構造に対応するパターンを形成する。さらに、このパターン形成されたレジストをマスクとして用い、物質表面をエッチングすることによって、物質表面に無反射周期構造体を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】 光導波路と光ファイバや光素子などとの光結合を、簡易に、低コストで、生産性や歩留まりよく、しかも高い正確度で形成することができる光結合装置及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 端面５を傾斜反射面とした光導波路２を支持体１の基材に接着固定した後、端面５から所定の距離２１だけ離れた位置に実装基板１１との当接面６を形成する。実装基板１１には、光導波路支持面１２、凹部１３、および支持体１との当接面１５を設け、当接面１５から所定の距離２２だけ離れた位置に光素子１４を固定する。光導波路２と光素子１４との光結合は、まず、光導波路２の主面を光導波路支持面１２に接触させ、高さ方向の位置合わせを行い、次に、当接面６と１５を当接させ、左右方向の位置合わせを行って、形成する。奥行き方向の当接面を設け、三次元方向の位置合わせをすべて当接で行うことも容易である。 （もっと読む）

本発明の幾つかの実施形態は、コア材の使用効率が良く、安価な光導波路及びその製造方法を提供する。この光導波路の製造方法は、基板（２０）上に樹脂を塗布及び硬化させて第１クラッド（２）を形成する工程と、コアパターン形状の窪みを有する凹型（１０）と基板上の第１クラッドとの間にコア材（１）を挟む工程と、挟まれたコア材を硬化させて窪みに対応したコアパターン（１）を第１クラッド上に形成する工程と、凹型（１０）をコアパターン及び第１クラッドから剥離する工程と、を備えている。
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【課題】小型で、環境変動に対し安定で制御しやすい光遅延回路を得ること。
【解決手段】フォトニック結晶の周期的な屈折率分布構造に対して導入される線状の欠陥によって形成される欠陥導波路３ａ，３ｂが複数並列に配置されてなる光遅延回路１であって、欠陥導波路３ａ，３ｂは、欠陥導波路３ａ，３ｂ間の距離が近接して配置され、光の合分波を行う合分波部４ａ，４ｂと、合分波部４ａ，４ｂから分岐し、欠陥導波路３ａ，３ｂ中を伝送する光が互いに干渉しない欠陥導波路間の距離を有して配置される光遅延部と、を備え、複数の欠陥導波路３ａ，３ｂ間の構成を異ならせる。 （もっと読む）

【課題】マトリクス光スイッチ作製時に発生する誤差によって回路特性が変動する場合において、回路の組み合わせにより作製誤差によらない十分な消光比を備えたマトリクス光スイッチを提供する。
【解決手段】互いに交差する１本の入力光導波路１１ａ−１１ｂおよび１本の出力光導波路１２ａ−１２ｂ、さらに前記入出力光導波路１１ａ−１１ｂ，１２ａ−１２ｂを接続するバイパス光導波路１３ａ−１３ｂからなり、前記バイパス光導波路１３ａ−１３ｂと前記入力光導波路１１ａ−１１ｂとの間で１×２光スイッチ１８ａと、前記バイパス光導波路１３ａ−１３ｂと前記出力光導波路１２ａ−１２ｂとの間で２×１光スイッチ１８ｂと、前記１×２光スイッチ１８ａおよび前記２×１光スイッチ１８ｂ間に１×１光ゲートスイッチ１８ｃを備えていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 光ファイバを用いることなく、光導波路および非光導波路を備えた光カードを廉価に製造すること。
【解決手段】 光カード１は、コア層２Ａが低屈折率の表面層２Ｂおよび裏面層２Ｃで挟まれた構成の本体シート２の表面２ａにＶ溝５および遮光用のＶ溝７を形成し、この上に、紫外線硬化型レジンを塗布し、表面保護シート４を積層し、紫外線を照射して紫外線硬化型レジンを硬化させることにより得られる。Ｖ溝５で仕切られている各区画部分６（ｎ）のうち、遮光用の溝７のない区画部分が光導波路として機能し、溝７が形成されている区画部分が非光導波路として機能する。本体シート２の表面にＶ溝を形成し、表面保護シート４で覆うという簡単な工程により、光ファイバを用いることなく、光導波路、非光導波路の組み合わせパターンにより情報を担持可能な光メモリを製造できる。 （もっと読む）

【課題】形状の精度が高くかつ高温高湿下における伝送特性に優れた光導波路を形成することができる感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）で表される構造を有する共重合体、
【化１】


［式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３は各々独立して水素原子または炭素数１〜１２のアルキル基、Ｘはカルボキシル基を有する基、Ｙは反応性官能基を有する基、ＺはＸおよびＹ以外の有機基であり、ｌ、ｎ、ｍは各々、０ではない繰り返し単位数を示す。］
（Ｂ）分子中に２個以上のラジカル重合性の反応基を有する化合物、（Ｃ）成分（Ａ）中のカルボキシル基と反応し得る化合物、および（Ｄ）光ラジカル重合開始剤を含む感光性樹脂組成物。該感光性樹脂組成物は、光導波路２４を構成するコア部分２０及びクラッド層１２，２２の材料となる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は光伝搬部材の上部に光素子や配線が配設される光モジュールの製造方法および光伝搬部材の製造方法に関し、ビアを用いることなく光導波路上の光素子と主基板とを簡単に電気的に接続することを課題とする。
【解決手段】 支持体３１と接着剤３３との間に金属箔３２が形成されてなる配線形成用基板３０Ａに光通過孔３４，３５を形成する工程と、主基板４２Ａに対し上記配線形成用基板３０Ａを固定する工程と、主基板４２Ａに光導波路４３を固定した後に光通過孔３４，３５と光導入ミラー５９Ａ，５９Ｂとを位置決めし接着剤３３を用いて配線形成用基板３０Ａを光導波路４３に固定する工程と、配線形成用基板３０Ａから支持体３１を除去すると共に配線６０を形成する工程と、配線６０上に素子４４から４７を搭載する工程と、配線６０と主基板４２Ａとをワイヤ６５で接続する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】 可視光付近のＳＣ光を発生することのできる光導波路を実現する。
【解決手段】 シリコン基板１１上に設けた石英系ガラス膜１２のうち光ガイド部分１２ａが、光をガイドする機能を果たす。光ガイド部分１２ａの両側に沿う位置には、孔１３が形成されている。また、シリコン基板１１のうち、光ガイド部分１２ａの底面に臨む部分には、空隙１４が形成されており、この空隙１４は孔１３に繋がっている。この結果、光ガイド部分１２ａの上面全面は空気に、下面全面は空隙１４中の空気に、左右側面の殆どは光１３中の空気に囲まれる。よって、光ガイド部分１２ａがコアとなり空気がクラッドとなり、比屈折率差が極めて大きい光導波路となり、可視光付近のＳＣ光を発生することができる。 （もっと読む）

【課題】光導波路を強固に固定して切断することができ、しかも、光導波路の剥離を安全に行うことができるフレキシブル光導波路の製法を提供する。
【解決手段】光導波路１が形成された基板を水に浸けることにより、光導波路１と基板との密着力を弱め、光導波路１を基板から剥離し、その後、その光導波路１を発泡剤含有感圧性接着剤層４の表面に仮着し、その仮着状態で光導波路１を所定の長さに切断する。そして、その切断後に加熱して発泡剤含有感圧性接着剤層４を発泡させることにより、発泡剤含有感圧性接着剤層４と光導波路１との密着力を弱め、所定長に切断した光導波路１を発泡剤含有感圧性接着剤層４から剥離する。 （もっと読む）

【課題】従来の接触を評価する手段としては接触した瞬間、接触部を機械的に稼動させ電気的な接触をOn/Offさせる。あるいは圧電素子による電場を発生させる等が行われてきた。これら方法では高感度を得ようとすると誤動作が多くなる。またこれらに使用される接触センサーにおいては支持体が湾曲した場合接点間にばらつきが生じ、動作自体がばらついてしまい正確な動作が得られない。さらに従来の機械的なスイッチ方式の接触センサーでは透明にするのが困難であり、例えばショウケース等に使用される透明なガラスあるいはプラスティック自体を防犯に使用する用途への使用は困難であった。
【解決手段】この改善策として光導波路の導波面に物体が接触すると導波する光が大きく減衰する原理を利用することにより簡便に且つ高感度に検知できる、また検知部が湾曲しても問題なく動作する。また検知部は支持体を透明体とすることで、全体を透明にできる。 （もっと読む）

【課題】 光導波路と光ファイバとの接続損失を低減し、かつ、方向性結合器の結合率の基板面内ばらつきを小さくすることができる光導波路及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 基板１１上にアンダクラッド１２を形成し、アンダクラッド１２上にコア層を形成し、コア層からフォトリソグラフィ及びエッチングによりコア１３を形成する際に、コア層のエッチング深さを、コア１３の厚さより小さくして、矩形断面の上部コア１３ａと所定厚さＤの平板部からなる下部コア１３ｂとを形成し、火炎堆積法により堆積させたスートを焼結させることで、コア１３を埋め込むオーバクラッド１４を形成して作製した光導波路及びその製造方法。 （もっと読む）

【課題】 スラブ導波路とアレイ導波路との結合損失を低減する。
【解決手段】 複数の入力導波路４０１から受光した光信号を分岐するスラブ導波路４０２と、所定の導波路長差で順次長くなる複数の導波路の各々に、スラブ導波路４０２で分岐された各々の光信号を入力するアレイ導波路４０３とを含む導波路型光合分波回路において、入力導波路４０１は、スラブ導波路４０２との接続部に接して、入力導波路４０１より屈折率の低い複数の散乱点により画定されるホログラフィック波動伝達媒体４０６を含む。 （もっと読む）

【課題】 光導波路のコア端部を露出させる加工を行う際に生ずる加工誤差が、光導波路コア端部と他の光部品との位置合わせ誤差に含まれない光結合装置、及びそのような光結合装置の作製を可能にする光導波路を提供すること。
【解決手段】 光導波路１は、クラッド２および４と、導光路であるコア３との接合体とする。光導波路１の端面６は、ダイサー加工によって、おおよそ４５度に傾斜した反射面に形成し、傾斜端面６による反射を介して、光導波路１を光素子２６と光結合する。同様のダイサー加工によって、光導波路１の上部の、傾斜端面６の上端７から所定の距離９だけ離れた位置に、位置合わせマーカであるＶ字溝８を形成し、Ｖ字溝８を用いた凹凸嵌合によって、光導波路１を支持体１１に対し正確に位置合わせする。支持体１１には、凹凸嵌合の位置から所定の距離だけ離れた位置に、光素子２６を実装した実装基板との位置合わせ手段を設ける。 （もっと読む）

【課題】 簡易な手段で犠牲層を形成することができてローコスト化を図ることができるフィルム光導波路の製造方法を提供する。
【解決手段】 紫外線を透過する基板１の上に紫外線硬化型の水溶性ポリマー２を塗布し、水溶性ポリマー２をスタンパで押さえて平らに延ばした後、紫外線を照射して水溶性ポリマー２を硬化させて犠牲層４を形成する。ついで、犠牲層４の上に下クラッド層５、コア６、上クラッド層９を順次形成して犠牲層４の上にフィルム光導波路１０を作製する。この後、犠牲層４を水又は温水で溶解させることによって基板１をフィルム光導波路１０から剥離させる。 （もっと読む）