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Fターム[2H090HB06]の内容

液晶−基板、絶縁膜及び配向部材 (35,882) | 絶縁膜及び配向部材の材料 (3,803) | 母材 (3,632) | 無機材料 (844) | その他の無機材料 (103)

Fターム[2H090HB06]に分類される特許

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【課題】イオン性不純物トラップ用の電極を設けなくても、イオン性不純物の凝集に起因する表示品位の低下が発生しにくい液晶装置、および電子機器を提供すること。
【解決手段】VA(Vertical Alignment)モードの液晶装置100においては、フレーム反転駆動方式が採用されている。また、第1基板10側の配向膜16には、画素電極9aの端部に平面視で重なる部分に、第2基板20に向けて突出した突部16aが設けられており、液晶層50の流動は突部16aによって阻害される。突部16aは、例えば、画素電極9aの端部と配向膜16との間に設けられた膜17aの形状が配向膜16の表面に反映されてなる。 (もっと読む)


【課題】画像表示領域内でのイオン性不純物の凝集に起因する表示品位の低下が発生しにくい液晶装置、当該液晶装置を備えた投射型表示装置、および電子機器を提供すること。
【解決手段】液晶装置100において、第1期間と第2期間とにおいて、素子基板10側の画素電極9aと対向基板20側の共通電極21との極性を反転させ、かかる反転駆動に対応させて、素子基板10側の第1電極81および第2電極82を駆動する。その際、対向基板20側の第3電極83に対する第1電極81の極性は、共通電極21に対する画素電極9aの極性とは反対であり、対向基板20側の第3電極83に対する第2電極82の極性は、共通電極21に対する画素電極9aの極性と同一である。 (もっと読む)


【課題】無機配向膜の配向規制力を損なうことなく、表面絶縁膜の凹部の底部を絶縁膜で覆うことのできる液晶装置の製造方法、および液晶装置を提供すること。
【解決手段】液晶装置100を製造するにあたって、無機配向膜形成工程において斜方蒸着により無機配向膜16、26を形成した後、表面絶縁膜形成工程では、無機配向膜16、26の表面側に、飽和溶液からの析出を利用した液相析出法により、表面絶縁膜17、27を形成する。かかる液相析出法によれば、無機配向膜16、26の凸部16a、26aの表面、および凸部16a、26aの間に発生している凹部16b、26bの底部に略一定の膜厚で表面絶縁膜17、27が形成される。このため、表面絶縁膜17、27を形成した後も、無機配向膜16、26の凹凸形状が残るため、配向規制力を損なうことがない。また、凹部16b、26bの底部で画素電極9aや共通電極21が露出することもない。 (もっと読む)


【課題】対向基板側の構造を変更することにより、横ストロークの発生を防止することのできる電気光学装置、および当該電気光学装置を備えた投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】液晶装置100において、対向基板20には、共通電極21より下層側に導電性の遮光層29が設けられ、かかる遮光層29は絶縁層27のコンタクトホール27a、27b、第1導通部25aおよび第2導通部25bにおいて共通電極21と導通している。このため、共通電極21のシート抵抗を低減したのと実質的に同様な効果を得ることができる。従って、共通電極21の電位が画像信号の電位変化に伴って変動しても、共通電極21の電位は、短い時間で共通電位に復帰するので、横ストロークの発生を防止することができる。また、遮光層29の上層には絶縁層27が形成されているため、遮光層29に起因する段差が緩和されている。従って、共通電極21に段差切れが発生しない。 (もっと読む)


【課題】液晶表示素子において高フレキシビリティと高ガスバリア性を両立する。
【解決手段】本発明の液晶表示素子は、一対の電極と、一対の電極間に配置された液晶層と、一対の電極の片方の電極に対して液晶層の反対側に配置され、1層以上の薄膜層を有するバリア膜と、を備える。薄膜層の少なくとも1層の炭素分布曲線は、実質的に連続であること、少なくとも1つの極値を有すること、及び炭素の原子比の最大値及び最小値の差の絶対値が5at%以上であること、を全て満たし、かつ、バリア膜の片方の電極側の表面の粗度は、最大表面高さをRmaxとしたときに、Rmax<200nmであることを満たす。 (もっと読む)


【課題】均質性の高い配向膜を備えた液晶装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板10上に多孔質膜30を形成し、該多孔質膜30の表面に蒸着粒子16aを物理蒸着して配向膜16を形成する。配向膜16は多数の柱状の結晶体16bによって形成される。柱状結晶体16bは、多孔質膜30の表面に形成される多数の細孔30H、若しくは、細孔と細孔との間を仕切る突起状の壁部(尖鋭突起物30a)を起点として結晶化が進む。細孔30Hの形状や密度にはばらつきが存在するが、細孔30Hは柱状結晶体16bの結晶化の起点としてのみ機能するので、柱状結晶体16bの形状や密度は下地の多孔質膜30の影響を受け難く、概ね配向膜全体で柱状結晶体16bの形状や密度は均一なものとなる。よって、配向特性は配向膜全体で均一なものとなる。 (もっと読む)


【課題】液晶分子のプレチルト角を良好に制御することで信頼性の高い表示品質を得ることができる液晶表示装置及びプロジェクターを提供する。
【解決手段】一対の基板15,25間に負の誘電率異方性を有する液晶層30を挟持する液晶表示装置1である。一対の基板15,25の各々は、基材部11,23と、基材部11,23の表面に形成され液晶層30に接する配向膜12,22と、を含んでおり、基材部11,23における配向膜12,22が形成される面の表面粗さが4nm未満となっている。 (もっと読む)


【課題】画素外領域において、初期の配向状態で白表示または黒表示のいずれかの表示が得られて、その表示の単安定性が得られる強誘電性液晶パネルを提供する。
【解決手段】強誘電性液晶パネルにおいて、第1の電極23は、第2の電極24より、一方向に配向方向を有する配向膜26,27の配向方向に対して直交方向に形成された領域が多い電極である。この配向膜26,27の配向方向と直交方向に形成された領域が多い第1の電極23側にのみ、第1の電極23を設けた第1の基板21と配向膜26との間に絶縁膜25を設けた構成にする。 (もっと読む)


【課題】樹脂基板あるいは樹脂層上に無機膜を形成する場合において、前記無機膜にクラックあるいはしわの発生を回避させ、これによりTFT回路層を信頼性よく形成できる画像表示装置の製造方法の提供。
【解決手段】樹脂基板あるいは樹脂層の上面にTFT回路層が形成されている画像表示装置の製造方法にあって、
前記樹脂基板あるいは前記樹脂層の前記TFT回路層が形成される面に無機膜を形成する工程を備え、
前記無機膜は、室温から前記樹脂基板あるいは樹脂層のガラス転移点(Tg)以下の温度で形成し、
前記TFT回路層は、前記樹脂基板のガラス転移点(Tg)以上の温度で形成する。 (もっと読む)


【課題】屈曲による水蒸気透過度の上昇が抑制されるガス遮蔽フィルムを提供する。
【解決手段】樹脂フィルム基材102と、樹脂フィルム基材102の表面に形成され、含有量0.1原子%以上30原子%以下の水素を含み、かつ非晶質の酸化ガリウム膜104と、を有するガス遮蔽フィルム100である。 (もっと読む)


【課題】ターゲット交換などのメンテナンス作業を効率化できるスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】基板Wを保持する基板ホルダー6を有し基板ホルダー6が搬送可能に設けられた成膜室2と、成膜室2に連通し筐体10内に一対のターゲット11,12が対向して配置されたスパッタリング粒子放出部3と、を備える対向ターゲット方式のスパッタリング装置1であって、第2ターゲット12が配置された筐体10の一面の一部が第2ターゲット12を含んで取り外し可能に形成されている。 (もっと読む)


【課題】基板の斜め方向からスパッタリング粒子が供給される反応性のスパッタリング装置において、良好な成膜レートを確保できるスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】基板Wを保持する基板ホルダー6を有し基板ホルダー6が搬送可能に設けられた成膜室2と、成膜室2に連通しターゲット10が配置されるスパッタリング室3と、を備え、スパッタリング室3から成膜室2に放出されたスパッタリング粒子と反応ガスとの反応により基板W上に反応生成膜を形成させるスパッタリング装置であって、ターゲット10が基板ホルダー6の搬送経路に対して斜めに配置され、ターゲット10の外周より大きな穴部を有する箱体20がスパッタリング室3に設けられ、箱体20の第1開口部21を通してターゲット10の表面が箱体20の内面を向き、ターゲット10が向かい合う箱体20の面の一部にスパッタリング粒子が通過する第2開口部22が設けられている。 (もっと読む)


【課題】アルミニウム合金膜と透明電極が直接コンタクトすることを可能とし、バリアメタルの省略を可能にするアルミニウム合金膜を用いた表示デバイスとその製造技術を提供する。
【解決手段】基板上に配置された薄膜トランジスタと、透明電極によって形成された透明導電膜、および、これら薄膜トランジスタと透明導電膜を電気的に接続するアルミニウム合金膜を有し、該アルミニウム合金膜と前記透明導電膜の界面には該アルミニウム合金の酸化皮膜が形成されており、該酸化皮膜の膜厚が1〜10nmで、該酸化皮膜中の酸素含有量が44原子%以下である表示デバイスとその製法を開示する。 (もっと読む)


【課題】 本発明の目的は、広い視野角、十分なコントラスト比、装置を稼動するためのしきい(電圧)の低下、および印加電場に対する迅速な応答を示す偏光調整型電気光学装置のための液晶ディスプレイ用ナノロッド配合物を提供することである。
【解決手段】 本発明の液晶ディスプレイ用ナノロッド配合物は、
(A)(ホストとしての)ネマチック液晶と、
(B)(ドーパントとしての)ドメイン状構造を有する流動性の有機界面活性剤でコーティングされた硫化亜鉛若しくは酸化亜鉛ナノロッドと、
を含んで成り、前記ドメイン領域内の各々のナノロッドは平行な状態に並んでいる。
前記構成成分(B)の含有量は、好ましくは前記構成成分(A)1mlにつき0.1mg〜0.4mgである。 (もっと読む)


【課題】ディスクリネーション等の表示不良を防止して良好なコントラスト特性を有し、且つコスト削減を可能とする液晶装置及び電子機器を提供する。
【解決手段】一対の基板と、一対の基板に挟持され初期配向状態が垂直配向を呈する液晶層30と、一対の基板のうち一方の基板10の液晶層30側に形成された第1の配向膜12と、一対の基板のうち他方の基板20の液晶層30側に形成された第2の配向膜22と、を備え、第1の配向膜12は、斜方蒸着にて形成され液晶層に接する上層膜12bと、上層膜12bが積層される下層膜12aと、を有し、配向膜のみかけ体積に対する配向膜の実体積の比を膜密度として、上層膜12bは、下層膜12aよりも低い膜密度であると共に、第2の配向膜22と下層膜12aとは、同様の膜密度であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】電気光学装置のコントラストの低下を防止しつつ、耐光性や耐熱性を向上させ、且つ部品点数の削減や薄型化を可能とする。
【解決手段】電気光学装置は、一対の基板(10、20)と、一対の基板間に挟持された電気光学物質(150)と、一対の基板の少なくとも一方の基板の電気光学物質に対向する側に形成され、一方の基板の基板面に沿った面内で第1方位に傾き、且つ無機材料を含む複数の第1柱状構造物(211)を有する第1配向層(210)と、第1配向層の上層側に形成され、面内で第1方位に対して90度に近づく方位である第2方位に傾き、且つ無機材料を含む複数の第2柱状構造物(161)を有する第2配向層(16)とを備える。電気光学装置において、第1配向層及び第2配向層の各々に、電気光学物質の一部が含浸されている。 (もっと読む)


【課題】凸部を有する表面に、斜め蒸着により無機材料からなる無機配向膜を形成すると、凸部の影となる部分に液晶分子の配列方向が異なるドメインが発生して、表示のむらの発生やコントラストが低下するなどの原因となった。
【解決手段】凸部6を有する基板表面に、無機材料を斜め方向から蒸着形成した第1無機配向膜7と、上記斜め方向と平面視反対方向の斜め方向から蒸着形成した第2無機配向膜8とを設けて、上記第1無機配向膜7が蒸着形成された方向の凸部6の側壁W1に接する基板表面の近接領域R1を、液晶層4と接するように露出させて、上記ドメインの発生を抑制した。 (もっと読む)


【課題】成膜時に成膜条件が変動することを防止して、良好な無機配向膜を成膜できるようにした液晶装置の製造装置を提供する。
【解決手段】成膜室2と、成膜室2内にて基板Wに配向膜材料をスパッタ法で成膜して無機配向膜を形成するスパッタ装置3と、基板Wを保持して搬送する搬送ホルダー6と、基板Wの周辺にガスを噴出するガス噴出口6hと、を備え、ガス噴出口6hは、基板Wの搬送時に基板Wとの位置関係が一定となるように成膜室2内に移動可能に設けられていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ターゲットの酸化を抑制し、無機配向膜の製造能率の向上を図ることができるスパッタリング装置及び液晶装置の製造装置を提供する。
【解決手段】基板Wを収容すると共に、基板Wに沿って酸素ガスを供給するガス供給手段22を備える成膜室2Aと、対向する一対のターゲット5a、5bからプラズマPzによりスパッタ粒子5pを生じさせ、スパッタ粒子5pを成膜室2Aに形成された開口部2A1を介して基板Wに向けて放出するスパッタ粒子放出装置3とを備えて、無機配向膜を形成するスパッタリング装置1であって、開口部2A1が設けられる位置と、ターゲット5a、5bが設けられる位置との間に設けられ、開口部2A1から流出する上記酸素ガスの酸素を付着させるための付着部30を有するという構成を採用する。 (もっと読む)


【課題】スパッタ装置の異常放電を防止することができる液晶装置の製造装置を提供する。
【解決手段】成膜室2と、成膜室2の側方(Y方向)に配置され、成膜室2内にて基板Wの成膜面Wsに配向膜材料をスパッタ法で成膜して無機配向膜を形成するスパッタ装置3と、成膜面Wsが鉛直方向(Z方向)に沿うように基板Wを立てた状態で搬送する基板搬送手段(ローラー6r)と、を備え、スパッタ装置3は、プラズマ生成領域を挟んで対向する一対のターゲット5a,5bを有し、一対のターゲット5a,5bは、互いに対向する面がそれぞれ鉛直方向(Z方向)に沿うように立てた状態で配置されていることを特徴とする。 (もっと読む)


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