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Fターム[2H090HC18]の内容

Fターム[2H090HC18]に分類される特許

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【課題】液晶パネルをワーク搬送機構のアームとワークステージ間で受け渡す際、液晶パネルがピンからずり落ち液晶パネルに異常な負荷が加わるのを防止すること。
【解決手段】液晶パネルが、ワーク搬送機構により搬入されピン1A,1Bに受け渡される。ワークステージ駆動機構3によりワークステージ2が上昇し、液晶パネルはワークステージ2に受け渡される。プローブPBから液晶パネル20に電圧が印加されるとともに、光源部10から紫外線が照射され液晶パネルの処理が行われる。処理が終わると、ワークステージ2が下降し、液晶パネルをピン1A,1Bに受け渡し、ワーク搬送機構に保持されて搬出される。ワークステージ2が移動して液晶パネルを受け渡すので、振動等により液晶パネルがピン1A,1Bからずり落ちるのを防ぐことができる。また、ピン1Bは板状に形成されており曲がりにくく、液晶パネルがずり落ちるのを防ぐことができる。 (もっと読む)


【課題】ラビング処理における異物の発生を防止する。
【解決手段】配向層となる高分子膜が層設されていない長尺のポリマーフィルム32を搬送し、このポリマーフィルム32の一方のフィルム面32aをラビングローラ35により擦ってラビング処理を行う。ラビングローラ35は、周面が金属からなる。ラビングローラは、ローラ本体35bと、このローラ本体35bの断面円形の中心に設けられた回転軸35aとを備える。ローラ本体35bの周面には、回転軸35aの長手方向に沿って山部61と谷部62とが交互に形成されている。山部61と谷部62とは、それぞれ略周方向に延びている。山部61のピッチPmは10μm以上500μm以下の範囲である。 (もっと読む)


【課題】薄いフィルムの上下振動による偏光部の形成精度の低下を防止し、また、シワの発生を防止することができ、偏光部が高精度で形成された偏光フィルムを得ることができるフィルム露光装置を提供する。
【解決手段】配向材料が塗布されたフィルム10は、バックロール5に巻き架けられた後、偏光フィルムの巻取装置に送給される。フィルム10はバックロール5によりシワを伸ばされて支持されており、そのフィルム移動域に、マスク7及びスリットマスク17が配置されている。フィルム10は、このマスク7の開口を介して、露光光源6からのCW円偏光の露光光がそのほぼ全面に照射され、スリットマスク17の複数個のスリットを介して、露光光源16からのCCW円偏光の露光光が帯状に照射される。 (もっと読む)


【課題】複数のワイヤーグリッド偏光素子を並べて構成した偏光素子ユニットにおいて、各偏光素子の透過率に個体差があっても、光照射領域の照度分布を均一にすること。
【解決手段】複数のワイヤーグリッド偏光素子55a〜55dを、各々の端部が光源からの光が通過する方向に重なるように枠体52内に一方向に並べて配置し、上記枠体52に、個々の偏光素子55a〜55dに対応させて、各偏光素子を通過する光を遮光する遮光手段80を設ける。遮光手段80は複数の遮光板81から構成され、各遮光板81は、各偏光素子55a〜55d上への突出量が可変であり、遮光板81の突出量を変えることにより、各偏光素子を透過する光の透過量を調整する。これにより、各ワイヤーグリッド偏光素子55a〜55dの透過率に個体差があっても、各偏光素子55a〜55dを透過する光の量を同じにすることができ、光照射領域の照度分布を均一にすることができる。 (もっと読む)


【課題】
照射エリア長を狭くすることによってスキャン距離を短縮し、光照射プロセスのプロセス時間を短縮する。
【解決手段】
ロングアークランプ1を用いて基板5に光を照射する光照射装置において、断面形状が楕円または放物線状であり、照射される光を基板面上に集光させるような形状となっている反射ミラー2と、照射される光の照射エリアを限定するためのスリット4と、を備えており、前記ロングアークランプの長軸に直交する断面において、主照射エリア長Xと、前記ロングアークランプと前記基板の間隔Hとが X<0.087H の関係を満たすようにする。 (もっと読む)


【課題】大がかりな製造装置を用いなくても容易に応答特性を向上させることが可能な液晶表示素子を備え、しかも、液晶分子にプレチルトを付与するときに印加する電圧の一層の低電圧化を可能にした液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置は、一対の基板20,30の対向面側に設けられた一対の配向膜22,32、及び、一対の配向膜22,32の間に設けられ、負の誘電率異方性を有する液晶分子41を含む液晶層40を有する液晶表示素子を備え、一対の配向膜22,32のうちの少なくとも一方は、側鎖として架橋性官能基を有する高分子化合物が架橋あるいは変形した化合物を含み、液晶層は、更に、環構造、及び、環構造を結ぶスペーサーを有する分子を含み、液晶分子は、架橋あるいは変形した化合物によってプレチルトが付与される。 (もっと読む)


【課題】高精度で均一な塗布が可能な薄膜形成装置及び薄膜形成方法を提供する。
【解決手段】塗布対象物100を吸着保持する吸着テーブル9と、吸着テーブル9に吸着保持された塗布対象物100の表面にインクジェット式ノズルから塗布材を吐出しながら薄膜形成を行う複数の塗布ヘッド4と、塗布ヘッド4を塗布対象物100の上方位置で移動させるガントリ3と、を備える薄膜形成装置1であって、ガントリ3に、塗布対象物100の表面を加熱する熱源装置31を更に備える。 (もっと読む)


【課題】効率よくラビング部材を洗浄することが可能なラビング部材の洗浄方法、及びラビング部材の洗浄装置を提供する。
【解決手段】ラビング布45を備えたラビング部材42の洗浄方法は、吸水部材52に純水53を含ませる工程と、ロール状のラビング布45を回転させる工程と、回転するラビング布45の表面に、吸水部材52を押し当てることによってラビング布45に付着した汚染物質を除去する工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、3次元表示装置用パターン位相差フィルムを形成することが可能なパターン配向膜を容易かつ大量に作製することができる3次元表示用パターン配向層用原版を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、微細凹凸形状が一定方向に形成された第1パターン部および上記微細凹凸形状が上記第1パターン部と同一方向に形成された第2パターン部を表面に備える基材を有し、上記第1パターン部および上記第2パターン部の厚みが異なることを特徴とする3次元表示用パターン配向層用原版を提供することにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、高品質な3次元表示装置用パターン位相差フィルムを形成することが可能なパターン配向膜を容易かつ大量に作製することができる3次元表示用パターン配向膜用原版を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、表面に微小なライン状凹凸構造が略一定方向にランダムに形成された金属基材と、上記金属基材上に平行な帯状に形成され、表面に微小なライン状凹凸構造が略一定方向にランダムに形成された無機材料からなる凸部と、を有し、上記微小なライン状凹凸構造の形成方向が、上記金属基材および凸部の表面で90°異なることを特徴とする3次元表示用パターン配向膜用原版を提供することにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】ワイヤーグリッド偏光素子を回転させるときに、偏光素子に力を加えず歪が生じないようにすること。
【解決手段】複数のワイヤーグリッド偏光素子1を、偏光子支持部材3に取り付け、各々の端部を少しずつ重ねてフレーム2に並べて配置する。フレーム2にピン4を設け、ピン4に偏光子支持部材3を回転可能に取り付け、フレーム2には、ピン4を挟んで偏光子支持部材3のエッジ側面を押す2個のねじ5a,5bを設ける。2個のねじ5a,5bを押し引きすることにより、偏光子支持部材3はピン4を支点として回転移動し、ワイヤーグリッド偏光素子1もその平面内で回転移動する。ワイヤーグリッド偏光素子1の一辺だけを押しひきして回転させるようにしたので、回転時に偏光素子1には力が加わらずひずみが生じない。このため出射する偏光光の偏光軸の回転を防ぐことができる。 (もっと読む)


【課題】有機分子の密度の高い膜を形成できる表面処理方法を提供する。
【解決手段】3つまたは4つの官能基が同じアルコキシ基を有するシランカップリング剤を第一有機分子5として、第一有機分子5を気化し減圧された表面処理チャンバー15で表面の水酸基2と化学結合する第一工程と、水分子6を水蒸気処理チャンバー11へ導入することによって、第一工程で表面と化学結合した第一有機分子5のアルコキシ基と水分子6を化学反応させ、第一有機分子5のアルコキシ基を水酸基7にする第二工程と、官能基を1つ有し、その他2つまたは3つの官能基がアルコキシ基であるシランカップリング剤を第二有機分子3として、第二有機分子3が第二工程で生成された水酸基7と化学反応する第三工程と、を有し、第一工程から第三工程までの表面処理チャンバー15及び水蒸気処理チャンバー11内の圧力が0.1Paより大きく0.1MPaより小さいか等しくする。 (もっと読む)


【課題】水平方向のサイズがコンパクトで、かつ、高精度な位置合わせを可能とする露光マスク保持装置及びこれを用いる露光装置を提供する。
【解決手段】マスク保持装置21は、リニアガイド機構24aが設けられたフレーム23と、フレーム23に対し鉛直方向に上下移動するZ軸移動部25と、Z軸移動部25の鉛直下方に位置すると共にZ軸移動部25に支持され、Z軸移動部25に対して鉛直軸周りの回転位置が調整されるθ軸移動部27と、θ軸移動部27の鉛直下方に位置すると共にθ軸移動部27に支持され、θ軸移動部27に対して水平面に対する傾きが調整されるチルト軸移動部29と、チルト軸移動部29の鉛直下方に位置すると共にチルト軸移動部29に支持され、チルト軸移動部29に対しY軸方向での位置が調整されると共に、下面で露光マスクMを保持する水平方向移動部31と、を備える。 (もっと読む)


【課題】強誘電性液晶に発生した配向欠陥部を、効率良く減少させる。
【解決手段】ジグザグ欠陥部15cは、各々配向膜が形成された面が離間対向するように、シール材を介して互いに貼り合わされた一対の基板12と13との間に挟持された強誘電性液晶14に局所的に発生する。グザグ欠陥部15cに対して配向膜が吸収可能な波長の光を照射してSmA相の相転移温度以上の温度まで加熱した後に、SmC相の相転移温度以下の温度まで、徐々に降温させる。この降温過程で、ジグザグ欠陥部15cの周辺正常部との配向規制力の相互作用によりジグザグ欠陥部15cを効率良く減少させることができる。ジグザグ欠陥部15c以外は、スメクティックC相の相転移温度以下の温度に保持される。 (もっと読む)


【課題】マスクを用いることなく、1つの基板上の配向膜に複数の異なる配向領域を精度良く形成する。
【解決手段】光ビーム照射装置(20)から斜めに照射された直線偏光の光ビームにより基板(1)を走査して、基板に塗布された配向膜に液晶の配列方向を整える配向特性を付与する。チャックに支持された基板の表面の高さの変位を検出し、基板の表面の高さの変位に応じて、光ビーム照射装置の駆動回路(27)へ供給する描画データの座標を補正し、補正した座標の描画データを、光ビーム照射装置の駆動回路へ供給する。あるいは、チャックに支持された基板の表面の高さの変位を検出し、検出した基板の表面の高さの変位分だけ、チャックと光ビーム照射装置とを相対的に基板の表面に垂直な方向へ移動する。 (もっと読む)


【課題】大量生産及び、生産性が向上するパターン化リターダーの製造方法を提供する。
【解決手段】配向膜の上部に光遮断部21とワイヤーグリッドパターン部22が繰り返し形成された偏光フィルター20を位置させ、偏光フィルター20の上部から光を照射して配向させる光配向段階を含む。 (もっと読む)


【課題】例えば、配向膜をガラス基板に平坦性よく塗布することができ、かつ、額縁領域をできるだけ狭くすることができる印刷塗布方法を提供する。
【解決手段】チャンバ内を減圧下に維持した状態で、ステージ上に配置されているガラス基板GSの外周部にだけインクINKを塗布する。続いて、チャンバ内の圧力を大気圧(常圧)に回復した後、チャンバ内を大気圧下に維持した状態で、ステージ上に配置されているガラス基板GSの外周部よりも内側領域である内周部にインクINKを塗布する。 (もっと読む)


【課題】マスクを用いることなく、1つの基板上の配向膜に複数の異なる配向領域を形成する。
【解決手段】光ビーム照射装置(20)は、二方向に配列した複数のミラーの角度を変更して光ビームを変調する空間的光変調器(25)、空間的光変調器へ供給される光ビームの入射角度を調節する調節装置(50)、描画データに基づいて空間的光変調器を駆動する駆動回路(27)、及び空間的光変調器により変調された光ビームを照射する照射光学系(26a,26b)を有する。調節装置により空間的光変調器へ供給される光ビームの入射角度を調節して、空間的光変調器により変調された光ビームを照射光学系へその光軸に対して斜めに入射させ、照射光学系からチャックに支持された基板(1)へ直線偏光の光ビームを斜めに照射する。 (もっと読む)


【課題】基板上の膜形成領域外への配向膜の広がり量を抑制すること。
【解決手段】基板に設けられた膜形成領域に配向膜形成液を塗布するにあたり、膜形成領域が当該膜形成領域以外の表面に対して高い親液性とされた基板がステージに載置されたときには、設定された配置パターンで配向膜形成液の液滴が膜形成領域に対して塗布されるように塗布ヘッドのノズルから配向膜形成液の液滴を吐出させるべく、塗布ヘッドとステージとを相対移動させる移動装置と塗布ヘッドを制御する。 (もっと読む)


【課題】信頼性の高い無機配向膜を低コストで形成する。
【解決手段】プラズマ生成領域を挟むように対向配置された2つのターゲット5を備えるスパッタ粒子放出部3と、基板10を水平方向に搬送する搬送手段6aを収容する成膜室2と、を備えるスパッタ装置1を用いて、搬送される基板10にスパッタ粒子27を入射させて、10基板に接する下層配向膜132と液晶分子37に接し液晶分子37の配向を制御する上層配向膜131を含む無機配向膜31を形成する方法であって、スパッタ粒子27の基板10に対する入射角の範囲を入射角範囲と定義した場合において、下層配向膜132を形成する工程である第1の工程における入射角範囲である第1の入射角範囲が、上層配向膜131を形成する工程である第2の工程における入射角範囲である第2の入射角範囲に比べて広いことを特徴とする無機配向膜31の形成方法。 (もっと読む)


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