配向膜形成液の塗布装置および塗布方法
【課題】基板上の膜形成領域外への配向膜の広がり量を抑制すること。
【解決手段】基板に設けられた膜形成領域に配向膜形成液を塗布するにあたり、膜形成領域が当該膜形成領域以外の表面に対して高い親液性とされた基板がステージに載置されたときには、設定された配置パターンで配向膜形成液の液滴が膜形成領域に対して塗布されるように塗布ヘッドのノズルから配向膜形成液の液滴を吐出させるべく、塗布ヘッドとステージとを相対移動させる移動装置と塗布ヘッドを制御する。
【解決手段】基板に設けられた膜形成領域に配向膜形成液を塗布するにあたり、膜形成領域が当該膜形成領域以外の表面に対して高い親液性とされた基板がステージに載置されたときには、設定された配置パターンで配向膜形成液の液滴が膜形成領域に対して塗布されるように塗布ヘッドのノズルから配向膜形成液の液滴を吐出させるべく、塗布ヘッドとステージとを相対移動させる移動装置と塗布ヘッドを制御する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板上の膜形成領域に配向膜形成液を塗布する配向膜形成液の塗布装置および塗布方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示パネルの製造工程においては、ガラス基板の表面に配向膜を形成する配向膜形成プロセスがある。この配向膜形成プロセスによってガラス基板に配向膜を形成する際には、ガラス基板における膜形成領域が設けられた表面全域を紫外線照射などによって親液処理し、その後、インクジェット方式の塗布装置を用いてガラス基板の膜形成領域Ｒに向けて液滴状の配向膜形成液を塗布し、ガラス基板の膜形成領域に配向膜を形成するようにしている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−２５５３１６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、近年、ガラス基板における膜形成領域の外側の画像非表示領域、いわゆる、額縁領域の狭小化（狭額縁化）が一層進んでいる。
【０００５】
そのため、膜形成領域外（額縁領域）への配向膜の広がりに対する許容量（エッジ精度）もより一層厳しく制限されつつある。
【０００６】
しかしながら、上述の従来技術においては、膜形成領域外への配向膜の濡れ広がり量をコントロールすることに関しては充分とは言えず、対応が望まれていた。
【０００７】
本発明は、基板上の膜形成領域外への配向膜の広がり量を抑制することができる配向膜形成液の塗布装置および塗布方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の実施形態に係る第１の特徴は、基板に設けられた膜形成領域に配向膜形成液を塗布して前記膜形成領域に配向膜を形成する配向膜形成装置において、
前記基板を載置するステージと、
このステージに載置された前記基板における前記膜形成領域が設けられた表面に沿う第１の方向に沿って配列された複数のノズルを備えた塗布ヘッドと、
前記ステージと前記塗布ヘッドとを前記表面に沿い前記第１の方向とは交差する第２の方向に沿って走査移動させる移動装置と、
前記膜形成領域が当該膜形成領域以外の前記表面に対して高い親液性とされた基板が前記ステージに載置されたとき、予め設定された配置パターンで前記配向膜形成液の液滴が前記膜形成領域に対して塗布されるように、前記ノズルから前記配向膜形成液の液滴を吐出させるべく前記移動装置と前記塗布ヘッドとを制御する制御装置と
を備えることである。
【０００９】
本発明の実施形態に係る第２の特徴は、基板に設けられた膜形成領域に配向膜形成液を塗布する配向膜形成液の塗布方法において、
前記基板の前記膜形成領域を当該膜形成領域以外の前記表面に対して高い親液性とし、
前記基板の表面に沿う第１の方向に沿って配列された複数のノズルを備えた塗布ヘッドと前記基板とを前記基板の表面に沿い前記第１の方向とは交差する第２の方向に沿って走査移動させながら、前記膜形成領域に対して設定された配置パターンで前記ノズルから前記配向膜形成液の液滴を吐出させ、前記膜形成領域に前記配向膜形成液の液滴を塗布することである。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、基板上の膜形成領域外への配向膜の広がり量を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る配向膜形成プロセスの概略構成を示す図である。
【図２】図１に示す親液処理装置の概略構成を示す正面図である。
【図３】図１に示す塗布装置の概略構成を示す正面図である。
【図４】図３に示す塗布装置の概略構成を示す平面図である。
【図５】塗布装置の制御ブロック図である。
【図６】基板上の膜形成領域に対する配向膜形成液の液滴の配置パターンを示す平面図である。
【図７】基板上の膜形成領域に対する配向膜形成液の液滴の配置パターンの塗布手順を説明するための平面図である。
【図８】基板上の膜形成領域に対する配向膜形成液の液滴の配置パターンの他の例を示す平面図である。
【図９】基板上の膜形成領域に対する配向膜形成液の液滴の配置パターンの他の例の塗布手順を説明するための平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
（第１の実施形態）
本発明の第１の実施形態について図面を用いて説明する。
【００１３】
配向膜形成プロセスで用いられる配向膜形成装置１は、図１に示すように、液晶表示パネルの製造用のガラス基板（以下、単に「基板」）Ｗに親液処理を施す親液処理装置１０、親液処理が施された基板上の膜形成領域Ｒに配向膜形成液を塗布する塗布装置２０、膜形成領域Ｒに塗布された配向膜形成液を乾燥させる乾燥装置３０を備えて構成される。
【００１４】
なおここで、配向膜形成液は、例えば、溶質としてのポリイミドを含有する溶液である。また、基板Ｗは、配向膜形成領域Ｒを含めその表面全域に撥液性を有する。
【００１５】
親液処理装置１０は、図２に示すように、基板Ｗを載置するステージ１１、ステージ１１の上方に配置され、ステージ１１に載置された基板Ｗの全面に紫外光を照射可能に設けられた光源１２、ステージ１１と光源１２との間に配置されたマスク部材１３を有して構成される。
【００１６】
ステージ１１は、その上面の基板載置面１１ａに基板Ｗを平坦に保持可能である。このステージ１１は、載置された基板Ｗを真空吸着や静電吸着等の吸着手段で吸着保持しても良いし、基板載置面１１ａと基板Ｗとの間の摩擦抵抗によって保持するようにしても良い。
【００１７】
光源１２は、長尺状の紫外線ランプを複数本平行に配置して構成されてなる。紫外線ランプは、例えば、エキシマＵＶランプを用いることが可能である。
【００１８】
マスク部材１３は、ステージ１１に載置された基板Ｗにおける膜形成領域Ｒに対向する部分が紫外線を透過可能に形成され、膜形成領域Ｒに対向しない他の部分が紫外線を遮光可能に形成された板状の部材である。このマスク部材１３は、ステージ１１に上方に、ステージ１１に載置された基板Ｗの上面との間に数ｍｍ程度の間隔を隔てて配置されてなる。光源１２から照射された紫外光は、このマスク部材１２によって膜形成領域Ｒに対向しない部分で遮光され、膜形成領域Ｒのみに照射されることとなる。その結果、基板Ｗにおける膜形成領域Ｒの親液性が膜形成領域Ｒ以外の部分よりも高められる。
【００１９】
なおここで、親液処理装置１０に紫外光源を用いた紫外線処理の例で説明したが、膜形成領域Ｒを親液処理することができれば良いので、これに限らず、例えば、プラズマ処理やオゾン処理によるものであっても良い。
【００２０】
塗布装置２０は、インクジェット方式の塗布装置で、架台２１、架台２１上にＸ軸方向移動装置２２を介して矢印Ｘで示すＸ軸方向に沿って移動自在に支持された移動ステージ２３、架台２１上に、移動ステージ２３の移動領域を跨ぐように設けられた門型の支持部材２４、この支持部材２４にＹ軸方向移動装置２５を介して矢印Ｙで示すＹ軸方向に移動自在に支持された枠体２６、この枠体２６に支持された複数（本実施形態においては、３つ）のインクジェット方式の塗布ヘッド２７、Ｘ軸方向移動装置２２、Ｙ軸方向移動装置２５、塗布ヘッド２７等の駆動を制御する制御装置２８を有して構成される。
【００２１】
Ｘ軸方向移動装置２２は、リニアモータ式やボールネジ式の駆動源を備えた移動装置である。Ｘ軸方向移動装置２２には、移動ステージ２３のＸ軸方向における移動位置を検出するリニアスケール等の位置検出器２２ａ（図５）が付随される。
【００２２】
移動ステージ２３は、その上面を基板載置面２３ａとし、基板載置面２３ａに載置されて基板Ｗを真空吸着手段や静電吸着手段等の吸着手段によって吸着保持可能である。
【００２３】
Ｙ軸方向移動装置２５は、リニアモータ式やボールネジ式の駆動源を備えた移動装置である。
【００２４】
各塗布ヘッド２７は、複数のノズルを直線状に等間隔で配列して設けている。そして、これら３つ塗布ヘッド２７は、それぞれがＹ軸方向に沿い、かつ、各塗布ヘッド２７のノズルの配列方向がＹ時方向に沿うように枠体２６に支持される。また、３つ塗布ヘッド２７は、図４に示すように、平面視において千鳥状に、そして、隣接する塗布ヘッド２７同士の一部が重なるように配置することで、３つの塗布ヘッド２７によって構成されるＹ方向に沿うノズル列の各ノズルの配置間隔が塗布ヘッド２７間においても等間隔となるように設定されている。なお、３つの塗布ヘッド２７によって構成されるノズル列の長さは、移送ステージ２３に載置される基板ＷのＹ軸方向の長さよりも長くなるように設定される。すなわち、本実施形態では、塗布ヘッド２７を３つ配列した例としたが、塗布ヘッド２７の数は、１つの塗布ヘッド２７のノズル列の長さと移送ステージ２３に載置される基板ＷのＹ軸方向の長さとの関係に基づいて決定されるものであり、前記Ｙ軸方向の長さがノズル列の長さの３倍以上であれば、配列する塗布ヘッド２７の数は４つ以上となる。
【００２５】
各塗布ヘッド２７は、周知の構成のピエゾ方式のインクジェット塗布ヘッドであり、各ノズルに対応して液室とピエゾ素子（圧電素子）を備えており、ピエゾ素子の伸縮に伴う液室の容積変化を利用して液室内の液（配向膜形成液）をノズルから液滴として吐出させる。ピエゾ素子は、印加される電圧の大きさに対応する大きさの変形を生じるので、ピエゾ素子に印加する電圧の大きさを調整することでノズルから吐出させる液滴の量を調整することが可能である。
【００２６】
制御装置２８は、図５に示すように、Ｘ軸方向移動装置２２、Ｙ軸方向移動装置２５および各塗布ヘッド２７に接続されている。また、制御装置２８は、配向膜形成液の塗布に関する塗布情報や各種プログラムを記憶する記憶部２８ａを備える。ここで、塗布情報は、膜形成領域Ｒに塗布する液滴の配置パターン、塗布ヘッド２７の各ピエゾ素子に印加する駆動電圧の大きさ、印加時間および印加間隔（吐出周波数）、移動ステージ２３の移動速度に関する情報を含んでいる。なお、駆動電圧の大きさを変更することにより、ノズルから吐出される液滴の量（吐出量）を調整することが可能である。また、吐出周波数や移動ステージ２３の移動速度を変更することにより、基板Ｗ上で移動ステージ２３の移動方向（Ｘ軸方向）に並ぶ液滴の間隔を調整することができる。
【００２７】
ここで、図６を用いて膜形成領域Ｒに塗布する液滴の配置パターンの一例を説明する。
【００２８】
図６は、基板Ｗに形成された一つ分の膜形成領域Ｒを表したもので、膜形成領域Ｒを実線で示し、基板Ｗを切断して得られる液晶表示パネルの外形Ｓを二点鎖線で示している。また、図６中に示す白円部分は、配向膜形成液の液滴の滴下位置を表す。
【００２９】
液滴の配置パターンＰは、矩形状の膜形成領域Ｒ内を埋め尽くすように膜形成領域Ｒの各辺に沿う行方向および列方向に所定の配置間隔で設定される。行方向、列方向での液滴の配置間隔は、塗布された液滴が膜形成領域Ｒ上で濡れ広がることで、隣接する液滴同士が互いに付着し合って一体化して膜を形成することができるような大きさに設定する。なお、本実施形態においては、図４に示すように、基板Ｗ上にＸ軸方向に５つ、Ｙ軸方向に３つの合計１５個の膜形成領域Ｒが設けられている。そのため、制御装置２８の記憶部には、各膜形成領域Ｒに対応する液滴の配置パターンＰの描画位置情報が、基板Ｗ上の所定のポイントを基準とするＸＹ軸方向の位置情報として記憶されている。
【００３０】
乾燥装置３０は、基板Ｗの膜形成領域Ｒに塗布された配向膜形成液から溶媒成分を除去するもので、溶媒成分の除去手段としては加熱乾燥または減圧乾燥を用いることができる。
【００３１】
次に、作動について説明する。
【００３２】
まず、基板Ｗは、不図示の搬送ロボット等により搬送されて、親液処理装置１０のステージ１１上に載置される。
【００３３】
基板Ｗがステージ１１上に載置されると、光源１２が予め設定された時間の間点灯され、これにより基板Ｗの表面に向けて紫外光が照射される。光源１２から照射された紫外光は、マスク部材１３によって基板Ｗ上の膜形成領域Ｒ以外の領域に対向する部分で遮られ、膜形成領域Ｒにのみ照射される。これによって、膜形成領域Ｒは、それ以外の領域に比べ親液性が向上される。
【００３４】
親液処理が施された基板Ｗは、親液処理装置１０と塗布装置２０の間に設けられた不図示の受け渡しロボットによって、塗布装置２０に移送され、塗布装置２０の移動ステージ２３上に載置される。
【００３５】
移動ステージ２３上に基板Ｗが載置されると、不図示の基板位置検出装置を用いて基板Ｗの位置検出が行なわれ、移動ステージ２３上に載置された基板Ｗの基準位置に対する位置ずれが求められる。基板Ｗの位置ずれが検出された場合には、例えは、移動ステージ２３に設けられた不図示の回転テーブルによって基板Ｗの角度ずれを補正し、Ｙ軸方向の位置ずれをＹ軸方向移動装置２５によって塗布ヘッド２７をＹ軸方向に移動させることで補正する。Ｘ軸方向の位置ずれは、制御装置２８の記憶部に記憶された配置パターンＰの描画位置情報のうちＸ軸方向の位置情報を位置ずれ分だけずらすことで補正する。
【００３６】
次いで、制御装置２８の制御によって、移動ステージ２３が設定された移動速度で図３において実線で示す位置からＸ軸方向左側に向けて移動を開始する。この移動ステージ２３のＸ軸方向移動によって、移動ステージ２３上に載置された基板Ｗが塗布ヘッド２７の下方を通過するとき、各塗布ヘッド２７のノズルからは制御装置２８の制御に基づいて、記憶部に記憶された塗布情報によって設定された吐出量と吐出周波数で配向膜形成液の液滴が吐出される。
【００３７】
すなわち、移動ステージ２３の移動中、Ｘ軸方向移動装置２２に付随して設けられた位置検出器２２ａによって移動ステージ２３の移動位置が検出される。制御装置２８は、位置検出器２２ａによって検出された移動位置、記憶部２８ａに記憶された各配置パターンの描画位置情報、並びに上記基板位置検出装置を用いて検出した基板Ｗの位置情報に基づいて、各塗布ヘッド２７の個々のノズル位置と基板Ｗ上の各膜形成領域Ｒとの位置関係をリアルタイムで算出する。そして、移動ステージ２３の移動に応じてリアルタイムで算出した前記位置関係に基づいて、各膜形成領域Ｒが個々のノズルの下を通過するタイミングに合せて記憶部２８ａに記憶された駆動電圧、印加時間でノズルから配向膜形成液の液滴を吐出させ、記憶部２８ａに記憶された配置パターンに従ったパターンで膜形成領域Ｒに配向膜形成液の液滴を塗布する。
【００３８】
これによって、図６に示す配置パターンで配向膜形成液の液滴が塗布されることとなる。このようにして塗布された配向膜形成液の液滴は、親液化された膜形成領域Ｒ上で濡れ広がり、互いに付着し合って一体化し、膜形成領域Ｒ上に配向膜形成液の液膜を形成する。
【００３９】
このとき、配置パターンにおける最外周に塗布された各液滴は、濡れ広がりにより膜形成領域Ｒの外側の領域にまで広がろうとするが、膜形成領域Ｒの外側の領域は親液処理が施されていないことから、膜形成領域Ｒ内に比べて撥液性が高く、そのため、膜形成領域Ｒとその外側領域との境界部分で配向膜形成液の広がりが抑制される。
【００４０】
移動ステージ２３が、図３に二点鎖線で示す、Ｘ軸方向左端の移動端に到達すると、Ｘ軸方向移動装置２２による移動ステージ２３の移動が停止される。
【００４１】
移動ステージ２３が停止されたならば、配向膜形成液が塗布された基板Ｗは、塗布装置２０と乾燥装置３０の間に設けられた不図示の受け渡しロボットによって、乾燥装置３０に移送される。
【００４２】
乾燥装置３０に移送された基板Ｗは、加熱乾燥または減圧乾燥によって配向膜形成液中の溶媒成分が除去されることで、乾燥固化される。これにより、基板Ｗ上には配向膜が形成される。
【００４３】
本実施形態によれば、塗布装置２０に移動ステージ２３に、親液処理装置１０によって各膜形成領域Ｒに親液処理が施された基板Ｗが載置され、この基板Ｗ上の各膜形成領域Ｒには制御装置２８の制御によって記憶部２８ａに記憶された配置パターンで配向膜形成液の液滴が塗布される。各膜形成領域Ｒに塗布された配向膜形成液の液滴は、それぞれ濡れ広がり、互いに付着し合って一体化して膜を形成するとともに、その最外周においては膜形成領域Ｒの外側の画像非表示領域、いわゆる、額縁領域Ｇにまで広がろうとする。しかしながら、額縁領域Ｇには親液処理が施されていないことから、膜形成領域Ｒ内に比べて撥液性が高く、そのため、額縁領域Ｇの撥液性により膜形成領域Ｒと額縁領域Ｇとの境界部分で配向膜形成液の広がりが抑制される。これにより、額縁領域Ｇへの配向膜形成液の広がりを抑えることが可能となり、額縁領域Ｇにおける配向膜形成液の広がりを考慮した余白部を狭くすることができる。このため、額縁領域Ｇ自体の狭小化が可能となり、ひいては、液晶表示パネルの組み込みスペースの省スペース化を図ることができる。また、上述したように、膜形成領域Ｒと額縁領域Ｇとの境界部分で配向膜形成液の広がりが抑制されるため、液の広がりによる膜厚の低下が抑えられ、膜形成領域Ｒの外周部において配向膜形成液の膜の厚さが薄くなることが防止される。これにより、膜形成領域Ｒの外周部においても配向膜形成液の膜厚の均一性を保つことができ、良好な表示品質の液晶表示パネルを得ることができる。
（第２の実施形態）
第２の実施形態は、上述の第１の実施形態と、図６に示す配置パターンで配向膜形成液の液滴を塗布する手順が異なる。なお、配向膜形成装置１の構成は、第１の実施形態と同様であるので、その説明は省略する。
【００４４】
上述の第１の実施形態においては、移動テーブル２３の１回の移動、すなわち、１回の走査移動で膜形成領域Ｒ内に設定された配置パターンで配向膜形成液の液滴を塗布するようにしたが、第２の実施形態では、２回の走査塗布で図６に示す配置パターンで配向膜形成液の液滴を塗布する。図７は、図６と同じ配置パターンであり、２回の走査塗布によって配置パターンで配向膜形成液の液滴を塗布する手順を示したものである。
【００４５】
まず、移動テーブル２３の１回目の移動、すなわち、１回目の走査移動時には、記憶部２８ａに記憶された配置パターンにおける最外周に沿って配列された１列分の塗布位置（図７において斜線を付して示した液滴の塗布位置（第１のパターン））に対して液滴の塗布を行なう。
【００４６】
次いで、移動テーブル２３の２回目の移動、すなわち、２回目の走査移動時には、最外周に沿って配列された１列分の塗布位置よりも内側に位置する全ての塗布位置（第２のパターン）に対して液滴の塗布を行なう。
【００４７】
１回目の走査移動時に塗布された配向膜形成液の液滴は、２回目の走査移動時に配向膜形成液の液滴が塗布されるまでの間に、濡れ広がって隣接する液滴同士が付着し合い環状の液膜を形成する。このとき、上述の第１の実施形態と同様に、液滴が額縁領域Ｇへ広がろうとするが、膜形成領域Ｒと額縁領域Ｇとの親液性の差により広がりが抑制される。また、１回目の走査移動時に塗布される配向膜形成液の液滴は、最外周に沿って配列された１列分の塗布位置に塗布された液滴だけで構成されるため、膜形成領域Ｒ全体に塗布される第１の実施形態に比べて液膜を構成する配向膜形成液の総量が少なく、配向膜形成液が額縁領域Ｇへ広がろうとする作用が小さい。そのため、第１の実施形態よりも額縁領域Ｇへの配向膜形成液の広がりが少なくて済む。
【００４８】
２回目の走査移動時には、１回目の走査移動時に塗布された配向膜形成液の液滴によって形成された環状の膜の内側領域に配向膜形成液の液滴が塗布される。このとき、１回目の走査移動時と２回目の走査移動時との間には時間差があるので、この間に１回目の走査移動時に塗布された配向膜形成液中の溶媒成分が揮発し、１回目の走査移動時に塗布された配向膜形成液、すなわち、環状の液膜を構成する配向膜形成液の粘度は、２回目の走査移動によって塗布された時点での配向膜形成液の粘度よりも増加する。そのため、２回目の走査移動によって塗布された配向膜形成液の液滴が濡れ広がって前記環状の液膜に付着したとしても、この環状の液膜を構成する配向膜形成液はその粘度の増加によって広がり難くなっているため、環状の液膜が堰となり、額縁領域Ｇへさらに配向膜形成液が広がることが防止できる。したがって、上述のような手順で塗布することによって、第１の実施形態よりも額縁領域Ｇへの配向膜形成液の広がりを一層抑えることが可能となる。
（第３の実施形態）
第３の実施形態は、上述の第１の実施形態と、膜形成領域Ｒに対して設定された配向膜形成液の液滴の配置パターンが異なる。なお、配向膜形成装置１の構成や膜形成領域Ｒに対して設定された配置パターンで配向膜形成液の液滴を塗布する手順は、第１の実施形態と同様であるので、その説明は省略する。
【００４９】
図８に示すように、第３の実施形態における配向膜形成液の液滴の配置パターンは、最外周に沿って配列された１列分の塗布位置が膜形成領域Ｒの外側である額縁領域Ｇ上に設定される。なお、図８に示す配置パターンにおける行方向、列方向での液滴の配置間隔が、塗布された液滴が膜形成領域Ｒ上で濡れ広がることで、隣接する液滴同士が互いに付着し合って一体化して膜を形成することが可能な大きさで設定されている点も第１の実施形態と同様である。なお、第３の実施形態においては、膜形成領域Ｒよりも撥液性の高い、つまり、配向膜形成液が濡れ広がり難い（濡れ広がりが弱い）、額縁領域Ｇ上にも配向膜形成液の液滴を滴下する。そのため、この額縁領域Ｇ上においても隣接する液滴同士が付着し合えるように、図６に示す配置パターンよりも行列方向の配置間隔が狭く、また、１滴の液滴量が少なく設定される。ここで、１滴の液滴量を少なく設定するのは、位面積当たりの塗布量を第１の実施形態と同等にするためである。単位面積当たりの塗布量は、１滴の液滴量が一定であれば、液滴の行列方向の配置間隔が密になるほど増加する。したがって、単位面積当たりの塗布量を一定とする場合、液滴の行列方向の配置間隔を狭くした分、１滴の液滴量を少なくする必要がある。
【００５０】
また、額縁領域Ｇ上に滴下する液滴の配置位置は、額縁領域Ｇへの配向膜形成液の広がりに対する許容量に応じて決定する。例えば、広がりに対する許容量が膜形成領域Ｒの外周から１ｍｍである場合、配向膜形成液の液滴が額縁領域Ｇ上に滴下されて弱い濡れ広がりで濡れ広がったときでも、配向膜形成液の濡れ広がりが膜形成領域Ｒの外周から１ｍｍ以内となるような額縁領域Ｇ上の位置に液滴の配置位置を設定する。
【００５１】
このような配置パターンに設定した場合、配置パターンにおける最外周に沿って配列された１列分の塗布位置に塗布された配向膜形成液の液滴は、額縁領域Ｇ上に塗布される。
【００５２】
この額縁領域Ｇは、親液処理が施されていないので、膜形成領域Ｒ内に比べて撥液性が高い。そのため、額縁領域Ｇに塗布された配向膜形成液の液滴は、互いに付着し合って一体化するものの、額縁領域Ｇの撥液性により膜形成領域Ｒに比べて濡れ広がり難く、その濡れ広がりは、許容される範囲内に抑えられる。一方、膜形成領域Ｒ内に塗布された配向膜形成液の液滴は、親液処理された表面上で良好に濡れ広がって、第１の実施形態と同様に互いに付着し合って膜を形成する。そして、このようにして濡れ広がった膜形成領域Ｒ内の液滴は額縁領域Ｇ上の液滴と一体化して一つの液膜を形成する。
【００５３】
このようにして形成された配向膜形成液の膜の外周部分は、膜形成領域Ｒ内に比べて撥液性が高い額縁領域Ｇ上にあるので、第１の実施形態と同様に、額縁領域Ｇの撥液性により配向膜形成液の広がりが抑えられることから、第１の実施形態と同様の作用効果を得ることができる。
（第４の実施形態）
第４の実施形態は、第３の実施形態における図８に示した配置パターンに、第２の実施形態の塗布手順を適用したものである。
【００５４】
すなわち、１回の走査移動時には、額縁領域Ｇ上に設定された、配置パターンにおける最外周に沿って配列された１列分の塗布位置に対して液滴の塗布を行ない、２回目の走査移動時には、膜形成領域Ｒ内に位置する、配置パターンにおける残りの塗布位置に対して液滴の塗布を行なう。
【００５５】
このようにした場合においても、第２の実施形態と同様の作用効果を得ることが可能である。
【００５６】
なお、上述の実施形態において、基板Ｗの表面全域が撥液性を有するものとし、膜形成領域Ｒにのみ親液処理を施すことで膜形成領域Ｒと額縁領域Ｇとの間に親液性の差を設けるようにしたが、これに限られるものではなく、例えば、膜形成領域Ｒに親液処理を施して額縁領域Ｇに撥液処理を施すようにしても良く、額縁領域Ｇにのみ撥液処理を施すようにしても良い。なお、撥液処理は、蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法などによってシリコーン系撥液膜、フッ素含有系撥液膜等を額縁領域Ｇ上に形成する方法を採用することができる。また、配向膜の形成後、撥液膜は除去しても良いし、液晶表示パネルの表示品質上問題がなければ残しておいても良い。
【００５７】
また、上述の第２の実施形態において、１回目の走査移動時に、配置パターンにおける最外周に沿って配列された１列分の塗布位置に対して配向膜形成液の液滴の塗布を行なうようにしたが、これに限られるものではなく、外周に位置する２列分以上の塗布位置に対して塗布を行なうようにしても良い。１回目の走査移動時に、外周に位置する何列分に対して液滴の塗布を行なうようにするかは、膜形成領域Ｒの外周縁と膜形成領域Ｒ内における液晶表示パネルの画像表示に用いられる領域（有効表示領域）の外周縁との差に基づいて決定すればよい。すなわち、１回目の走査移動時に塗布される何列分かの液滴が膜形成領域Ｒの外周縁と有効表示領域の外周縁との間に収まれば良い。例えば、配置パターンにおける行列方向における配置間隔がそれぞれ０．５ｍｍずつで、膜形成領域Ｒの外周縁と有効表示領域の外周縁との間の距離が０．７ｍｍであればその間には１列分の塗布位置しか設定できないので、１回目の走査移動時に塗布される液滴は１列分となる。また、配置パターンにおける行列方向における配置間隔がそれぞれ０．５ｍｍずつで、膜形成領域Ｒの外周縁と有効表示領域の外周縁との間の距離が１．４ｍｍであればその間には２列分の塗布位置か設定できるので、１回目の走査移動時に塗布される液滴は２列分とすることができる。
【００５８】
また、上述の第２、第４の実施形態において、単一の配置パターンを２回の走査に分けて塗布するようにしたが、１回目の走査移動時と２回目の走査移動時とで個別に配置パターンを設定するようにしても良い。すなわち、１回目の走査移動時用の配置パターンとして矩形環状の液滴の配置パターンを設定し、２回目の走査移動時用の配置パターンとして前述の矩形環状の配置パターンの内側領域を埋める行列状の矩形配置パターンを設定するという具合である。このとき、矩形環状の配置パターンと矩形配置パターンとで、液滴の配置間隔を変えても良い。また、矩形配置パターンを矩形環状の配置パターンの内周側に重なるように設定しても良い。
【００５９】
例えば、第４の実施形態において図９に示した配置パターンにおいては、膜形成領域Ｒ上に設定する配置パターンを額縁領域Ｇ上に設定する配置パターンに比べて、行列方向の配置間隔を大きくするとともに各塗布位置に塗布する１滴の液滴量（吐出量）を多く、即ち、図６に示す配置パターンと同様の配置間隔、吐出量としても良い。このようにした場合、第４の実施形態に比べて、膜形成領域Ｒ内への液滴の塗布位置が少なくなるので、その分だけ膜形成領域Ｒ内に液滴を塗布するに要する時間を短縮することが可能となり、膜形成領域Ｒに対する配向膜形成液の液膜の形成を迅速に行なうことができる。
【００６０】
また、上述の第２、第４の実施形態において、１回目の走査移動時と２回目の走査移動時との間に待機時間を設定するようにしても良い。すなわち、１回目の走査移動時に塗布された配向膜形成液の液滴は、２回目の走査移動時に配向膜形成液の液滴が塗布されるまでの間に溶媒成分が揮発してその粘度が増加することとなるが、その粘度をコントロールする目的で待機時間を設定しても良い。例えば、２回目の走査移動によって配向膜形成液の液滴が塗布されるまでに、１回目の走査移動時に塗布された配向膜形成液の液滴の粘度をより増加させたい場合には、待機時間を長く設定するという具合である。このようにすることで、２回目の走査移動によって配向膜形成液の液滴が塗布された時点での、１回目の走査移動時に塗布された配向膜形成液の粘度を最適化することができる。そのため、２回の走査移動に分けて塗布された配向膜形成液の液滴同士がその境界においてムラが生じることと抑制し、かつ、額縁領域Ｇ上での配向膜形成液の拡がりを防止することが可能となる。
【００６１】
また、上述の第２、第４の実施形態において、１回目の走査移動時と２回目の走査移動時とで、異なる粘度（または濃度）の配向膜形成液の液滴を吐出させるようにしても良い。例えば、２回目の走査移動時よりも１回目の走査移動時に吐出させる配向膜形成液の粘度を高くする。このようにすると、膜形成領域Ｒの外周に沿って塗布される液滴をそれよりも内側の領域に塗布される液滴よりも濡れ広がり難くできるので、膜形成領域Ｒに塗布された配向膜形成液が額縁領域Ｇに広がることをより効果的に抑制することが可能となる。なお、この場合、１回目の走査移動時に塗布される液滴の配置間隔を２回目の走査移動時に塗布される液滴の配置間隔よりも、粘度（または濃度）が高い分だけ小さく設定すると良い。すなわち、粘度が高くなると液滴が濡れ広がり難くなるので、隣接する液滴同士が付着し難くなる。そこで、配向膜形成液の粘度を高くした場合には、液滴の配置間隔を狭く設定することで隣接する液滴同士が確実に付着し合うようにすることができる。また、異なる粘度（または濃度）の配向膜形成液を塗布するために、塗布ヘッド２７の組を２組設け、塗布する配向膜形成液の粘度（または濃度）に合せて使い分けるようにしても良い。
【００６２】
また、上述の第２、第４の実施形態において、２回目の走査移動時の矩形配置パターンに対して１回目の走査移動時の矩形環状の配置パターンの配置間隔を狭く、１滴の液滴量（吐出量）を少なく、配向膜形成液の粘度を高く設定しても良い。
【００６３】
このようにすると、次の作用効果が得られる。
【００６４】
ａ．１回目の走査移動時に膜形成領域Ｒの外周に沿って塗布された液滴は、２回目の走査移動時に塗布される液滴よりも粘度が高く濡れ広がり難くいので、膜形成領域Ｒに塗布された配向膜形成液が額縁領域Ｇに広がることを効果的に抑制することが可能となる。
【００６５】
ｂ．粘度の高い１回目の走査移動時に塗布される液滴の配置間隔を狭く設定しているので、高い粘度によって濡れ広がり難い状況下においても隣接する液滴同士を確実に接触させることができ、膜を良好に形成することができる。
【００６６】
ｃ．１回目の走査移動時に膜形成領域Ｒの外周に沿って塗布される液滴の１滴の液滴量（吐出量）を小さくし、その配置間隔も狭くした。そのため、基板Ｗの表面に塗布された液滴の直径が小さく、その配置間隔も狭くなる。これらの液滴は、互いに付着し合いそれぞれが円弧でつながって、配向膜形成液の液膜の外周部分を形成する。このとき、円弧を構成するそれぞれの液滴の直径は小さい（第２の走査移動時に塗布される液滴よりも）ため、つながった円弧によって液膜の外周に形成される波型の縁に生じる凹凸を小さなものとすることができる。そのため、形成される液膜の外周縁の直線性を向上（膜形成領域Ｒの外側への広がり量のバラツキを抑制）することが可能となる。その結果、液膜の膜形成領域Ｒの外側への広がり量をより制度良く管理することが可能となり、配向膜形成液が額縁領域Ｇへの配向膜形成液の広がりをより効果的に抑制することが可能となる。よって、額縁領域の狭小化を確実ならしめることができ、液晶表示パネルの組み込みスペースの省スペース化へのより一層の貢献が可能となる。
【００６７】
また、また、上述の第３、第４の実施形態において、配置パターンにおける最外周に沿って配列された１列分の塗布位置を膜形成領域Ｒの外側である額縁領域Ｇ上に設定した例で説明したが、これに限られるものではなく、外周に位置する２列分以上の塗布位置を額縁領域Ｇ上に設定するようにしても良い。額縁領域Ｇ上に設定する塗布位置の列数（膜形成領域Ｒの外周に沿って配置される塗布位置を何重に配置するか）は、額縁領域Ｇへの配向膜形成液の広がりに対する許容量に応じて決定すればよい。例えば、額縁領域Ｇへの配向膜形成液の広がりに対する許容量が２ｍｍである場合、形成された配向膜形成液の液膜の外周端が膜形成領域Ｒの外周から２ｍｍ以内の範囲内に位置するように額縁領域Ｇ上に設定する塗布位置の列数を決定すれば良い。
【００６８】
また、上述の実施形態において、膜形成領域Ｒに対して設定する配置パターンを、矩形の膜形成領域Ｒの辺に沿う行列状の配置として例で説明したが、これに限られるものではなく、例えば、膜形成領域Ｒの辺に対して傾斜した行列状の配置でも良く、千鳥配置でも良い。
【００６９】
また、上述の実施形態において、塗布ヘッド２７のノズルの配列方向をＹ軸方向（ステージに載置された基板における膜形成領域が設けられた表面に沿う第１の方向に対応）とし、移動ステージ２３の移動方向をＸ軸方向（第１の方向とは交差する第２の方向に対応）として両方向が直交する例で説明したが、これに限られるものではなく、移動ステージ２３の移動方向に対して、ノズルの配列方向が傾斜して配置されるようにしても良い。
【符号の説明】
【００７０】
１ 配向膜形成装置
１０ 親液処理装置
２０ 塗布装置
２２ Ｘ軸方向移動装置
２５ Ｙ軸方向移動装置
２７ 塗布ヘッド
２８ 制御装置
３０ 乾燥装置
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板上の膜形成領域に配向膜形成液を塗布する配向膜形成液の塗布装置および塗布方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示パネルの製造工程においては、ガラス基板の表面に配向膜を形成する配向膜形成プロセスがある。この配向膜形成プロセスによってガラス基板に配向膜を形成する際には、ガラス基板における膜形成領域が設けられた表面全域を紫外線照射などによって親液処理し、その後、インクジェット方式の塗布装置を用いてガラス基板の膜形成領域Ｒに向けて液滴状の配向膜形成液を塗布し、ガラス基板の膜形成領域に配向膜を形成するようにしている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−２５５３１６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、近年、ガラス基板における膜形成領域の外側の画像非表示領域、いわゆる、額縁領域の狭小化（狭額縁化）が一層進んでいる。
【０００５】
そのため、膜形成領域外（額縁領域）への配向膜の広がりに対する許容量（エッジ精度）もより一層厳しく制限されつつある。
【０００６】
しかしながら、上述の従来技術においては、膜形成領域外への配向膜の濡れ広がり量をコントロールすることに関しては充分とは言えず、対応が望まれていた。
【０００７】
本発明は、基板上の膜形成領域外への配向膜の広がり量を抑制することができる配向膜形成液の塗布装置および塗布方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の実施形態に係る第１の特徴は、基板に設けられた膜形成領域に配向膜形成液を塗布して前記膜形成領域に配向膜を形成する配向膜形成装置において、
前記基板を載置するステージと、
このステージに載置された前記基板における前記膜形成領域が設けられた表面に沿う第１の方向に沿って配列された複数のノズルを備えた塗布ヘッドと、
前記ステージと前記塗布ヘッドとを前記表面に沿い前記第１の方向とは交差する第２の方向に沿って走査移動させる移動装置と、
前記膜形成領域が当該膜形成領域以外の前記表面に対して高い親液性とされた基板が前記ステージに載置されたとき、予め設定された配置パターンで前記配向膜形成液の液滴が前記膜形成領域に対して塗布されるように、前記ノズルから前記配向膜形成液の液滴を吐出させるべく前記移動装置と前記塗布ヘッドとを制御する制御装置と
を備えることである。
【０００９】
本発明の実施形態に係る第２の特徴は、基板に設けられた膜形成領域に配向膜形成液を塗布する配向膜形成液の塗布方法において、
前記基板の前記膜形成領域を当該膜形成領域以外の前記表面に対して高い親液性とし、
前記基板の表面に沿う第１の方向に沿って配列された複数のノズルを備えた塗布ヘッドと前記基板とを前記基板の表面に沿い前記第１の方向とは交差する第２の方向に沿って走査移動させながら、前記膜形成領域に対して設定された配置パターンで前記ノズルから前記配向膜形成液の液滴を吐出させ、前記膜形成領域に前記配向膜形成液の液滴を塗布することである。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、基板上の膜形成領域外への配向膜の広がり量を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る配向膜形成プロセスの概略構成を示す図である。
【図２】図１に示す親液処理装置の概略構成を示す正面図である。
【図３】図１に示す塗布装置の概略構成を示す正面図である。
【図４】図３に示す塗布装置の概略構成を示す平面図である。
【図５】塗布装置の制御ブロック図である。
【図６】基板上の膜形成領域に対する配向膜形成液の液滴の配置パターンを示す平面図である。
【図７】基板上の膜形成領域に対する配向膜形成液の液滴の配置パターンの塗布手順を説明するための平面図である。
【図８】基板上の膜形成領域に対する配向膜形成液の液滴の配置パターンの他の例を示す平面図である。
【図９】基板上の膜形成領域に対する配向膜形成液の液滴の配置パターンの他の例の塗布手順を説明するための平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
（第１の実施形態）
本発明の第１の実施形態について図面を用いて説明する。
【００１３】
配向膜形成プロセスで用いられる配向膜形成装置１は、図１に示すように、液晶表示パネルの製造用のガラス基板（以下、単に「基板」）Ｗに親液処理を施す親液処理装置１０、親液処理が施された基板上の膜形成領域Ｒに配向膜形成液を塗布する塗布装置２０、膜形成領域Ｒに塗布された配向膜形成液を乾燥させる乾燥装置３０を備えて構成される。
【００１４】
なおここで、配向膜形成液は、例えば、溶質としてのポリイミドを含有する溶液である。また、基板Ｗは、配向膜形成領域Ｒを含めその表面全域に撥液性を有する。
【００１５】
親液処理装置１０は、図２に示すように、基板Ｗを載置するステージ１１、ステージ１１の上方に配置され、ステージ１１に載置された基板Ｗの全面に紫外光を照射可能に設けられた光源１２、ステージ１１と光源１２との間に配置されたマスク部材１３を有して構成される。
【００１６】
ステージ１１は、その上面の基板載置面１１ａに基板Ｗを平坦に保持可能である。このステージ１１は、載置された基板Ｗを真空吸着や静電吸着等の吸着手段で吸着保持しても良いし、基板載置面１１ａと基板Ｗとの間の摩擦抵抗によって保持するようにしても良い。
【００１７】
光源１２は、長尺状の紫外線ランプを複数本平行に配置して構成されてなる。紫外線ランプは、例えば、エキシマＵＶランプを用いることが可能である。
【００１８】
マスク部材１３は、ステージ１１に載置された基板Ｗにおける膜形成領域Ｒに対向する部分が紫外線を透過可能に形成され、膜形成領域Ｒに対向しない他の部分が紫外線を遮光可能に形成された板状の部材である。このマスク部材１３は、ステージ１１に上方に、ステージ１１に載置された基板Ｗの上面との間に数ｍｍ程度の間隔を隔てて配置されてなる。光源１２から照射された紫外光は、このマスク部材１２によって膜形成領域Ｒに対向しない部分で遮光され、膜形成領域Ｒのみに照射されることとなる。その結果、基板Ｗにおける膜形成領域Ｒの親液性が膜形成領域Ｒ以外の部分よりも高められる。
【００１９】
なおここで、親液処理装置１０に紫外光源を用いた紫外線処理の例で説明したが、膜形成領域Ｒを親液処理することができれば良いので、これに限らず、例えば、プラズマ処理やオゾン処理によるものであっても良い。
【００２０】
塗布装置２０は、インクジェット方式の塗布装置で、架台２１、架台２１上にＸ軸方向移動装置２２を介して矢印Ｘで示すＸ軸方向に沿って移動自在に支持された移動ステージ２３、架台２１上に、移動ステージ２３の移動領域を跨ぐように設けられた門型の支持部材２４、この支持部材２４にＹ軸方向移動装置２５を介して矢印Ｙで示すＹ軸方向に移動自在に支持された枠体２６、この枠体２６に支持された複数（本実施形態においては、３つ）のインクジェット方式の塗布ヘッド２７、Ｘ軸方向移動装置２２、Ｙ軸方向移動装置２５、塗布ヘッド２７等の駆動を制御する制御装置２８を有して構成される。
【００２１】
Ｘ軸方向移動装置２２は、リニアモータ式やボールネジ式の駆動源を備えた移動装置である。Ｘ軸方向移動装置２２には、移動ステージ２３のＸ軸方向における移動位置を検出するリニアスケール等の位置検出器２２ａ（図５）が付随される。
【００２２】
移動ステージ２３は、その上面を基板載置面２３ａとし、基板載置面２３ａに載置されて基板Ｗを真空吸着手段や静電吸着手段等の吸着手段によって吸着保持可能である。
【００２３】
Ｙ軸方向移動装置２５は、リニアモータ式やボールネジ式の駆動源を備えた移動装置である。
【００２４】
各塗布ヘッド２７は、複数のノズルを直線状に等間隔で配列して設けている。そして、これら３つ塗布ヘッド２７は、それぞれがＹ軸方向に沿い、かつ、各塗布ヘッド２７のノズルの配列方向がＹ時方向に沿うように枠体２６に支持される。また、３つ塗布ヘッド２７は、図４に示すように、平面視において千鳥状に、そして、隣接する塗布ヘッド２７同士の一部が重なるように配置することで、３つの塗布ヘッド２７によって構成されるＹ方向に沿うノズル列の各ノズルの配置間隔が塗布ヘッド２７間においても等間隔となるように設定されている。なお、３つの塗布ヘッド２７によって構成されるノズル列の長さは、移送ステージ２３に載置される基板ＷのＹ軸方向の長さよりも長くなるように設定される。すなわち、本実施形態では、塗布ヘッド２７を３つ配列した例としたが、塗布ヘッド２７の数は、１つの塗布ヘッド２７のノズル列の長さと移送ステージ２３に載置される基板ＷのＹ軸方向の長さとの関係に基づいて決定されるものであり、前記Ｙ軸方向の長さがノズル列の長さの３倍以上であれば、配列する塗布ヘッド２７の数は４つ以上となる。
【００２５】
各塗布ヘッド２７は、周知の構成のピエゾ方式のインクジェット塗布ヘッドであり、各ノズルに対応して液室とピエゾ素子（圧電素子）を備えており、ピエゾ素子の伸縮に伴う液室の容積変化を利用して液室内の液（配向膜形成液）をノズルから液滴として吐出させる。ピエゾ素子は、印加される電圧の大きさに対応する大きさの変形を生じるので、ピエゾ素子に印加する電圧の大きさを調整することでノズルから吐出させる液滴の量を調整することが可能である。
【００２６】
制御装置２８は、図５に示すように、Ｘ軸方向移動装置２２、Ｙ軸方向移動装置２５および各塗布ヘッド２７に接続されている。また、制御装置２８は、配向膜形成液の塗布に関する塗布情報や各種プログラムを記憶する記憶部２８ａを備える。ここで、塗布情報は、膜形成領域Ｒに塗布する液滴の配置パターン、塗布ヘッド２７の各ピエゾ素子に印加する駆動電圧の大きさ、印加時間および印加間隔（吐出周波数）、移動ステージ２３の移動速度に関する情報を含んでいる。なお、駆動電圧の大きさを変更することにより、ノズルから吐出される液滴の量（吐出量）を調整することが可能である。また、吐出周波数や移動ステージ２３の移動速度を変更することにより、基板Ｗ上で移動ステージ２３の移動方向（Ｘ軸方向）に並ぶ液滴の間隔を調整することができる。
【００２７】
ここで、図６を用いて膜形成領域Ｒに塗布する液滴の配置パターンの一例を説明する。
【００２８】
図６は、基板Ｗに形成された一つ分の膜形成領域Ｒを表したもので、膜形成領域Ｒを実線で示し、基板Ｗを切断して得られる液晶表示パネルの外形Ｓを二点鎖線で示している。また、図６中に示す白円部分は、配向膜形成液の液滴の滴下位置を表す。
【００２９】
液滴の配置パターンＰは、矩形状の膜形成領域Ｒ内を埋め尽くすように膜形成領域Ｒの各辺に沿う行方向および列方向に所定の配置間隔で設定される。行方向、列方向での液滴の配置間隔は、塗布された液滴が膜形成領域Ｒ上で濡れ広がることで、隣接する液滴同士が互いに付着し合って一体化して膜を形成することができるような大きさに設定する。なお、本実施形態においては、図４に示すように、基板Ｗ上にＸ軸方向に５つ、Ｙ軸方向に３つの合計１５個の膜形成領域Ｒが設けられている。そのため、制御装置２８の記憶部には、各膜形成領域Ｒに対応する液滴の配置パターンＰの描画位置情報が、基板Ｗ上の所定のポイントを基準とするＸＹ軸方向の位置情報として記憶されている。
【００３０】
乾燥装置３０は、基板Ｗの膜形成領域Ｒに塗布された配向膜形成液から溶媒成分を除去するもので、溶媒成分の除去手段としては加熱乾燥または減圧乾燥を用いることができる。
【００３１】
次に、作動について説明する。
【００３２】
まず、基板Ｗは、不図示の搬送ロボット等により搬送されて、親液処理装置１０のステージ１１上に載置される。
【００３３】
基板Ｗがステージ１１上に載置されると、光源１２が予め設定された時間の間点灯され、これにより基板Ｗの表面に向けて紫外光が照射される。光源１２から照射された紫外光は、マスク部材１３によって基板Ｗ上の膜形成領域Ｒ以外の領域に対向する部分で遮られ、膜形成領域Ｒにのみ照射される。これによって、膜形成領域Ｒは、それ以外の領域に比べ親液性が向上される。
【００３４】
親液処理が施された基板Ｗは、親液処理装置１０と塗布装置２０の間に設けられた不図示の受け渡しロボットによって、塗布装置２０に移送され、塗布装置２０の移動ステージ２３上に載置される。
【００３５】
移動ステージ２３上に基板Ｗが載置されると、不図示の基板位置検出装置を用いて基板Ｗの位置検出が行なわれ、移動ステージ２３上に載置された基板Ｗの基準位置に対する位置ずれが求められる。基板Ｗの位置ずれが検出された場合には、例えは、移動ステージ２３に設けられた不図示の回転テーブルによって基板Ｗの角度ずれを補正し、Ｙ軸方向の位置ずれをＹ軸方向移動装置２５によって塗布ヘッド２７をＹ軸方向に移動させることで補正する。Ｘ軸方向の位置ずれは、制御装置２８の記憶部に記憶された配置パターンＰの描画位置情報のうちＸ軸方向の位置情報を位置ずれ分だけずらすことで補正する。
【００３６】
次いで、制御装置２８の制御によって、移動ステージ２３が設定された移動速度で図３において実線で示す位置からＸ軸方向左側に向けて移動を開始する。この移動ステージ２３のＸ軸方向移動によって、移動ステージ２３上に載置された基板Ｗが塗布ヘッド２７の下方を通過するとき、各塗布ヘッド２７のノズルからは制御装置２８の制御に基づいて、記憶部に記憶された塗布情報によって設定された吐出量と吐出周波数で配向膜形成液の液滴が吐出される。
【００３７】
すなわち、移動ステージ２３の移動中、Ｘ軸方向移動装置２２に付随して設けられた位置検出器２２ａによって移動ステージ２３の移動位置が検出される。制御装置２８は、位置検出器２２ａによって検出された移動位置、記憶部２８ａに記憶された各配置パターンの描画位置情報、並びに上記基板位置検出装置を用いて検出した基板Ｗの位置情報に基づいて、各塗布ヘッド２７の個々のノズル位置と基板Ｗ上の各膜形成領域Ｒとの位置関係をリアルタイムで算出する。そして、移動ステージ２３の移動に応じてリアルタイムで算出した前記位置関係に基づいて、各膜形成領域Ｒが個々のノズルの下を通過するタイミングに合せて記憶部２８ａに記憶された駆動電圧、印加時間でノズルから配向膜形成液の液滴を吐出させ、記憶部２８ａに記憶された配置パターンに従ったパターンで膜形成領域Ｒに配向膜形成液の液滴を塗布する。
【００３８】
これによって、図６に示す配置パターンで配向膜形成液の液滴が塗布されることとなる。このようにして塗布された配向膜形成液の液滴は、親液化された膜形成領域Ｒ上で濡れ広がり、互いに付着し合って一体化し、膜形成領域Ｒ上に配向膜形成液の液膜を形成する。
【００３９】
このとき、配置パターンにおける最外周に塗布された各液滴は、濡れ広がりにより膜形成領域Ｒの外側の領域にまで広がろうとするが、膜形成領域Ｒの外側の領域は親液処理が施されていないことから、膜形成領域Ｒ内に比べて撥液性が高く、そのため、膜形成領域Ｒとその外側領域との境界部分で配向膜形成液の広がりが抑制される。
【００４０】
移動ステージ２３が、図３に二点鎖線で示す、Ｘ軸方向左端の移動端に到達すると、Ｘ軸方向移動装置２２による移動ステージ２３の移動が停止される。
【００４１】
移動ステージ２３が停止されたならば、配向膜形成液が塗布された基板Ｗは、塗布装置２０と乾燥装置３０の間に設けられた不図示の受け渡しロボットによって、乾燥装置３０に移送される。
【００４２】
乾燥装置３０に移送された基板Ｗは、加熱乾燥または減圧乾燥によって配向膜形成液中の溶媒成分が除去されることで、乾燥固化される。これにより、基板Ｗ上には配向膜が形成される。
【００４３】
本実施形態によれば、塗布装置２０に移動ステージ２３に、親液処理装置１０によって各膜形成領域Ｒに親液処理が施された基板Ｗが載置され、この基板Ｗ上の各膜形成領域Ｒには制御装置２８の制御によって記憶部２８ａに記憶された配置パターンで配向膜形成液の液滴が塗布される。各膜形成領域Ｒに塗布された配向膜形成液の液滴は、それぞれ濡れ広がり、互いに付着し合って一体化して膜を形成するとともに、その最外周においては膜形成領域Ｒの外側の画像非表示領域、いわゆる、額縁領域Ｇにまで広がろうとする。しかしながら、額縁領域Ｇには親液処理が施されていないことから、膜形成領域Ｒ内に比べて撥液性が高く、そのため、額縁領域Ｇの撥液性により膜形成領域Ｒと額縁領域Ｇとの境界部分で配向膜形成液の広がりが抑制される。これにより、額縁領域Ｇへの配向膜形成液の広がりを抑えることが可能となり、額縁領域Ｇにおける配向膜形成液の広がりを考慮した余白部を狭くすることができる。このため、額縁領域Ｇ自体の狭小化が可能となり、ひいては、液晶表示パネルの組み込みスペースの省スペース化を図ることができる。また、上述したように、膜形成領域Ｒと額縁領域Ｇとの境界部分で配向膜形成液の広がりが抑制されるため、液の広がりによる膜厚の低下が抑えられ、膜形成領域Ｒの外周部において配向膜形成液の膜の厚さが薄くなることが防止される。これにより、膜形成領域Ｒの外周部においても配向膜形成液の膜厚の均一性を保つことができ、良好な表示品質の液晶表示パネルを得ることができる。
（第２の実施形態）
第２の実施形態は、上述の第１の実施形態と、図６に示す配置パターンで配向膜形成液の液滴を塗布する手順が異なる。なお、配向膜形成装置１の構成は、第１の実施形態と同様であるので、その説明は省略する。
【００４４】
上述の第１の実施形態においては、移動テーブル２３の１回の移動、すなわち、１回の走査移動で膜形成領域Ｒ内に設定された配置パターンで配向膜形成液の液滴を塗布するようにしたが、第２の実施形態では、２回の走査塗布で図６に示す配置パターンで配向膜形成液の液滴を塗布する。図７は、図６と同じ配置パターンであり、２回の走査塗布によって配置パターンで配向膜形成液の液滴を塗布する手順を示したものである。
【００４５】
まず、移動テーブル２３の１回目の移動、すなわち、１回目の走査移動時には、記憶部２８ａに記憶された配置パターンにおける最外周に沿って配列された１列分の塗布位置（図７において斜線を付して示した液滴の塗布位置（第１のパターン））に対して液滴の塗布を行なう。
【００４６】
次いで、移動テーブル２３の２回目の移動、すなわち、２回目の走査移動時には、最外周に沿って配列された１列分の塗布位置よりも内側に位置する全ての塗布位置（第２のパターン）に対して液滴の塗布を行なう。
【００４７】
１回目の走査移動時に塗布された配向膜形成液の液滴は、２回目の走査移動時に配向膜形成液の液滴が塗布されるまでの間に、濡れ広がって隣接する液滴同士が付着し合い環状の液膜を形成する。このとき、上述の第１の実施形態と同様に、液滴が額縁領域Ｇへ広がろうとするが、膜形成領域Ｒと額縁領域Ｇとの親液性の差により広がりが抑制される。また、１回目の走査移動時に塗布される配向膜形成液の液滴は、最外周に沿って配列された１列分の塗布位置に塗布された液滴だけで構成されるため、膜形成領域Ｒ全体に塗布される第１の実施形態に比べて液膜を構成する配向膜形成液の総量が少なく、配向膜形成液が額縁領域Ｇへ広がろうとする作用が小さい。そのため、第１の実施形態よりも額縁領域Ｇへの配向膜形成液の広がりが少なくて済む。
【００４８】
２回目の走査移動時には、１回目の走査移動時に塗布された配向膜形成液の液滴によって形成された環状の膜の内側領域に配向膜形成液の液滴が塗布される。このとき、１回目の走査移動時と２回目の走査移動時との間には時間差があるので、この間に１回目の走査移動時に塗布された配向膜形成液中の溶媒成分が揮発し、１回目の走査移動時に塗布された配向膜形成液、すなわち、環状の液膜を構成する配向膜形成液の粘度は、２回目の走査移動によって塗布された時点での配向膜形成液の粘度よりも増加する。そのため、２回目の走査移動によって塗布された配向膜形成液の液滴が濡れ広がって前記環状の液膜に付着したとしても、この環状の液膜を構成する配向膜形成液はその粘度の増加によって広がり難くなっているため、環状の液膜が堰となり、額縁領域Ｇへさらに配向膜形成液が広がることが防止できる。したがって、上述のような手順で塗布することによって、第１の実施形態よりも額縁領域Ｇへの配向膜形成液の広がりを一層抑えることが可能となる。
（第３の実施形態）
第３の実施形態は、上述の第１の実施形態と、膜形成領域Ｒに対して設定された配向膜形成液の液滴の配置パターンが異なる。なお、配向膜形成装置１の構成や膜形成領域Ｒに対して設定された配置パターンで配向膜形成液の液滴を塗布する手順は、第１の実施形態と同様であるので、その説明は省略する。
【００４９】
図８に示すように、第３の実施形態における配向膜形成液の液滴の配置パターンは、最外周に沿って配列された１列分の塗布位置が膜形成領域Ｒの外側である額縁領域Ｇ上に設定される。なお、図８に示す配置パターンにおける行方向、列方向での液滴の配置間隔が、塗布された液滴が膜形成領域Ｒ上で濡れ広がることで、隣接する液滴同士が互いに付着し合って一体化して膜を形成することが可能な大きさで設定されている点も第１の実施形態と同様である。なお、第３の実施形態においては、膜形成領域Ｒよりも撥液性の高い、つまり、配向膜形成液が濡れ広がり難い（濡れ広がりが弱い）、額縁領域Ｇ上にも配向膜形成液の液滴を滴下する。そのため、この額縁領域Ｇ上においても隣接する液滴同士が付着し合えるように、図６に示す配置パターンよりも行列方向の配置間隔が狭く、また、１滴の液滴量が少なく設定される。ここで、１滴の液滴量を少なく設定するのは、位面積当たりの塗布量を第１の実施形態と同等にするためである。単位面積当たりの塗布量は、１滴の液滴量が一定であれば、液滴の行列方向の配置間隔が密になるほど増加する。したがって、単位面積当たりの塗布量を一定とする場合、液滴の行列方向の配置間隔を狭くした分、１滴の液滴量を少なくする必要がある。
【００５０】
また、額縁領域Ｇ上に滴下する液滴の配置位置は、額縁領域Ｇへの配向膜形成液の広がりに対する許容量に応じて決定する。例えば、広がりに対する許容量が膜形成領域Ｒの外周から１ｍｍである場合、配向膜形成液の液滴が額縁領域Ｇ上に滴下されて弱い濡れ広がりで濡れ広がったときでも、配向膜形成液の濡れ広がりが膜形成領域Ｒの外周から１ｍｍ以内となるような額縁領域Ｇ上の位置に液滴の配置位置を設定する。
【００５１】
このような配置パターンに設定した場合、配置パターンにおける最外周に沿って配列された１列分の塗布位置に塗布された配向膜形成液の液滴は、額縁領域Ｇ上に塗布される。
【００５２】
この額縁領域Ｇは、親液処理が施されていないので、膜形成領域Ｒ内に比べて撥液性が高い。そのため、額縁領域Ｇに塗布された配向膜形成液の液滴は、互いに付着し合って一体化するものの、額縁領域Ｇの撥液性により膜形成領域Ｒに比べて濡れ広がり難く、その濡れ広がりは、許容される範囲内に抑えられる。一方、膜形成領域Ｒ内に塗布された配向膜形成液の液滴は、親液処理された表面上で良好に濡れ広がって、第１の実施形態と同様に互いに付着し合って膜を形成する。そして、このようにして濡れ広がった膜形成領域Ｒ内の液滴は額縁領域Ｇ上の液滴と一体化して一つの液膜を形成する。
【００５３】
このようにして形成された配向膜形成液の膜の外周部分は、膜形成領域Ｒ内に比べて撥液性が高い額縁領域Ｇ上にあるので、第１の実施形態と同様に、額縁領域Ｇの撥液性により配向膜形成液の広がりが抑えられることから、第１の実施形態と同様の作用効果を得ることができる。
（第４の実施形態）
第４の実施形態は、第３の実施形態における図８に示した配置パターンに、第２の実施形態の塗布手順を適用したものである。
【００５４】
すなわち、１回の走査移動時には、額縁領域Ｇ上に設定された、配置パターンにおける最外周に沿って配列された１列分の塗布位置に対して液滴の塗布を行ない、２回目の走査移動時には、膜形成領域Ｒ内に位置する、配置パターンにおける残りの塗布位置に対して液滴の塗布を行なう。
【００５５】
このようにした場合においても、第２の実施形態と同様の作用効果を得ることが可能である。
【００５６】
なお、上述の実施形態において、基板Ｗの表面全域が撥液性を有するものとし、膜形成領域Ｒにのみ親液処理を施すことで膜形成領域Ｒと額縁領域Ｇとの間に親液性の差を設けるようにしたが、これに限られるものではなく、例えば、膜形成領域Ｒに親液処理を施して額縁領域Ｇに撥液処理を施すようにしても良く、額縁領域Ｇにのみ撥液処理を施すようにしても良い。なお、撥液処理は、蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法などによってシリコーン系撥液膜、フッ素含有系撥液膜等を額縁領域Ｇ上に形成する方法を採用することができる。また、配向膜の形成後、撥液膜は除去しても良いし、液晶表示パネルの表示品質上問題がなければ残しておいても良い。
【００５７】
また、上述の第２の実施形態において、１回目の走査移動時に、配置パターンにおける最外周に沿って配列された１列分の塗布位置に対して配向膜形成液の液滴の塗布を行なうようにしたが、これに限られるものではなく、外周に位置する２列分以上の塗布位置に対して塗布を行なうようにしても良い。１回目の走査移動時に、外周に位置する何列分に対して液滴の塗布を行なうようにするかは、膜形成領域Ｒの外周縁と膜形成領域Ｒ内における液晶表示パネルの画像表示に用いられる領域（有効表示領域）の外周縁との差に基づいて決定すればよい。すなわち、１回目の走査移動時に塗布される何列分かの液滴が膜形成領域Ｒの外周縁と有効表示領域の外周縁との間に収まれば良い。例えば、配置パターンにおける行列方向における配置間隔がそれぞれ０．５ｍｍずつで、膜形成領域Ｒの外周縁と有効表示領域の外周縁との間の距離が０．７ｍｍであればその間には１列分の塗布位置しか設定できないので、１回目の走査移動時に塗布される液滴は１列分となる。また、配置パターンにおける行列方向における配置間隔がそれぞれ０．５ｍｍずつで、膜形成領域Ｒの外周縁と有効表示領域の外周縁との間の距離が１．４ｍｍであればその間には２列分の塗布位置か設定できるので、１回目の走査移動時に塗布される液滴は２列分とすることができる。
【００５８】
また、上述の第２、第４の実施形態において、単一の配置パターンを２回の走査に分けて塗布するようにしたが、１回目の走査移動時と２回目の走査移動時とで個別に配置パターンを設定するようにしても良い。すなわち、１回目の走査移動時用の配置パターンとして矩形環状の液滴の配置パターンを設定し、２回目の走査移動時用の配置パターンとして前述の矩形環状の配置パターンの内側領域を埋める行列状の矩形配置パターンを設定するという具合である。このとき、矩形環状の配置パターンと矩形配置パターンとで、液滴の配置間隔を変えても良い。また、矩形配置パターンを矩形環状の配置パターンの内周側に重なるように設定しても良い。
【００５９】
例えば、第４の実施形態において図９に示した配置パターンにおいては、膜形成領域Ｒ上に設定する配置パターンを額縁領域Ｇ上に設定する配置パターンに比べて、行列方向の配置間隔を大きくするとともに各塗布位置に塗布する１滴の液滴量（吐出量）を多く、即ち、図６に示す配置パターンと同様の配置間隔、吐出量としても良い。このようにした場合、第４の実施形態に比べて、膜形成領域Ｒ内への液滴の塗布位置が少なくなるので、その分だけ膜形成領域Ｒ内に液滴を塗布するに要する時間を短縮することが可能となり、膜形成領域Ｒに対する配向膜形成液の液膜の形成を迅速に行なうことができる。
【００６０】
また、上述の第２、第４の実施形態において、１回目の走査移動時と２回目の走査移動時との間に待機時間を設定するようにしても良い。すなわち、１回目の走査移動時に塗布された配向膜形成液の液滴は、２回目の走査移動時に配向膜形成液の液滴が塗布されるまでの間に溶媒成分が揮発してその粘度が増加することとなるが、その粘度をコントロールする目的で待機時間を設定しても良い。例えば、２回目の走査移動によって配向膜形成液の液滴が塗布されるまでに、１回目の走査移動時に塗布された配向膜形成液の液滴の粘度をより増加させたい場合には、待機時間を長く設定するという具合である。このようにすることで、２回目の走査移動によって配向膜形成液の液滴が塗布された時点での、１回目の走査移動時に塗布された配向膜形成液の粘度を最適化することができる。そのため、２回の走査移動に分けて塗布された配向膜形成液の液滴同士がその境界においてムラが生じることと抑制し、かつ、額縁領域Ｇ上での配向膜形成液の拡がりを防止することが可能となる。
【００６１】
また、上述の第２、第４の実施形態において、１回目の走査移動時と２回目の走査移動時とで、異なる粘度（または濃度）の配向膜形成液の液滴を吐出させるようにしても良い。例えば、２回目の走査移動時よりも１回目の走査移動時に吐出させる配向膜形成液の粘度を高くする。このようにすると、膜形成領域Ｒの外周に沿って塗布される液滴をそれよりも内側の領域に塗布される液滴よりも濡れ広がり難くできるので、膜形成領域Ｒに塗布された配向膜形成液が額縁領域Ｇに広がることをより効果的に抑制することが可能となる。なお、この場合、１回目の走査移動時に塗布される液滴の配置間隔を２回目の走査移動時に塗布される液滴の配置間隔よりも、粘度（または濃度）が高い分だけ小さく設定すると良い。すなわち、粘度が高くなると液滴が濡れ広がり難くなるので、隣接する液滴同士が付着し難くなる。そこで、配向膜形成液の粘度を高くした場合には、液滴の配置間隔を狭く設定することで隣接する液滴同士が確実に付着し合うようにすることができる。また、異なる粘度（または濃度）の配向膜形成液を塗布するために、塗布ヘッド２７の組を２組設け、塗布する配向膜形成液の粘度（または濃度）に合せて使い分けるようにしても良い。
【００６２】
また、上述の第２、第４の実施形態において、２回目の走査移動時の矩形配置パターンに対して１回目の走査移動時の矩形環状の配置パターンの配置間隔を狭く、１滴の液滴量（吐出量）を少なく、配向膜形成液の粘度を高く設定しても良い。
【００６３】
このようにすると、次の作用効果が得られる。
【００６４】
ａ．１回目の走査移動時に膜形成領域Ｒの外周に沿って塗布された液滴は、２回目の走査移動時に塗布される液滴よりも粘度が高く濡れ広がり難くいので、膜形成領域Ｒに塗布された配向膜形成液が額縁領域Ｇに広がることを効果的に抑制することが可能となる。
【００６５】
ｂ．粘度の高い１回目の走査移動時に塗布される液滴の配置間隔を狭く設定しているので、高い粘度によって濡れ広がり難い状況下においても隣接する液滴同士を確実に接触させることができ、膜を良好に形成することができる。
【００６６】
ｃ．１回目の走査移動時に膜形成領域Ｒの外周に沿って塗布される液滴の１滴の液滴量（吐出量）を小さくし、その配置間隔も狭くした。そのため、基板Ｗの表面に塗布された液滴の直径が小さく、その配置間隔も狭くなる。これらの液滴は、互いに付着し合いそれぞれが円弧でつながって、配向膜形成液の液膜の外周部分を形成する。このとき、円弧を構成するそれぞれの液滴の直径は小さい（第２の走査移動時に塗布される液滴よりも）ため、つながった円弧によって液膜の外周に形成される波型の縁に生じる凹凸を小さなものとすることができる。そのため、形成される液膜の外周縁の直線性を向上（膜形成領域Ｒの外側への広がり量のバラツキを抑制）することが可能となる。その結果、液膜の膜形成領域Ｒの外側への広がり量をより制度良く管理することが可能となり、配向膜形成液が額縁領域Ｇへの配向膜形成液の広がりをより効果的に抑制することが可能となる。よって、額縁領域の狭小化を確実ならしめることができ、液晶表示パネルの組み込みスペースの省スペース化へのより一層の貢献が可能となる。
【００６７】
また、また、上述の第３、第４の実施形態において、配置パターンにおける最外周に沿って配列された１列分の塗布位置を膜形成領域Ｒの外側である額縁領域Ｇ上に設定した例で説明したが、これに限られるものではなく、外周に位置する２列分以上の塗布位置を額縁領域Ｇ上に設定するようにしても良い。額縁領域Ｇ上に設定する塗布位置の列数（膜形成領域Ｒの外周に沿って配置される塗布位置を何重に配置するか）は、額縁領域Ｇへの配向膜形成液の広がりに対する許容量に応じて決定すればよい。例えば、額縁領域Ｇへの配向膜形成液の広がりに対する許容量が２ｍｍである場合、形成された配向膜形成液の液膜の外周端が膜形成領域Ｒの外周から２ｍｍ以内の範囲内に位置するように額縁領域Ｇ上に設定する塗布位置の列数を決定すれば良い。
【００６８】
また、上述の実施形態において、膜形成領域Ｒに対して設定する配置パターンを、矩形の膜形成領域Ｒの辺に沿う行列状の配置として例で説明したが、これに限られるものではなく、例えば、膜形成領域Ｒの辺に対して傾斜した行列状の配置でも良く、千鳥配置でも良い。
【００６９】
また、上述の実施形態において、塗布ヘッド２７のノズルの配列方向をＹ軸方向（ステージに載置された基板における膜形成領域が設けられた表面に沿う第１の方向に対応）とし、移動ステージ２３の移動方向をＸ軸方向（第１の方向とは交差する第２の方向に対応）として両方向が直交する例で説明したが、これに限られるものではなく、移動ステージ２３の移動方向に対して、ノズルの配列方向が傾斜して配置されるようにしても良い。
【符号の説明】
【００７０】
１ 配向膜形成装置
１０ 親液処理装置
２０ 塗布装置
２２ Ｘ軸方向移動装置
２５ Ｙ軸方向移動装置
２７ 塗布ヘッド
２８ 制御装置
３０ 乾燥装置
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に設けられた膜形成領域に配向膜形成液を塗布する配向膜形成液の塗布装置において、
前記基板を載置するステージと、
このステージに載置された前記基板における前記膜形成領域が設けられた表面に沿う第１の方向に沿って配列された複数のノズルを備えた塗布ヘッドと、
前記ステージと前記塗布ヘッドとを前記表面に沿い前記第１の方向とは交差する第２の方向に沿って走査移動させる移動装置と、
前記膜形成領域が当該膜形成領域以外の前記表面に対して高い親液性とされた基板が前記ステージに載置されたとき、設定された配置パターンで前記配向膜形成液の液滴が前記膜形成領域に対して塗布されるように前記ノズルから前記配向膜形成液の液滴を吐出させるべく、前記移動装置と前記塗布ヘッドを制御する制御装置と
を備えることを特徴とする配向膜形成液の塗布装置。
【請求項２】
前記配置パターンは、外周部に沿って配置される少なくとも１列分の液滴が前記膜形成領域の外側領域状に位置されてなることを特徴とする請求項１記載の配向膜形成液の塗布装置。
【請求項３】
前記制御装置は、前記設定された配置パターンのうち外周部に位置する第１のパターンを塗布し、その後、前記第１のパターン以外の第２のパターンを塗布するように前記移動装置と前記塗布ヘッドとを制御することを特徴とする請求項１または２記載の配向膜形成液の塗布装置。
【請求項４】
前記塗布ヘッドは、前記第１の方向に沿って複数配列されて設けられ、
これら複数の塗布ヘッドによって構成されるノズル列は、前記第２の方向に直交する方向の前記基板の幅全域に亘る長さを有し、
前記制御装置は、１回目の走査移動によって前記第１のパターンで前記配向膜形成液の液滴を塗布し、２回目の走査移動によって前記第２のパターンで前記配向膜形成液の液滴を塗布し、２回の走査移動によって前記基板の全ての前記膜形成領域に対して前記配向膜形成液の液滴の塗布を完了させるように、前記移動装置と前記塗布ヘッドとを制御することを特徴とする請求項３記載の配向膜形成液の塗布装置。
【請求項５】
基板に設けられた膜形成領域に配向膜形成液を塗布する配向膜形成液の塗布方法において、
前記基板の前記膜形成領域を当該膜形成領域以外の前記表面に対して高い親液性とし、
前記基板の表面に沿う第１の方向に沿って配列された複数のノズルを備えた塗布ヘッドと前記基板とを前記基板の表面に沿い前記第１の方向とは交差する第２の方向に沿って走査移動させながら、前記膜形成領域に対して設定された配置パターンで前記ノズルから前記配向膜形成液の液滴を吐出させ、前記膜形成領域に前記配向膜形成液の液滴を塗布することを特徴とする配向膜形成液の塗布方法。
【請求項６】
前記設定された配置パターンのうち外周部に位置する第１のパターンを塗布し、その後、前記第１のパターン以外の第２のパターンを塗布することを特徴とする請求項６記載の配向膜形成液の塗布方法。
【請求項１】
基板に設けられた膜形成領域に配向膜形成液を塗布する配向膜形成液の塗布装置において、
前記基板を載置するステージと、
このステージに載置された前記基板における前記膜形成領域が設けられた表面に沿う第１の方向に沿って配列された複数のノズルを備えた塗布ヘッドと、
前記ステージと前記塗布ヘッドとを前記表面に沿い前記第１の方向とは交差する第２の方向に沿って走査移動させる移動装置と、
前記膜形成領域が当該膜形成領域以外の前記表面に対して高い親液性とされた基板が前記ステージに載置されたとき、設定された配置パターンで前記配向膜形成液の液滴が前記膜形成領域に対して塗布されるように前記ノズルから前記配向膜形成液の液滴を吐出させるべく、前記移動装置と前記塗布ヘッドを制御する制御装置と
を備えることを特徴とする配向膜形成液の塗布装置。
【請求項２】
前記配置パターンは、外周部に沿って配置される少なくとも１列分の液滴が前記膜形成領域の外側領域状に位置されてなることを特徴とする請求項１記載の配向膜形成液の塗布装置。
【請求項３】
前記制御装置は、前記設定された配置パターンのうち外周部に位置する第１のパターンを塗布し、その後、前記第１のパターン以外の第２のパターンを塗布するように前記移動装置と前記塗布ヘッドとを制御することを特徴とする請求項１または２記載の配向膜形成液の塗布装置。
【請求項４】
前記塗布ヘッドは、前記第１の方向に沿って複数配列されて設けられ、
これら複数の塗布ヘッドによって構成されるノズル列は、前記第２の方向に直交する方向の前記基板の幅全域に亘る長さを有し、
前記制御装置は、１回目の走査移動によって前記第１のパターンで前記配向膜形成液の液滴を塗布し、２回目の走査移動によって前記第２のパターンで前記配向膜形成液の液滴を塗布し、２回の走査移動によって前記基板の全ての前記膜形成領域に対して前記配向膜形成液の液滴の塗布を完了させるように、前記移動装置と前記塗布ヘッドとを制御することを特徴とする請求項３記載の配向膜形成液の塗布装置。
【請求項５】
基板に設けられた膜形成領域に配向膜形成液を塗布する配向膜形成液の塗布方法において、
前記基板の前記膜形成領域を当該膜形成領域以外の前記表面に対して高い親液性とし、
前記基板の表面に沿う第１の方向に沿って配列された複数のノズルを備えた塗布ヘッドと前記基板とを前記基板の表面に沿い前記第１の方向とは交差する第２の方向に沿って走査移動させながら、前記膜形成領域に対して設定された配置パターンで前記ノズルから前記配向膜形成液の液滴を吐出させ、前記膜形成領域に前記配向膜形成液の液滴を塗布することを特徴とする配向膜形成液の塗布方法。
【請求項６】
前記設定された配置パターンのうち外周部に位置する第１のパターンを塗布し、その後、前記第１のパターン以外の第２のパターンを塗布することを特徴とする請求項６記載の配向膜形成液の塗布方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２０１２−１３３１３７（Ｐ２０１２−１３３１３７Ａ）
【公開日】平成２４年７月１２日（２０１２．７．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２８５３１８（Ｐ２０１０−２８５３１８）
【出願日】平成２２年１２月２２日（２０１０．１２．２２）
【出願人】（０００００２４２８）芝浦メカトロニクス株式会社 (907)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年７月１２日（２０１２．７．１２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１２月２２日（２０１０．１２．２２）
【出願人】（０００００２４２８）芝浦メカトロニクス株式会社 (907)
【Ｆターム（参考）】
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