【課題】
【解決手段】本発明は、フレキシブル基板；前記フレキシブル基板より狭い面積を有し、前記フレキシブル基板上に積層される平坦化層；前記平坦化層上に積層されるディスプレイ素子；および前記フレキシブル基板上に設けられ、前記平坦化層と前記ディスプレイ素子を共に覆う保護層を含むことを特徴とするフレキシブルディスプレイ装置およびその製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】強化された基板を含む電気光学装置、電子機器、および当該電気光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係る液晶表示装置１は、ガラス基板１１上に、ＴＦＴ素子７０、絶縁層６８、透明樹脂層６９を備える。また、ガラス基板２１上に、カラーフィルタ５０、オーバーコート５２を備える。ここで、絶縁層６８は、その中心部近傍に仮想された中央部６１における厚さの平均値が、当該中央部６１を除いた周辺部６２における厚さの平均値より大きくなっていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は基板の背面上に電導性物質が含まれているフォトレジストに構成された静電気防止用の導電性薄膜が形成されたカラーフィルター基板及びその製造方法に関する。
【解決手段】本発明に係るラーフィルター基板は、基板上に形成され画素領域を区画し、光漏れ現象を防ぐブラックマトリクス；前記ブラックマトリクスにより区画された画素領域に形成されたカラーフィルター；前記カラーフィルターにより形成された段差を除去し、基板の一側面を平坦化させるオーバーコーティング層；前記オーバーコーティング層上に形成され、液晶分子を所定方向に配向させる配向膜；及び前記基板の背面上に形成され、静電気の発生を防ぐ導電性薄膜を含み、前記導電性薄膜は電導性物質が含まれているフォトレジストに構成されたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 VA方式で駆動する液晶表示装置において、広視野角化を実現し、かつ、所望の電圧−輝度特性を得る。
【解決手段】 複数本のゲート線と複数本のドレイン線がマトリクス状に配置されており、かつ、隣接する２本のゲート線と隣接する２本のドレイン線で囲まれる画素領域に画素電極を有する第１の基板と、共通電極を有する第２の基板との間に、液晶材料が挟持されてなり、液晶材料は、画素電極と共通電極の電位差が零のときに、液晶分子が前記各基板面の垂直方向に配向している液晶表示パネルを有する液晶表示装置であって、前記第１の基板は、画素電極の、共通電極と対向する面側に、画素電極の全域と重畳する第１の絶縁層と、前記第１の絶縁層に埋設され、かつ、重畳面積が画素電極の面積よりも小さい第２の絶縁層とを有し、第１の絶縁層の誘電率と、第２の絶縁層の誘電率が異なる液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】配向方向制御用の突起部の製造工程を簡略化可能であると共に、色要素領域にお
いて均一な色要素を備えたカラーフィルタ基板、液晶表示装置および電子機器、カラーフ
ィルタ基板の製造方法および液晶表示装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】カラーフィルタ基板１０は、ガラス基板１上に複数の色要素領域２を区画す
る第１隔壁部４と、複数の色要素領域２のそれぞれをさらに複数の領域に分割する第２隔
壁部５と、複数の色要素領域２に形成された複数種の色要素３を備えた。第２隔壁部５は
、色要素３の表面よりも突出するように形成され、配向方向制御用の突起部の機能を有し
ている。液晶表示装置は、このカラーフィルタ基板１０を備えた。 （もっと読む）

【課題】金属膜の応力に起因したガラス基板の反りを緩和できるスパッタリング装置を提
供する。
【解決手段】基板上に、スパッタリング用ターゲットを用いて金属膜を形成するためのス
パッタリング装置において、バッファ部と、当該バッファ部の周囲に配置され、スパッタ
リングを行うためのスパッタリング処理部と、バッファ部の周囲に配置され、スパッタリ
ング処理部において金属膜が形成された基板を加熱処理することにより金属膜の応力を緩
和するための加熱処理部と、バッファ部を介して、スパッタリング処理部又は加熱処理部
へ基板を移送するための移送手段と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表示品位の良い液晶セルを提供する。
【解決手段】アレイ基板２の画素５内の画素電極６の高電圧領域6aを挟んだ両側に低電圧領域6bを配置して対称にする。対向基板31の対向電極34から画素電極６の高電圧領域6aおよび低電圧領域6bへの電圧の印加による液晶分子41の動きが、高電圧領域6aの中心を基準に対称になる。印加電圧が異なる高電圧領域6aと低電圧領域6bとの間での配向揺らぎが対称になる。画素５の液晶配向安定性を向上できる。液晶層42中の液晶分子41の印加電圧の高低に基づく配向揺らぎによる表示むらや表示不良を回避できる。 （もっと読む）

【課題】非表示状態において不要な表示光が生じるのを防止することができる表示装置の提供。
【解決手段】 回折光学素子９は、一対のガラス基板２０，２１の間に、屈折率型回折格子が形成された回折表示部２４Ｂを有する液晶部材２４を挟持したものである。ガラス基板２０，２１の対向面には標識用電極パターン３１ａがそれぞれ形成され、ガラス基板２０，２１上の標識用電極パターン３１ａの周囲の領域には絶縁層３３が形成される。さらに、その絶縁層３３の上に周辺電極パターン３４が形成される。その結果、標識用電極パターン３１ａの縁と絶縁層３３上に形成された周辺電極パターン３４の縁とが、ガラス基板２０，２１の鉛直方向から見て接するように、電極パターン３１ａ、３４を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】 着色層の膜厚の均一性に優れたカラーフィルタ基板、及び、それを備える表示装置を提供する。
【解決手段】 支持基板上に二次元配列された着色層を有するカラーフィルタ基板であって、上記着色層は、厚膜部と、その外縁に設けられたテーパ形状部とを含み、上記テーパ形状部は、隣り合う他の着色層と重なり合う側辺部と、隅部とを含み、上記隅部は、少なくとも１つが面取りされ、他の着色層との重なり合いの数が０又は１であるカラーフィルタ基板。 （もっと読む）

【課題】本発明は、液晶表示装置及びその製造方法に関する。
【解決手段】本発明に係る液晶表示装置は、第一基板と、前記第一基板と対向する第二基板と、前記第一基板と前記第二基板との間に設置される液晶層と、それぞれ前記第一基板の裏側表面及び前記第二基板の裏側表面に形成され、複数のカーボンナノチューブを整列してなる第一カーボンナノチューブ膜及び第二カーボンナノチューブ膜と、を含む。本発明は前記液晶表示装置の製造方法も提供される。 （もっと読む）

【課題】突起Ｍｖが設けられたカラーフィルタにおいて、その透過率を向上させた、また、高さの異なる突起でも、工程を増やさず製造できる液晶表示装置用カラーフィルタ、製造方法、液晶表示装置を提供する。
【解決手段】透明層４６は、着色画素４２上に設けた透明感光性樹脂層への濃度分布マスクＰＭ１を介した露光、現像処理によって形成された突起と平坦部４５からなり、透明導電膜４３は透明層の上面の全面に設けた透明導電膜へのフォトエッチングによって突起上の部分は除去されている。透明層の透過率が、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの全範囲において９０％以上である。突起の高さが、０．０１μｍ〜５．０μｍである。 （もっと読む）

【課題】 感度が高く、液晶表示素子作製や光学異方体作製時の高温、あるいはシール部材に使用されている接着剤または光学異方体作製に用いられる重合性液晶や配向膜材料の希釈溶媒などに曝されても配向規制力が低下しない光配向膜、及びそれを使用した光学異方体、光学素子を提供することにある。
【解決手段】 二色性化合物、及び、アミノ樹脂を含有する光配向膜用組成物、該光配向膜用組成物を基板上に塗布した後、該塗膜に異方性を有する光を照射した後、加熱する光配向膜の製造方法、及び、該光配向膜用組成物を使用した光配向膜上に、重合性液晶組成物を塗布し、配向させた状態で重合させて得られる光学異方体。 （もっと読む）

【課題】
導電層の損傷を防ぐことができるを配線基板とその製造方法並びに表示装置を提供すること。
【解決手段】
本発明の一態様にかかる配線基板は、ガラス基板１０と、ガラス基板１０上に設けられた庇状のソース配線と、ソース配線２を覆うように設けられた層間絶縁膜８と、層間絶縁膜８の上に設けられ、ソース配線２の庇状の箇所の上に配置された画素電極６と、前記第１の導電層の庇状の部分に対応する箇所に設けられたテーパー状の塗布絶縁膜２１とを備えるものである。 （もっと読む）

【課題】１種の感光性樹脂を用い、フォトリソグラフィ法の１工程で配向制御突起Ｍｖ及び２種のフォトスペーサーＰｓ−１、２を同時に簡便に形成する液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】ブラックマトリックス、着色画素、透明電導膜が形成された透明基板４０上に、感光性樹脂層６０を形成し、配向制御突起、第一フォトスペーサー、第二フォトスペーサーに対応したパターンが形成されたフォトマスクＰＭを介して露光を行う際に、充分なギャップＧを設けた近接露光を行い、配向制御突起、第一フォトスペーサー、及び第二フォトスペーサーを同時に形成すること。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置の色視野角特性を改善するのに寄与するＴＦＴ駆動素子を有する液晶セル用基板の簡便な製造方法の提供。
【解決手段】層間絶縁層及び一軸性もしくは二軸性の光学異方性層を転写材料を用いて設ける工程を含む、該層間絶縁層と該光学異方性層とＴＦＴ駆動素子とを有する液晶セル用基板の製造方法、および、下記の［１］〜［４］の工程をこの順に含む該製造方法：
［１］仮支持体上に感光性樹脂層と光学異方性層とを有する転写材料をＴＦＴ基板に転写する工程；
［２］前記ＴＦＴ基板上の転写材料から仮支持体を剥離する工程
［３］前記ＴＦＴ基板上の転写材料を露光する工程；
［４］前記ＴＦＴ基板上の、不要な感光性樹脂層と光学異方性層を現像により除去する工程。 （もっと読む）

【課題】 ラビングすじの発生を抑えた導電パターンを備えた液晶装置、液晶装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 所定方向からラビング処理が施してある基板における、配向膜が形成されていない領域に存在する導電パターンを、導電パターンの延在方向に対して直交する面で切断した断面形状が、基板と対向している下辺と、下辺と対向している上辺と、上辺の一方の端部に交差する第１の側辺と、上辺の他方の端部と下辺の一方の端部とに交差する第２の側辺と、下辺の他方の端部と第１の側辺とに交差する第３の側辺とを含む所定形状であるとともに、第１の側辺は所定方向に対向する側に位置しており、下辺の延長線と第１の側辺の延長線とのなす角度（θ１）が、下辺と第２の側辺とのなす角度（θ２）よりも小さく、下辺と第３の側辺とのなす角度（θ３）が下辺の延長線と第１の側辺の延長線とのなす角度（θ１）よりも大きくしてある。 （もっと読む）

【課題】平坦化膜の均一化を図ることで、液晶装置の表示ムラを防止した電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器を提供する。
【解決手段】本発明の電気光学装置は、本発明は、一対の基板１０，４４のいずれか一方の電気光学物質側に、複数の画素の各々に対応して設けられた複数の着色層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂ’と、着色層１２Ｂ’の外側に設けられた遮光部１４ａと、遮光部１４ａ上に設けられた突起部２６と、突起部２６を含む遮光部１４及び複数の着色層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂ’上に設けられた平坦化膜１６とを備える。 （もっと読む）

本発明は、基板における構造表面の製造方法であって、基板が、振動する状態にしたゾルに導入、特には浸漬されるか、または振動を設定されている基板が、随意に振動する状態にした、ゾルに導入、特には浸漬する、前記方法に関する。本発明は同様に、このように構造化された基板および光学的応用におけるこれらの使用に関する。 （もっと読む）

【課題】
酸化クロム膜を有する遮光膜を用いた場合であっても、良好なエッチングプロファイルを有する遮光膜付き基板、カラーフィルタ基板及び表示装置とそれらの製造方法を提供すること。
【解決手段】
本発明の一態様にかかる遮光膜付き基板は、基板１上に形成された遮光膜１０のパターンを有する遮光膜付き基板であって、遮光膜１０が、クロム酸化物を有する第１の膜２と、クロムを有し、第１の膜２の上に設けられた第２の膜３とを備え、遮光膜１０の断面形状が順テーパー形状を有しているものである。遮光膜１０のエッチングは、硝酸第２セリウムアンモニウムに少なくとも硝酸を２．５モル／リットル以上の濃度で含む薬液を用いて行なうことができる。 （もっと読む）

【課題】 乾燥過程において、液状体の種類に応じて、塗布された液状体の溶媒の蒸発速度を最適化可能で、溶媒の蒸気圧の分布が塗布された面内においてほぼ均一な状態で減圧乾燥を行うことができる減圧乾燥方法、この減圧乾燥方法を用いた機能膜の製造方法および電気光学装置の製造方法、電気光学装置、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、並びに電子機器を提供すること。
【解決手段】 本発明の減圧乾燥方法は、第１室に液状体が塗布された基材を収容した状態で、第１室と第２室とを連通させて、所定の操作圧Ｐｓまで減圧手段により減圧する減圧工程と、所定の操作圧Ｐｓに到達した段階で第１室を密閉し、溶媒が蒸発して第１室が所定の圧力に上昇するまで放置する放置工程と、所定の圧力に上昇した第１室と第２室とを連通する連通工程と、第１室と第２室とに拡散した溶媒の蒸気を減圧手段により排出する排出工程とを備えた。 （もっと読む）