【課題】半導体製造に使われているいわゆるフォトファブリケーション方法を用いても、製造した光学素子を光が透過し、かつチャッキングによる傷も発生しない、光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】光透過性基板（透明基板１）上に薄膜を形成した後、薄膜上にフォトレジストを塗布した後、フォトマスクを介してフォトレジストの露光・現像を行って、フォトレジストパターンを形成し、薄膜パターンを形成する光学素子の製造方法において、薄膜を形成する前に光透過性基板上に赤外光反射層２を形成する工程と、赤外光反射層２と反対側の光透過性基板に露光光の反射と裏面光透過を防止する遮光反射防止層（遮光反射防止層２）を形成する工程と、からなり、反射防止層の厚さを０．０１〜１μｍとする。 （もっと読む）

【課題】 パネルの反りを防止して、表示性能の低下を抑えた画像表示装置を提供すること。
【解決手段】 ガラスまたは樹脂からなる基板、基板の表側（視認側）に設けられた積層体、および基板の裏側に設けられた積層体を有する画像表示装置において、裏側の各層の弾性率とその断面積を掛け合わせた値の総和を表側よりも大きくする。 （もっと読む）

【課題】 高い接着強度と短い接着時間で基板を接着する基板接着装置と基板接着方法を提供する。
【解決手段】 第１の基板の第１の主面と、第２の基板の第１の主面をそれぞれ洗浄する第１の工程と、前記第１の主面及び第２の主面の少なくともいずれかにシリコンを含有する樹脂を塗布する第２の工程と、前記樹脂にプラズマを照射する第３の工程と、前記第１の基板の第１の主面と前記第２の基板の第１の主面とを対向させ前記第１及び第２の基板を圧着する第４の工程と、を備えたことを特徴とする基板接着方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 ディスプレイ用基板としての基本特性である絶縁性・平滑性・低熱膨張性に加え、耐衝撃性・フレキシブル性・薄型・軽量・反射性を兼備した反射型ディスプレイ、半透過型ディスプレイ、自発光型ディスプレイと照明用デバイス等の高輝度化或いは太陽電池等の光を利用する電池用基板の高効率化に有効な反射基板を提供する。
【解決手段】 最下層側から最表面側に向かって、３０〜３００℃までの熱膨張係数が１２×１０^−６／℃以下の特性を有する金属薄板と、金属反射層と、樹脂平坦化層の順に少なくとも３層を具備する反射基板であって、該反射基板は波長：４００ｎｍ〜７００ｎｍの光の反射率が７０％以上であり、且つ最表面の表面粗さは、Ｒａ：０．２μｍ以下、Ｒｙ：１．５μｍ以下である反射基板である。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、均一な膜厚の無機酸化物膜を容易かつ安価に形成し得る成膜方法、かかる成膜方法により形成された無機酸化物膜を備える電子デバイス用基板、信頼性の高い電子デバイスおよび電子機器を提供すること。
【解決手段】本発明の成膜方法は、基板（基材）２上に、無機酸化物を主材料として構成される無機酸化物膜６を形成する成膜方法であり、無機酸化物膜６を形成する膜形成領域３１に無機粒子４を付着させる第１の工程と、基板２を加熱しつつ、この基材２に無機酸化物の前駆体を含有する液状材料をミスト５として供給し、この前駆体を熱により反応させて無機酸化物に変化させ、無機粒子４を核としてこの無機酸化物を膜形成領域３１上に集積して、無機酸化物膜６を成長させる第２の工程とを有するものである。 （もっと読む）

【課題】 品質低下を招くことなく均一で高品質の膜を形成する。
【解決手段】 液状体を吐出して、基板２０上のシール部Ｓに囲まれた膜形成領域Ａに膜を形成する。膜形成領域Ａの面積に対して１．３倍以上の面積で、且つシール部Ｓよりも内側に前記液状体を塗布する。 （もっと読む）

【課題】 ガラス板とこのガラス板の表面膜との間に内包された空隙に簡易に樹脂を充填する方法、この方法を使用して内包空隙が充填されたフラットパネルディスプレイ用ガラス基板、及び、このガラス基板を使用して製造されたフラットパネルディスプレイの提供。
【解決手段】 ガラス板表面膜に先端針状の充填器先端を刺し込んだ後、この充填器先端から硬化性樹脂を吐出させてガラス板表面膜下の内包空隙に硬化性樹脂を充填し、刺し込んだ充填器先端を抜き去った後、充填した樹脂を硬化することによってガラス板表面膜下の内包空隙の充填が行なわれる。この充填方法は、偏光板等の表面膜を積層しているフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の内包空隙の充填に好適に使用され、内包空隙が充填されたフラットパネルディスプレイ用ガラス基板は、フラットパネルディスプレイの製造に使用される。 （もっと読む）

【課題】 基材に反りが生じるのを防ぐことができる透明電極用基板、その製造方法および装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 基材１１の一方の面１１ａに透明導電膜１２が設けられた透明電極用基板１０を、スプレー熱分解法により製造するにあたって、他方の面１１ｂに溝１３が形成された基材１１を用い、他方の面１１ｂから基材１１を加熱しつつ、一方の面１１ａに、原料溶液をスプレー状に噴射することによって透明導電膜１２を形成する。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の熱処理（成膜、結晶成長、酸化等で、特にガラス基板の歪み点付近もしくはそれ以上の温度でおこなわれる場合）工程において、良好な基板処理手段・方法を提供する。また、発熱する素子が形成されても良好な放熱性を有するガラス基板を提供する。
【解決手段】ガラス基板の表面に窒化アルミニウム膜を形成する。この窒化アルミニウム膜は、ヒートシンクとして機能し、ガラス基板表面に形成される素子（例えばＴＦＴ）から発生られる熱が局所的に集中しないように機能する。 （もっと読む）

【課題】 薄型化を図る研磨工程中に基板表面に残ったディンプルを補修することにより、高品質の表示パネルを製造する表示パネルの製造方法及びこの表示パネルを用いた表示装置を提供すること。
【解決手段】 以下の工程を含む表示パネルの製造方法。
１個又は複数個の表示領域が形成された一対の透明材料からなる基板間をシール材を介して貼り合わせる基板貼り合わせ工程（Ｓ２）、貼り合わされた接合基板が所定の厚さとなるように前記基板の外表面を研磨する研磨工程（Ｓ５）、研磨終了後に前記接合基板の外表面に残るディンプルの有無を検出する検査工程（Ｓ６）、前記検査工程でディンプルが発見された場合に、前記接合基板の外表面に透明な樹脂材を塗布してディンプルを埋める樹脂塗布工程（Ｓ７）、前記樹脂材を硬化させ、その樹脂表面を研磨等して前記基板表面を平坦化する平坦化工程（Ｓ８）。 （もっと読む）

【課題】 各層の屈折率もしくは厚みの最適化を図ることにより、黒表示での反射率をほとんど上げることなく、白表示での反射率のみを高くし、従来に比べてコントラスト比を高めることができるようにする。
【解決手段】 背面側基板１０は、その屈折率が、液晶分子３３の屈折率ｎｏよりも低くなっている。一方、表示側基板２０は、その屈折率が、液晶分子３３の屈折率ｎｏと同じか、もしくは高くなっている。より望ましくは、表示側基板２０の屈折率が、散乱状態（白表示状態）における液晶層３０全体の平均的な屈折率ｎ_LCと同じか、もしくは高くなっていると良い。このように屈折率を最適化することで、黒表示での反射率をほとんど上げることなく、白表示での反射率のみを高くし、従来に比べてコントラスト比を高めることができる （もっと読む）

【課題】配向膜の表面を平坦化させることにより、ラビング不良を無くし、高画質化を図る。
【解決手段】 アクティブマトリクス基板に電気光学物質を介して対向配置される対向基板２０と、前記対向基板上にパターン形成される遮光膜７２と、透光性を有し、前記遮光膜による前記対向基板表面の段差を緩和するために前記遮光膜及び対向基板上に形成される平坦化膜７３と、前記平坦化膜上に形成される対向電極２１と、前記対向電極上に形成される配向膜２２とを具備したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】反射型液晶表示装置に用いられ、可視光を極めて効率よく反射する層を有する多層基板、および、その多層基板を用いた反射型液晶表示装置を、比較的簡便かつ低コストで提供する。
【解決手段】少なくとも、支持基板と、該支持基板の表面に形成されたフォトニック結晶と、該フォトニック結晶の表面に形成され半導体素子が作製される素子形成層と、を有する多層基板であって、前記フォトニック結晶は、可視光に対して屈折率の異なる２種以上の層を周期的に配列した周期構造体であり、かつ、該周期構造体は、前記可視光に対して一次元フォトニック結晶となるように、その1周期の層厚が調整されてなることを特徴とする多層基板。 （もっと読む）

【課題】本発明は、液晶表示装置に係り、特に工程数を減らし、かつ開口率を向上させることができる液晶表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による液晶表示装置は、第１基板１７０及び第２基板１９０、前記第１基板上１７０のゲートライン１０２、前記ゲートライン１０２と交差して画素領域を規定するデータライン１０４、前記ゲートライン１０２と前記データライン１０４との交差部に隣接し、ゲート電極１０６、ソース電極及びドレイン電極１１０を備えた薄膜トランジスタ、前記画素領域に形成され、金属層が透明導電層上に形成される二重層構造を有した画素電極１２２、前記第２基板１９０上に形成され、前記画素電極１２２及びドレイン電極１１０と部分的に重なる開口部を有したブラックマトリックス１８０、及び前記第１基板１７０と前記第２基板１９０との間の液晶層を備える。 （もっと読む）

【課題】高速動作が可能であり、小型化が可能な薄膜トランジスタを提供する。
【解決手段】薄膜トランジスタは、透明なサファイア基板１０と、サファイア基板１０の所定領域を覆うＳｉ０₂膜と、Ｓｉ０₂膜上に形成されており、ソース領域２０ａ１、ドレイン領域２０ａ３及びチャンネル領域２０ａ２を備える単結晶シリコン層２０ａと、
単結晶シリコン層２０ａのチャンネル領域２０ａ２上に順次積層されたゲート絶縁膜２６及びゲート電極２８と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】薄膜等が形成されていないにも関わらず、高い透過率を有するディスプレイ基板を提供する。
【解決手段】無アルカリガラスからなるディスプレイ基板であって、波長４００ｎｍにおいて、基板の両表面をそれぞれ３０μｍ除去したとき（基板肉厚が０．１ｍｍ以上の場合）、或いはそれぞれ肉厚の１／３除去したとき（基板肉厚が０．１ｍｍ未満の場合）の透過率と、除去前の透過率との差△Ｔ₄₀₀が、０．５〜５．０％の範囲にあることを特徴とする。また本発明のディスプレイ基板は、内部とは組成の異なる異質層を表面に有している。異質層は、厚みが１０ｎｍ〜３０μｍであり、またＳｉＯ₂含有量が、基板内部のそれよりも高いことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】
凹凸を有する塗布膜を備えた電気光学装置用基板製造方法、電気光学装置の製造方法、
及び電気光学装置用基板製造装置を提供すること。
【解決手段】
電気光学装置用基板の製造方法であって、前記電気光学装置用基板上に粘度が１０ｍＰ
ａ・ｓ以上５０ｍＰａ・ｓ以下の塗布材料を塗布して塗布膜を成膜する工程（Ｓ２）と、
前記塗布工程後、前記塗布膜に対し振動波長が６μｍ以上１５μｍ以下となる振動を与え
る工程（Ｓ３）と、前記振動工程後、又は前記振動工程と同時に前記塗布膜を乾燥する工
程（Ｓ４）とを具備する。これにより、例えばフォトリソグラフィ法のような露光工程、
現像工程といった工程を経ることなく、凹凸を有する塗布膜を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】
より効率的に平坦な塗布膜を基板上に形成可能な電気光学装置用基板の製造方法及び該電気光学装置用基板を備えた電気光学装置の製造装置を提供する。
【解決手段】
反射膜９が形成された基板７上に、反射膜９に積層するようにカラーレジスト１０ｒを塗布し（Ｓ２）、反射膜９に積層するカラーレジスト１０ｒに選択的に光エネルギーを供給することとしたので（Ｓ３）、反射膜９に積層したカラーレジスト１０ｒの凸状部分を軟化させることができ、減圧乾燥処理前にカラーレジスト１０ｒの表面１０ａを平坦化し、表面１０ａが平坦化された着色層１０Ｒ等を基板７上に形成することが可能である。従って、着色層１０Ｒ等を透過する光の色むらを防止して表示性能を向上させることができる。また、例えばカラーレジスト１０ｒの凸状部分にのみエネルギーを供給するので、エネルギー効率に優れた液晶パネル１７の製造装置１とすることが可能である。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、フォトレジストを用いて配向制御用突起を設けたＭＶＡ−ＬＣＤを長時間にわたり電圧を印加した状態においても残像が発生することのない配向制御用突起を有する基板を提供することを目的とする。
【解決手段】
少なくとも配向制御用突起をを有する基板において、該配向制御用突起が、フェノール性水酸基を有する樹脂の一部が少なくとも芳香族アジドを含む樹脂からなるネガ型フォトレジスト組成物を用いて形成したことを特徴とする配向制御用突起を有する基板とすることで解決した。 （もっと読む）

【課題】 表示パネル１を構成するガラス基板２に非接触電子タグを低コストで組み込む。
【解決手段】 本発明に係る表示パネル１では、ガラス基板２上に、液晶表示部４が形成されている。さらに、このガラス基板２上には、液晶表示部４に加えて、ＩＣ回路８およびアンテナ６からなる非接触電子タグが、半導体製造技術によって直接的に形成されている。したがって、表示パネル１を備えている液晶表示装置に、製造済みの非接触タグを別途取り付ける必要がないため、製造コストを低減することができる。また、アンテナ６は、液晶表示部４の外周に形成されている。したがって、アンテナ６のサイズが液晶表示部４の外周程度になることから無線信号に対する感度が大きくなり、リーダ／ライタを液晶表示部４に近接させることなく、ＩＣ回路８に記録されている情報の読み取りが可能である。 （もっと読む）