【課題】表面に支圧応力層パターンを具えたガラス基板を提供する。
【解決手段】ガラス基板の少なくとも一つの表面に支圧応力層パターンＦが設けられ、該パターンＦは該表面において、異なる支圧応力を具えた複数の局部領域を画定し、それは若干の高圧応力領域１２と低圧応力領域１３を包含し、低圧応力領域１３によりこれら高圧応力領域１２相互間が隔離設置される。該ガラス基板の高圧応力領域１２はガラスの抵抗性を増し、破裂とスクラッチ防止の機能を向上し、低圧応力領域１３は加工性を保持し、ガラス基板を切削、分割或いは研磨などの加工に便利なものとする。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の表面に支圧応力層パターンを形成する方法及び該方法で製造されたガラス基板を提供する。
【解決手段】ガラス基板１にマスク２を設けて化学イオン強化処理を実施することにより、ガラス基板１の少なくとも一つの表面に支圧応力層パターンが設けられ、該パターンは該表面において、異なる支圧応力を備えた複数の局部領域を画定し、それは若干の高支圧応力領域と低支圧応力領域を包含し、低支圧応力領域によりこれら高支圧応力領域相互間が隔離設置される。該ガラス基板１の高支圧応力領域はガラスの抵抗性を増し、破裂とスクラッチ防止の機能を向上し、低支圧応力領域は加工性を保持し、ガラス基板１を切削、分割或いは研磨などの加工に便利なものとする。 （もっと読む）

【課題】従来の要求特性を満たすと共に、エッチングにより複数の強化ガラス片に分断し易い強化ガラスを提供する。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ_２４５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３３〜１５％、Ｌｉ_２Ｏ０〜１２％、Ｎａ_２Ｏ０．３〜２０％、Ｋ_２Ｏ０〜１０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ１〜１５％を含有し、モル比（Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｐ_２Ｏ_５）／ＳｉＯ_２が０．１〜１、モル比（Ｂ_２Ｏ_３＋Ｎａ_２Ｏ）／ＳｉＯ_２が０．１〜１、モル比Ｐ_２Ｏ_５／ＳｉＯ_２が０〜１、モル比Ａｌ_２Ｏ_３／ＳｉＯ_２が０．０１〜１、モル比Ｎａ_２Ｏ／Ａｌ_２Ｏ_３が０．１〜５であると共に、強化処理後にエッチングにより切断され、表面又は端面はエッチングされてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】自発的に破壊しにくいフラットパネルディスプレイ用カバーガラスの提供。
【解決手段】フュージョン法により得られたガラスを化学強化して得られるフラットパネルディスプレイ用カバーガラスであって、化学強化前のガラスにおける粒子径が４０μｍ以上の欠点を含まず、内部引張り応力が３０ＭＰａ以上、且つ厚さが１．５ｍｍ以下であるフラットパネルディスプレイ用カバーガラス。 （もっと読む）

【課題】ガラス表面の強度を十分に強化することができ、しかも高い製造効率で安定した品位の強化板ガラスを製造するための強化板ガラスの製造方法とこの製造方法によって得られる強化板ガラスを提供する。
【解決手段】強化板ガラス１０は、無機酸化物ガラスからなり、板厚保方向に対向する板表面１１、１２に化学強化による圧縮応力層を有している。板端面１３、１４、１５、１６は、圧縮応力が形成されている領域と圧縮応力が形成されていない領域とを有している。該板端面が、レーザー切断によって形成された面を有する。 （もっと読む）

【課題】搬送時のたわみや加熱処理による熱反りを抑制したディスプレイ用ガラス基板を提供する。
【解決手段】短辺が３００ｍｍ以上の矩形で、かつ板厚が０．３ｍｍ以上、６ｍｍ以下であって、残留歪による、板厚方向で測定した基板面内の偏差応力が、基板の周囲に沿って圧縮方向で分布し、各辺の近傍で辺と平行方向での偏差圧縮応力の最大値が０．３ＭＰａ以上のディスプレイ用ガラス基板。 （もっと読む）

【課題】屈曲性、可撓性、耐衝撃性および外観に優れる透明基板の製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板の製造方法は、溶剤透過性を有する支持基材１０上に熱可塑性樹脂（Ａ）組成物溶液を塗布して、塗布層２０を形成する工程Ａと、無機ガラスの少なくとも一方の面と該塗布層２０とを、接着剤組成物４０を介して貼り合わせて、積層体を形成する工程Ｂと、該積層体に第１の熱処理を施し、該塗布層中の残存溶剤量を所定量まで減少させる工程Ｃと、該積層体から該支持基材を剥離した後、第２の熱処理を行い、該塗布層を乾燥して、熱可塑性樹脂層２１を形成する工程Ｄとを含む。 （もっと読む）

【課題】樹脂フィルム上に形成した薄膜トランジスタにクラックが発生し難い薄膜トランジスタ基板並びにそれを備えた表示装置及び電磁波センサを提供する。
【解決手段】薄膜トランジスタ基板１００は、樹脂フィルム１０と、前記樹脂フィルム上に設けられており、圧縮応力性の層１２Ａ，１２Ｂと引張応力性の層１４とが少なくとも３層交互に積層され、最下層及び最上層が前記圧縮応力性の層である積層構造を有するバッファ層１６と、前記バッファ層上に設けられている薄膜トランジスタ２１と、を含む。 （もっと読む）

【課題】樹脂基板等と無機膜との間に、適切な応力緩和膜を形成することにより、樹脂基板等に対して前記無機膜が剥がれ難くした画像表示装置の提供。
【解決手段】薄膜トランジスタが形成されている樹脂基板あるいは樹脂層を有する画像表示装置であって、
前記樹脂基板あるいは樹脂層の前記薄膜トランジスタが形成されている側の面に、第１無機膜および第２無機膜が順次積層されて形成され、
前記第２無機膜は第１の方向に応力を有するのに対し、前記第１無機膜は前記第１の方向と反対の方向に応力を有するように形成され、
前記第１無機膜の応力をσ1、前記第２無機膜の応力をσ2、前記第１無機膜の膜厚をt1、前記第２無機膜の膜厚をt2とした場合、
σtotal = σ1・t1 / (t1 + t2) + σ2・t2 / (t1 + t2) …… （１）
-２00 MPa ≦ σtotal ≦ 0MPa …… （２）
上式（１）、（２）の関係を有する。 （もっと読む）

【課題】樹脂基板あるいは樹脂層上に無機膜を形成する場合において、前記無機膜にクラックあるいはしわの発生を回避させ、これによりＴＦＴ回路層を信頼性よく形成できる画像表示装置の製造方法の提供。
【解決手段】樹脂基板あるいは樹脂層の上面にＴＦＴ回路層が形成されている画像表示装置の製造方法にあって、
前記樹脂基板あるいは前記樹脂層の前記ＴＦＴ回路層が形成される面に無機膜を形成する工程を備え、
前記無機膜は、室温から前記樹脂基板あるいは樹脂層のガラス転移点（Ｔｇ）以下の温度で形成し、
前記ＴＦＴ回路層は、前記樹脂基板のガラス転移点（Ｔｇ）以上の温度で形成する。 （もっと読む）

【課題】プラスチック基板を用いたフレキシブル表示装置を実現する。
【解決手段】半導体層、ゲート絶縁膜１０４、ゲート電極、層間絶縁膜１０６、ドレイン電極、ソース電極、無機パッシベーション膜１０９、有機パッシベーション膜１１０を含むＴＦＴ層をガラス基板上に形成し、ＴＦＴ層およびエッチング停止層１０１を、接着材１１を介してプラスチック基板１０上に転写する。ＴＦＴ基板の周辺における微小クラックによってＴＦＴ基板自体が破壊することを防止するために、第１補強金属層１２１、および、第２補強金属層１２２をＴＦＴ基板周辺に所定の幅ｗおよび膜厚で形成する。 （もっと読む）

【課題】薄型化、軽量化が可能で、機械的強度や透明性が高く、しかも短時間で製造可能な携帯型液晶ディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いたディスプレイを提供する。
【解決手段】ＳｉＯ₂を４０〜７０重量％、Ａｌ₂Ｏ₃を０．１〜２０重量％、Ｎａ₂Ｏを３〜２０重量％含有し、Ｌｉ₂Ｏを含有しないガラス材料で形成されたガラス基板の表面に化学強化処理により深さ５０μｍ以上の圧縮応力層を形成する。 （もっと読む）

【課題】例えば、半導体装置用基板の製造プロセス中に生じ得る基板の収縮を抑制し、形
成されるべきパターン部等の位置ずれを一因として生じる不具合を低減でき、且つ製造コ
ストの増大及び生産性の低下を抑制する。
【解決手段】シリコン酸化膜形成工程では、ガラス基板（２１０）上に、ＣＶＤ法等の汎
用の成膜法を用いてシリコン酸化膜（２４１ａ）を形成する。この際、シリコン酸化膜中
（２４１ａ）の圧縮応力が１７０ＭＰａ以上になるように、シリコン酸化膜（２４１ａ）
の成膜条件を調整する。次に、アニール処理工程では、ガラス基板（２１０）の歪み点温
度以下であり、且つ、ガラス基板（２１０）上に形成されるべき半導体層の活性化温度以
上の温度であるアニール温度に処理温度が設定された温度条件下で、シリコン酸化膜（２
４１ａ）にアニール処理を施す。本実施形態では、ガラス基板（２１０）の基板の歪み点
温度は、約５００℃である。 （もっと読む）

【課題】湾曲液晶パネルにおいて、配向処理に伴う画質劣化を改善することができる配向処理装置を提供すること。
【解決手段】本発明の一態様に係る配向処理方法は、液晶パネル用基板１上に配向膜７を形成する工程と、液晶パネル用基板１を湾曲状態とした際に、配向膜７のラビング密度が略均一になるように、配向膜７にラビング処理を行う工程とを含む。ラビング処理では、伸曲面となる部分のほうが縮曲面となる部分よりもラビング密度が高くなるようにラビング条件を変更する。 （もっと読む）

【課題】基板の薄型化と強度向上とを両立することのできる、液晶表示装置の製造方法を
提供する。
【解決手段】第１基板１０第２基板２０との間に液晶層を挟持する液晶表示装置の製造方
法である。複数の第１基板１０を含む第１母材基板１と、複数の第２基板２０を含む第２
母材基板２と、を貼り合せる。貼り合わせた第１母材基板１及び第２母材基板２の表面を
薄型加工する。第１母材基板１、及び第２母材基板２のエッチング処理面に、薄膜応力×
膜厚が５０Ｐａ・ｍ以上となる圧縮応力を有する保護膜１５をそれぞれ形成する。そして
、保護膜１５が形成された第１母材基板１、及び第２母材基板２をスクライブして、第１
基板１０及び第２基板２０における貼り合わせ構造を有する液晶パネル毎に個片化する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、液晶パネルに帯電防止機能を付加するとともに曲げ強度を向上させることができる液晶パネルとその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明による液晶パネルは、２枚のガラス基板１、２１が貼り合わされて形成されたフレキシブル性を有する液晶パネル５４において、少なくとも一方のガラス基板１、２１の外側主面と、ガラス基板１、２１の端部および側面６４とに透明導電性膜６５を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】薄肉ガラス基板に好都合の簡単な工程により少ない工数で製造できる強化ガラス板とそれを用いた液晶表示パネルを提供する。
【解決手段】液晶表示セル２における液晶を挟持するための一対のガラス基板２１、２２の液晶挟持側とは反対側の各外面に、弾性材料からなる偏光シート１、１をそれぞれ所定の張力を加えて引っ張り、その張力の方向をガラス基板２１、２２の長手方向に一致させて貼着し、各ガラス基板２１、２２に圧縮応力α１、α２を発生させ、これら圧縮応力α１、α２により、曲げ荷重Ｆが加わった際に各ガラス基板２１、２２に生じる引っ張り応力β１、β２を相殺させ、曲げ荷重Ｆによるガラス基板２１、２２の破壊を防止する。 （もっと読む）

【課題】常温において液晶表示パネルに反りが生じていても、該液晶表示装置の動作時の温度で該反りの矯正を行わせ、これによって該液晶表示パネルの表示むらを減少させた液晶表示装置の提供。
【解決手段】第１の基板と、第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に挟持された液晶層とを有する液晶表示パネルと、
前記液晶表示パネルの背面に配置されたバックライトとを有する液晶表示装置であって、
前記液晶表示パネルは、常温で第１の方向に凸になるように反っており、
前記液晶表示パネルは、前記第１の基板または前記第２の基板の前記液晶層とは反対側に、第１の板状体と、前記第１の板状体に貼り合わされた第２の板状体とを有し、
前記第１の板状体の熱膨張率と、前記第２の板状体の熱膨張率とが、前記常温よりも温度が上がったときに、前記第１の板状体と前記第２の板状体との組み合わせにより、前記第１の方向とは反対側の第２の方向に凸になるように反るような熱膨張率にそれぞれ設定されている。 （もっと読む）

【課題】平板状の基板の反りの問題を有効に解決した新規な膜積層基板を実現する。
【解決手段】平板状の基板１００の少なくとも片面にＮ（≧２）層の薄膜１２１ａ、１２１ｂを積層形成してなる膜積層基板であって、片面に積層形成されるＮ層の薄膜全体として、膜面方向の応力が相殺され、基板に反りを生じさせる応力が作用しないようにＮ層の薄膜の材料と膜厚が設定されている。 （もっと読む）

【課題】連続した大面積のプラスチック基板上に、剥離不良を生じることなく凹凸形状を均一に形成する表示素子の製造方法を提供する。
【解決手段】プラスチック基板（１）に前処理を施す工程、前記プラスチック基板（１）の表面に、支持フィルム（２）、表面に多数の微細な凹凸を有する下塗り層（３）及び反射下地層（４）が順次積層されてなる転写フィルム（８）をラミネートする工程、上記転写フィルム（８）側から活性エネルギー線（７）を照射する工程、上記支持フィルム（２）と共に上記下塗り層（３）を剥離する工程、上記プラスチック基板（１）上の上記反射下地層（４）を加熱する工程を含む、表示素子の製造方法。 （もっと読む）