【課題】良好な表面平坦性を有した、発光輝度が高いディスプレイを提供可能な透明導電膜付きフィルム、これを用いたディスプレイ用基板、ディスプレイ、液晶表示装置及び有機ＥＬ素子の提供。
【解決手段】透明基材と透明導電性膜とからなり、前記透明導電性膜が平均粒子径０．１〜１μｍの結晶性二次粒子を表面に１〜１００個／μｍ^２ 有する透明導電膜付きフィルム、これを用いたディスプレイ用基板、ディスプレイ、液晶表示装置及び有機ＥＬ素子。 （もっと読む）

【課題】
シンプルな構造でフィルム上へ作製された機能性膜のクラックを抑えることを可能とし有機ＥＬ、太陽電池、液晶、電子ペーパー、電子回路などの電子デバイスに有用なフィルムを提供する。
【解決手段】透明導電膜、バリア膜、光機能触媒膜、ＡＲ膜、ＬＲ膜、シリコン膜等の機能性膜１を付与した薄いフィルム基板とコシを持たせるための機能としてのフィルム。これを２層ラミネートとすることにより、機能性膜の応力を緩和させる。 （もっと読む）

【課題】透過率の低下なく、高輝度の表示品質で低コストの液晶表示装置を提供する。
【解決手段】第１基板ＳＵＢ１上に薄膜トランジスタのゲート電極ＧＴを一部に形成して走査信号を印加するゲート配線ＧＬと、ゲート配線を覆って成膜されたゲート絶縁膜ＧＩと、ゲート絶縁膜の上に島状に形成されて薄膜トランジスタの能動層を構成する半導体層ｎＳ／Ｓと、ゲート絶縁膜ＧＩの上かつ半導体層に個別に接続されたソース電極ＳＤ１およびドレイン電極ＳＤ２と、ドレイン電極ＳＤ２に接続された画素電極ＰＸを有し、ゲート配線ＧＬとゲート電極ＧＴ、ソース電極ＳＤ１およびドレイン電極ＳＤ２、画素電極ＰＸを絶縁性膜のバンクＧ−ＢＮＫ、ＳＤ−ＢＮＫ、Ｐ−ＢＮＫで囲まれた領域内にインクジェット塗布した導電性溶液の焼成で形成するものにおいて、これらのバンクのいずれも第２基板ＳＵＢ２に有する遮光膜ＢＭで隠される領域内にのみ配置し、表示領域には設けない。 （もっと読む）

【課題】本発明は、強度が高くても、切断しやすいマザーガラス基板及びガラス基板ならびにそのガラス基板の製造方法を得ることを目的とする。
【解決手段】本発明に係るマザーガラス基板１は、切断部において切断することによってガラス基板を得るためのものである。そして、マザーガラス基板１は、化学強化処理が施された強化部４が、切断部の外側に設けられている。また、化学強化処理が施されていない非強化部３が、切断部に設けられている。 （もっと読む）

【課題】基板の浸漬処理の均一性を向上できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板の浸漬処理を行う基板処理装置１０ａでは、処理槽１の内部に処理液を供給する６つの供給管２ａ〜２ｆが設けられている。これら、６つの供給管２ａ〜２ｆは互いに異なる高さに均等に設けられる。また、６つの供給管２ａ〜２ｆは高さ方向に関して二つの壁面１１，１２に対し交互に設けられる。さらに、６つの供給管２ａ〜２ｆは略水平方向に沿って処理液を供給する。このため、処理槽１の全体に略水平方向に沿った平行な処理液の流れが均一に形成できることから、渦流の発生及びそれに伴う滞留部の形成を効果的に抑制できる。その結果、基板Ｗの浸漬処理の均一性を向上できる。 （もっと読む）

【課題】簡便な方法で形成でき、光劣化も生じ難く、しかも十分な配向規制力を有した配向膜を備える液晶装置用基板を提供する。
【解決手段】本発明の液晶装置用基板は、基材と、前記基材上に配設された配向膜４０とを備え、前記配向膜４０が、表面に細孔４３を具備した無機化合物からなる下地膜４１と、前記下地膜４１上に配された直鎖状炭素鎖４２とを具備していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高生産性で製造することが可能であり、かつ、液晶表示装置等の製造効率に優れたカラーフィルター付ＴＦＴ基板を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、平坦な透明基板と、上記透明基板上に形成され、複数の着色層を備えるカラーフィルター層と、上記透明基板の上記カラーフィルター層が形成された面とは反対面上に形成され、上記着色層の境界上に配置された複数のＴＦＴ電極および上記着色層上に配置された画素電極を含むＴＦＴ電極層と、を有することを特徴とするカラーフィルター付ＴＦＴ基板を提供することにより上記課題を解決するものである。 （もっと読む）

【課題】ケミカルエッチングによって基板を薄化処理する場合に、スクライブ溝を良好に形成し、また、基板厚さを容易に違えることである。
【解決手段】スクライブ溝１６０の形成後に大判基板１１０，１２０をケミカルエッチングすることにより、基板１１０，１２０を薄化するとともにスクライブ溝１６０を深くする。その後、基板１１０，１２０を機械的に分断する。または、スクライブ溝１６０をケミカルエッチングによって主面１１０Ｓ１，１２０Ｓ１にまで到達させることにより基板１１０，１２０を分断する。一方の基板１１０，１２０上にコーティング膜を設けた状態で上記ケミカルエッチングを実施することにより、基板１１０，１２０の厚さを違える。または、基板１１０，１２０に厚さの異なる下地ガラス基板を利用することにより、コーティング膜を用いずに、基板１１０，１２０の厚さを違える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、スペーサー部が、表示品質を損なわない領域に高精度で形成され、表示品質に優れスペーサーフィルターを提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は本発明は、基材と、上記基材上にパターン状に形成された遮光部と、上記基材の上記遮光部により区画された開口部を覆うように形成された着色層と、上記遮光部および上記着色層を覆うように形成された透明電極層と、上記透明電極層上であり、かつ、上記遮光部が形成された範囲内に形成された枠状の隔壁部と、上記隔壁部の内側に形成され、ビーズおよび樹脂を含有するスペーサー部と、を有することを特徴とするカラーフィルターを提供することにより上記課題を解決するものである。 （もっと読む）

【課題】 簡素な構成により、基板を加工装置のステージに対する正規位置に高精度で移送可能にすること。
【解決手段】 マガジン２１に収容してある基板１を搬送装置に受取支持し、この基板１を搬送装置により加工装置のステージ上に移送する基板移送方法において、マガジン２１内の基板１の位置を認識し、認識した基板１の位置に基づいて搬送装置による基板１の受取位置を制御し、搬送装置に対する基準受取位置にて該基板１を受取支持するもの。 （もっと読む）

【課題】ポリイミド液の塗布状態を改善することができるポリイミド膜塗布装置及び方法を得る。
【解決手段】ポリイミド膜塗布装置は、印刷テーブルと、インクジェットヘッドと、ポリイミド液供給タンクとを設け、インクジェットヘッドは、２Ｎ（Ｎ≧２、Ｎは自然数）と定義されるスキャン回数に応じて、一方向に、所定の移動ピッチだけシフトされながら、ポリイミド液を複数のノズルから噴射する。また、ポリイミド膜塗布方法は、基板が載置されるステップと、ポリイミド液供給タンクに取り付けるステップと、ポリイミド液がインクジェットヘッドに供給され、インクジェットヘッドが２Ｎと定義されるスキャン回数に応じて、一方向に、所定の移動ピッチだけシフトされながら、ポリイミド液を複数のノズルから噴射するステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】１回のレーザ照射に必要なレーザ光強度を低く抑えたスクライブが可能となるレ
ーザスクライブ方法、表示装置の製造方法、基板、表示装置、電子機器を提供する。
【解決手段】基板３４の片面に膜３５を形成する。レーザ光３６を膜３５の近傍に集光し
て、改質部３７を形成する。改質部３７は中心にクラック部３８が形成され、その周囲に
光吸収部３９が形成される。集光レンズ８と基板３４とを相対移動して１層目の改質部３
７を形成する。１層目の改質部３７の光吸収部３９にレーザ光３６を集光して２層目の改
質部３７を形成する。順次繰り返し、改質部３７の面を形成する。改質部３７の面に沿っ
て、基板３４の厚み方向に局所的な力を加えて基板３４を分断する。 （もっと読む）

【課題】 面倒且つ煩雑な作業を要することなく、また設備を大型化することなく、板ガラスの分割切断時に発生するガラスチッピングの付着残留による不良品の発生並びに製品価値の低下を抑制することを技術的課題とする。
【解決手段】 素板ガラス１０のスクライブ線１１を刻設した面の一部領域、すなわちスクライブ線１１を跨ぐようにして約１５ｍｍの幅寸法を有する帯状の領域に水溶性の保護膜Ｆを形成した。次いで、素板ガラス１０のスクライブ線１１が刻設された面の裏側に支持部材１２を配設し、且つ支持部材１２の端面１２ａと素板ガラス１０のスクライブ線１１とを合致させた状態で、その素板ガラス１０の支持部材１２からの張り出し側部分１０ａに、矢印Ａ方向への押圧力を作用させることにより、保護膜Ｆで覆われたスクライブ線１１を境界として素板ガラス１０を二つに折り割りした。 （もっと読む）

【課題】垂直配向型の液晶表示装置における突起部を形成する際に消費される材料の消費を抑えること。
【解決手段】液晶層と、前記液晶層において複数の液晶ドメインを生じさせる突起部と、を有した垂直配向型の液晶表示装置に用いられるカラーフィルタが、色要素を備えている。そして、前記色要素の表面の一部が凸部を構成しているとともに前記凸部の形状に沿った前記突起部が得られるように前記凸部が前記突起部の下地として用いられる。 （もっと読む）

【課題】反射型表示の明るさと透過型表示の彩度とを共に確保することの可能なカラーフィルタ基板及び反射半透過型の電気光学装置を提供する。また、反射型表示と透過型表示との間の色彩の差異を低減する。更にカラーフィルタの表面に生じる窪みに少なくし、液晶層の厚みの不均一より発生する表示品位の劣化を実用上問題ないレベルに抑え表示品位を維持する。
【解決手段】基板２０１の上に開口部２１１ａを備えた反射層２１１を形成し、その後、透光層２１４を部分的に形成し、これらの上に着色層２１２ｒ，２１２ｇ，２１２ｂを備えたカラーフィルタ２１２を形成する。着色層には、透光層２１４の非形成領域に設けられた厚肉部２１２ＴＨが形成される。厚肉部が１．０〜３．０μｍであり、厚肉部以外の着色層の厚さが０．２〜１．５μｍであり、且つ厚肉部と、厚肉部以外の着色層の厚さとの比が２〜６である。 （もっと読む）

【課題】従来の技術による諸問題を解決するための液晶パネル構造及びその製作方法を提供する。
【解決手段】液晶パネルは、表示アクティブ領域を備える第一基板と、第一基板の表示アクティブ領域の周辺に設けられる内スペーサー壁と、第一基板の内スペーサー壁と溝をはさむようにその外側に設けられ、内スペーサー壁と同じ高さを有する外スペーサー壁と、溝に塗布されるシール材と、内スペーサー壁と外スペーサー壁に支持されながらシール材で第一基板と密着し、第一基板及び内スペーサー壁と液晶チャンバーを定めた第二基板と、液晶チャンバーに充填される液晶層とを含む。 （もっと読む）

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、耐湿性を維持しつつ透過率を向上させ、高品質な表示を行う。
【解決手段】電気光学装置は、液晶層５０を狭持するＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０と、ＴＦＴアレイ基板１０上に設けられた画素電極９ａと、画素電極９ａ上に形成され、液晶層５０の配向状態を規制する配向膜１６と、画像表示領域１０ａの周囲に沿ったシール領域５２ａにおいて、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０を相互に貼り合わせるシール材５２とを備える。更に、ＴＦＴアレイ基板１０と画素電極９ａとの間に積層され、ＴＦＴアレイ基板１０の屈折率と画素電極９ａの屈折率との中間の大きさの屈折率を有する光学薄膜９１と、ＴＦＴアレイ基板１０上の少なくともシール領域５２ａ内に設けられ、画素電極９ａと同一膜からなるシール下側膜１５１とを備える。 （もっと読む）

【課題】酸素および水蒸気など化学的反応種に対して低透過度を有し、実質的に滑らかで欠陥がなく、非封入デバイス、またはデバイス内のその他の機能層または被膜を保護する、デバイスの製造に一般に使用される化学物質に対して化学的に耐性のある被膜を提供する。
【解決手段】本発明の複合品の高保全性保護被膜は、少なくとも１つの平坦化層および少なくとも１つの有機−無機組成バリア被膜層を有する。本発明の他の態様の高保全性保護被膜を堆積する方法は、実質的に均質の樹脂ベース平坦化層組成物を準備し、堆積用表面を提供し、表面に平坦化層組成物を堆積し、平坦化層組成物を硬化させ、平坦化層上に反応種の反応生成物または再結合生成物を堆積し、堆積中に反応チャンバに供給された反応物の組成を変えて、有機−無機組成バリア被膜層を形成する。 （もっと読む）

【課題】製造プロセスを簡略化することができる液晶表示パネル、液晶表示パネルの製造方法、電子機器を提供する。
【解決手段】本発明に係る液晶表示パネル１の製造方法は、第１基板２に予め指定された塗布領域と塗布領域以外の領域のうち塗布領域に向けて、透明電極膜５の材料となる液状材料５ａを吐出して、液晶４との接触表面に対して陥没部１０を形成する吐出工程と、液状材料５ａを固化して陥没部１０を有する透明電極膜５を形成する固化工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】モアレの少ない液晶表示パネルを短時間、低コストで設計できる表示パネル用の基板の製造方法および液晶表示パネルの製造方法を提供すること。
【解決手段】ブラックマトリックス１１２が形成された基板１１またはこの基板１１を有する液晶表示パネル１と、配向膜１１６，１２９の印刷に用いる略透明な印刷版２とを重ね合わせ、前記基板１１または液晶表示パネル１と印刷版２との間にモアレを生じないような前記基板１１または液晶表示パネル１と印刷版との相対的な角度を見出し、この見出した角度をもって基板１１に配向材を塗布する。 （もっと読む）