【課題】この発明は基板を損傷させずに確実に洗浄処理することができるようにした処理装置を提供することにある。
【解決手段】基板が供給される処理槽１と、処理槽の基板の被処理面に、マイナスの電荷が帯電しそのマイナスの電荷にプラスの電荷が静電結合したナノバブルを含む処理液を供給する処理液供給ノズル１６と、処理液供給ノズルから基板に供給された処理液に向かって供給され、その処理液に含まれるナノバブルのマイナスの電荷に静電結合したプラスの電荷を除去しナノバブルの静電気による平衡状態を消失させてナノバブルを破裂させる作動液を供給する作動液供給ノズル２２ａ，２２ｂを具備する。 （もっと読む）

【課題】 インクジェット方式により、プラスチックフィルム製の基板を基材として用いて、カラー表示の表示用パネルなどの表示部材に用いられるカラーフィルタ形成基板を作製するカラーフィルタ形成基板の製造方法であって、カラーフィルタ形成基板の性能維持と低温プロセスでの作製とを両立させることができ、更に、ランニングコストを抑えることができる、カラーフィルタ形成基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 インクジェット方式により、フレキシブル性を有するプラスチックフィルム基板からなる基材の一面側に、着色層からなるカラーフィルタを配設するカラーフィルタ形成基板の製造方法で、主溶剤として沸点が１８０℃〜２６０℃で且つ常温での蒸気圧が０．５ｍｍＨｇ以下の溶剤成分を溶剤全量に対して８０重量％以上の割合で含有するインクジェット用インクを用い、インクジェット用インクの主溶剤の沸点よりも低い温度で、且つ、前記基材の耐熱温度で、着色層の加熱形成を行う。 （もっと読む）

【課題】高透明性且つ高感度であり、硬化膜とした際の耐溶剤性に優れ、広いポストベーク温度範囲においてその温度の違いによるパターン形状等の変化が殆ど起きない、ポジ型感光性樹脂組成物並びに該組成物から得られる硬化膜を提供すること。
【解決手段】（Ａ）成分：側鎖に脂肪族水酸基を有するアルカリ可溶性アクリル重合体、（Ｂ）成分：１，２−キノンジアジド化合物、（Ｃ）成分：スルホン酸化合物、（Ｄ）溶剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物、該組成物を用いて得られる硬化膜ならびに該硬化膜からなる液晶表示素子。 （もっと読む）

【課題】従来の製造プロセスからの大きな変更を抑えつつ、薄型化および軽量化を図った液晶表示パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】大判ガラス基板33上に従来の製造プロセスによってストッパ層41、および、複数の画素を形成する。大判ガラス基板33に対して対向用大判非ガラス基板38を貼り合わせて中間パネル45を形成する。大判ガラス基板33およびストッパ層41を除去する。大判ガラス基板33よりも薄膜状のアレイ用大判非ガラス基板を、接着層を介して対向用大判非ガラス基板38側と貼り合わせる。画素(薄膜トランジスタ層35)をアレイ用大判非ガラス基板28に転写するに際して、中間パネル45までを従来の製造プロセスで組み立てることができる。大幅な製造プロセスの工程変更や間接部材数の増加を抑えつつ、液晶表示パネル11の薄型化および軽量化を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】動作性能および信頼性の高い半導体装置の作製方法の提供を課題とする。
【解決手段】単結晶シリコン薄膜を熱酸化膜からなる第１の酸化シリコン上に有し、第１の酸化シリコンを第２の酸化シリコン上に有し、第２の酸化シリコンを表面上に有する単結晶シリコン基板を用いる半導体装置の作製方法であって、単結晶シリコン薄膜から複数の島状シリコン層を形成し、複数の島状シリコン層の側面に熱酸化により第３の酸化シリコン膜を形成し、複数の島状シリコン層上にポリシリコンでなるゲート電極を形成し、ゲート電極の側面にサイドウォールを形成し、複数の島状シリコン層にソース領域及びドレイン領域を形成し、ゲート電極、ソース領域、ドレイン領域に金属膜を形成し、加熱してゲート電極、ソース領域、ドレイン領域にシリサイドを形成し、複数の島状シリコン層を覆って、層間絶縁膜を形成する半導体装置の作製方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】静電気による帯電を防止し、素子破壊による不良発生を低減させることができる薄膜トランジスタ基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】薄膜トランジスタ基板１を製造する各処理工程に長尺プラスチック基板１０をロール・ツー・ロールで供給、巻き取りを行いながらその長尺プラスチック基板１０の一方の面Ｓ１に薄膜トランジスタ５０を形成する薄膜トランジスタ基板１の製造方法であって、少なくとも長尺プラスチック基板１０の一方の面Ｓ１に薄膜トランジスタ５０を形成する前に、長尺プラスチック基板１０の他方の面Ｓ２の全面に導電膜２を形成する。 （もっと読む）

【課題】表面の平滑性が高く、また水蒸気などのガスの遮断性が高く、加えて反射防止機能を有する透明基板を提供する。
【解決手段】ガラス繊維より屈折率の大きい高屈折率樹脂と、ガラス繊維より屈折率の小さい低屈折率樹脂とを混合して、屈折率がガラス繊維の屈折率に近似するように調整された樹脂組成物を、ガラス繊維基材に含浸・硬化して作製される透明積層板１を備える。表面を平滑に形成するための透明な平滑化層２，３が複数層積層して透明積層板に形成されていると共に、複数層の平滑化層２，３が、屈折率が１．５６以上の高屈折平滑化層２と、屈折率が１．４９未満の低屈折平滑化層３からなる。 （もっと読む）

【課題】表面に凹部が存在する液晶セルガラス基板に対し、その凹部を充分に埋めて空隙に起因する輝点等を生じず、耐久性にも優れる光学フィルム貼合ガラス基板を提供する。
【解決手段】ガラス基板１に粘着層６を介して光学フィルム５を積層し、光学フィルム貼合ガラス基板１０とする。ガラス基板１は、深さＤが１５μm以下で幅Ｗが２５０μm以下の凹部２，３，４を有する。粘着層６は、アクリル酸アルキルと極性官能基を有する単量体とを含むモノマー混合物から得られ、高分子量でガラス転移温度が低い第一のアクリル樹脂、及びアクリル酸アルキルとメタクリル酸アルキルとを含むモノマー混合物から得られ、低分子量でガラス転移温度が高い第二のアクリル樹脂を含む粘着剤組成物から形成される。粘着層６がガラス基板１表面の凹部を埋め、埋まりきらずに空隙２ａが残る場合でも、その投影面積は当初の凹部２の投影面積に比べて２０％以下となる。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で、基板に対する感光材料層の貼り付け状態を容易且つ高精度に検出することを可能にする。
【解決手段】貼り付け位置検査装置９４は、ゴムローラ８０ａ、８０ｂの下流側に配置される検出部９６ａ〜９６ｆを備える。検出部９６ａは、貼り付け基板２４ａの下方側から照明光Ｌを照射するＬＥＤ照明９８と、前記貼り付け基板２４ａの上方側に配置されるＣＣＤカメラ１００と、前記貼り付け基板２４ａに近接し且つ少なくとも感光性ウエブ２２ａから外部に露出するガラス基板２４の一端部を覆って配置されるＮＤフィルタ１０２とを備える。 （もっと読む）

【課題】長期にわたって優れたシール性能を発揮することができるダイヤフラムバルブを提供する。ダイヤフラムバルブの閉状態において、処理流体配管を確実に閉塞することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】フッ素樹脂（ＰＴＦＥまたはＰＦＡ）製の弁座３０の先端部（ダイヤフラム２５に対向する端部）には環状のシール部材２０が配置されている。弁座３０の上面には、弁座３０の内面に連続する環状の段部４５が形成されており、その段部４５にシール部材２０が収容されている。シール部材２０は、フッ化ビニリデン系樹脂（ＦＫＭ）によって形成されており、比較的高い弾性および耐薬性を有している。流路の閉鎖状態で、ダイヤフラム２５と弁座３０との間にシール部材２０が密着状態で介装される。 （もっと読む）

【課題】表面に薄膜が形成されている基板の熱処理工程時の基板の熱変形を防止することができる熱処理方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る熱処理方法は（ａ）第１の基板１０ａ上に第２の基板１０ｂを積層する段階及び（ｂ）第２の基板１０ｂ上に重りを載置する段階を含み、第１の基板１０ａと第２の基板１０ｂは、両基板にそれぞれ形成された薄膜同士が接触するように積層されることを特徴とする。本発明によれば、熱処理工程の際に基板上に形成されている薄膜同士が接触する状態で基板を積層し、積層された基板上に重りを載置することによって基板の変形を防止する効果がある。 （もっと読む）

【課題】物理蒸着法による薄膜の形成時において、処理室内に堆積する膜のクラックの発生を防止し生産性を向上させることが可能な成膜方法及び電気光学装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、物理蒸着法により処理室内において被蒸着物上に薄膜を形成する成膜方法において、内部応力が引張応力及び圧縮応力のうちのいずれか一方を示す第１の膜を形成する第１の成膜工程と、内部応力が、引張応力及び圧縮応力のうちの前記第１の膜が示す方とは異なる方を示す第２の膜を形成する第２の成膜工程と、を同一の前記処理室内において交互に実施することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、表示装置をなすガラス基板上に設けた表面層を予め剥離して回収することで、簡易な方法で、高純度の材料を、次工程の材料として提供することを目的とするものである。
【解決手段】本発明は、ガラス基板（１および８）上に表面層４７を設けた表示装置（１４）を固定する筐体（１５と１６）から、表示装置（１４）を取り出す筐体取り外し工程２１を経た後、ガラス基板（１および８）上の表面層４７を除去する表面層除去工程２８で、レーザ光線４８を照射することで表面層４７をガラス基板（１および８）から剥離するというものである。 （もっと読む）

【課題】表面硬度が高く、脆性、カール防止性に優れるハードコートフィルムを提供すること。また、該ハードコートフィルムを具備した偏光板および画像表示装置を提供すること。
【解決手段】透明プラスチックフィルム基材の少なくとも一方の面に、ハードコート層を有するハードコートフィルムであって、該ハードコート層が、ポリロタキサンを含有し、ポリロタキサンがハードコート層の表面に高濃度で存在することを特徴とするハードコートフィルム。 （もっと読む）

【課題】本発明は、液晶パネルに帯電防止機能を付加するとともに曲げ強度を向上させることができる液晶パネルとその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明による液晶パネルは、２枚のガラス基板１、２１が貼り合わされて形成されたフレキシブル性を有する液晶パネル５４において、少なくとも一方のガラス基板１、２１の外側主面と、ガラス基板１、２１の端部および側面６４とに透明導電性膜６５を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板を備えた画像表示装置に化学研磨による強度向上に適した構造を与え、製造工程における歩留まりを高め経費を削減する。
【解決手段】複数の画素とその制御配線が形成された主面を有し且つガラスから成る第１基板と、第１基板主面の一部分以外と重なり且つ第１基板に貼り合わされた第２基板とを備えた画像表示装置において、第１基板主面の一部分の制御配線が形成された第１領域を当該一部分の第２領域で当該一部分の端から隔て、この第２領域にガラスとは異なる材料から成るパターンを形成する。第１基板の強化させる化学研磨を、その主面の第２領域に施し且つこれに囲まれた第１領域に施さないことで、制御配線の劣化を防ぎ、第２領域に形成されたパターンの化学研磨による色、光沢等の変化で第１基板の化学研磨の進捗状況を確認する。これにより、第１基板からガラスを破断させ得る傷を十分に除去し且つ第１基板が薄くなりすぎないように化学研磨処理を管理する。 （もっと読む）

【課題】位相差機能を持つ環状ポリオレフィン樹脂からなるベースフィルムを用いた構成で、ガスバリア層中の各膜同士の親和性を向上させ、良好なガスバリア性を発揮することが可能なガスバリア層付フィルムを提供する。
【解決手段】ベースフィルム１０を、Ｈ_２Ｏ透過率が１０ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下のバリア性と、ガラス転移温度が１３０℃以上の特性を有し、且つ、リターデーションが波長０以上５５０ｎｍ以下の位相差を持つ透明ポリオレフィン樹脂で構成する。ガスバリア層を、電離線硬化樹脂または熱硬化樹脂の少なくともいずれかよりなるポリマー膜１２と、Ｓｉ_ｘＯ_ｙＮ_ｚからなる無機膜１１とで構成する。ｘは０．３５以上０．５５以下であり、ｙ／ｚは０．４以上２．０以下であり、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１を満たすものとする。 （もっと読む）

【課題】防眩性および耐擦傷性、強度（スチールウール強度）、鉛筆硬度等に優れた透明被膜付基材を提供する。
【解決手段】基材上に、平均粒子径(Ｄ_P)が０．１〜５μｍの範囲にある無機酸化物粒子
とマトリックスとからなり、該無機酸化物粒子の屈折率（ｎ_P）とマトリックスの屈折率
（ｎ_M）との差（ｎ_P）−（ｎ_M）が０．０５〜０．８の範囲にあり、表面に凹凸を有する
第１透明被膜、および、該第１透明被膜上に、表面が平坦な第２透明被膜が形成されてなることを特徴とする透明被膜付基材。前記無機酸化物粒子の屈折率（ｎ_P）が１．２０〜
２．５０の範囲にある。 （もっと読む）

【課題】ガラス基材との密着性、膜の耐熱性、膜の脱ガス特性、膜強度等に優れるとともにイオン拡散防止性能に優れたイオン拡散防止膜を提供する。
【解決手段】（ａ）下記一般式（Ｉ）等で示される有機珪素化合物をテトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイド（ＴＡＡＯＨ）の存在下で加水分解して得られるケイ素化合物を含む塗布液を調製する工程、（ｂ）前記塗布液をガラス基材上に塗布する工程、（ｃ）塗布膜を２５〜３５０℃の温度で乾燥処理する工程、（ｄ）水蒸気の存在下、塗布膜を１０５〜４５０℃の温度条件下で加熱処理する工程（水熱処理工程）、からなるイオン拡散防止膜の製造方法。Ｘ_nＳｉ（ＯＲ）_{4-n・・・・}（Ｉ）（式中、Ｘは水素原子、フッ素原子、または炭素数１〜８のアルキル基、フッ素置換アルキル基、アリール基もしくはビニル基を表し、Ｒは水素原子、または炭素数１〜８のアルキル基、アリール基もしくはビニル基等を表す。） （もっと読む）

【課題】ギャップ制御性や配向安定性維持等の特性を損なうことなく、耐湿性が高く、焼き付き発生による表示劣化を抑制することが可能な液晶表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】一対の基板間１１、１２に挟持された液晶層１７の外周に第１のシール部材１５を配置し、第１のシール部材１５の外周に一対の基板１１、１２に接して配置された第２のシール部材１６を配置する。そして、第２のシール部材１６は紫外線照射によって無機膜となるアルキルシロキサン化合物を原材料とする。また、アルキルシロキサン化合物は、ジアルキルシロキサン化合物又はジメチルシロキサン化合物とする。 （もっと読む）