【課題】 IPS表示パネルの外形寸法を小型化する。
【解決手段】 ２枚の基板の間に液晶材料が挟持された液晶表示パネルを有し、前記液晶表示パネルは、第１の基板にトランジスタ素子および画素電極ならびに共通電極を有し、第２の基板に導電層を有し、かつ、前記両基板は、少なくとも一辺が重なっている表示装置であって、前記第２の基板は、前記第１の基板と向かい合う面の裏面に前記導電層を有し、前記第１の基板は、前記画素電極とは電気的に独立し、かつ、前記両基板の重なる辺の近傍に一端を有するグランド配線を有し、前記導電層と前記グランド配線は、前記両基板の重なる辺で、両基板の間から前記第２の基板の端面を通り前記導電層に達する導電材料で電気的に接続されている表示装置である。 （もっと読む）

【課題】高画質であって、フレキシビリティーが高く、かつ耐屈曲性の高い平板表示装置を提供すること。
【解決手段】基板にマトリクス状に配置された複数の画素を備える平板表示装置であって、前記複数の画素はそれぞれ、ナノワイヤ、ナノロッド、ナノリボンまたはナノチューブを含むチャネル領域を有する薄膜トランジスタ、および前記薄膜トランジスタにより駆動される表示素子を含み、前記ナノワイヤ、ナノロッド、ナノリボンまたはナノチューブの軸方向は、チャネル領域のソース−ドレイン方向と同方向であり、ソース−ドレイン方向と交わるように屈曲される平板表示装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】本発明は有機膜と無機膜と間の分離現象を防止することができる薄膜トランジスタ基板とその製造方法、及びこれを有する液晶表示パネルとその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による薄膜トランジスタ基板は、ゲートライン及びデータラインと接続された薄膜トランジスタと、薄膜トランジスタを保護する有機保護膜と、ゲートラインとデータラインとの間に形成され有機保護膜との接触面と、有機保護膜との非接触面が異なる形態で形成された無機絶縁膜と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】基板に対する膜パターンの密着力を向上し、膜パターンを良好に形成することが
できる膜パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】機能液を基板上に供給して膜パターンを形成する際、基板と膜パターンとの
密着力を向上させるための中間層を基板上に形成する工程と、中間層上に機能液を供給す
ることによって膜パターンを形成する工程とを経て形成する。中間層はシロキサン結合を
主鎖とした無機材料を含む。 （もっと読む）

【課題】バンクにクラックが発生することを抑制し、膜パターンを良好に形成することが
できる膜パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】 機能液を基板上に供給して膜パターンを形成する際、基板上にバンクを形
成する工程と、バンクによって区画された領域に機能液を供給する工程と、バンクを焼成
する工程とを経て形成する。バンク表面の撥液性物質を除去するために、焼成を所定のガ
ス雰囲気下で行う。 （もっと読む）

【課題】細い線状の微細パターンを、精度よく安定して形成することができる配線パターンの形成方法及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】隔壁構造体が、その幅が機能液Ｌの飛翔径よりも小さいゲート電極溝部５６ａと、ゲート電極溝部５６ａの一部に形成され、その幅が機能液Ｌの飛翔径以上であり、かつ、外周の少なくとも一部に円弧を有する形状であるゲート電極補助溝部５７ａとを有し、ゲート電極補助溝部５７ａ内に前記機能液Ｌを配置する工程と、機能液Ｌによりゲート電極補助溝部５７ａにゲート電極補助部を形成すると共に、機能液Ｌの毛管現象によりゲート電極溝部５６ａにゲート電極補助部に接続されるゲート電極を形成する工程と、を備える． （もっと読む）

【課題】レジストが形成されている半導体にイオンの導入すると、イオンとレジストの成分とが反応してガス（解離ガス）が発生し、解離ガスの成分が半導体に導入され、該半導体の物性を低下させる要因となっている。
【解決手段】有機膜から発生する解離ガスの処理を行うことを特徴とする。特に、本発明は、イオンの導入を行う前の解離ガスの処理を行うことを特徴とする。そのための方法として、イオンの導入を複数回に分けて行うことを特徴とする。解離ガスは、イオンの導入が始まった直後に最も多く発生する。そのため、イオンの導入を複数回に分け、少なくとも２回目以降のそれぞれのイオンの導入において、排気を行い解離ガスを処理室内から除去しながらイオンの導入を行えば、解離ガスの成分が半導体中に導入されることを低減もしくは防止することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】
本発明の課題とするところは、インキ吐出方式を利用して簡易なプロセスで安価に印刷物を製造するに際し、混色と白抜けを防止して高品質で信頼性の高い印刷物を提供し、また、その製造方法を提供することである。
【解決手段】
隔壁形成用の樹脂組成物に、樹脂組成物中の樹脂バインダーとの相溶性を示す部位と撥インキ性を有する部位との２つの部位を有し、数平均分子量が４０，０００〜１００，０００となる化合物を撥インキ剤として含ませて、この樹脂組成物を用いて基板上に隔壁を形成した。すると、隔壁の臨界表面張力は２４〜３０ｍＮ／ｍとなった。これにより、撥インキ化合物は隔壁と外界との界面に集中し、樹脂バインダーとの相溶性を示す部位が隔壁内側に配向し、前記化合物のうち撥インキ性を有する部位が隔壁外側に配向した。そして、このため、該隔壁が良好な撥インキ性を示すことを見出した。 （もっと読む）

【課題】液晶パネルなどのガラス基板上に形成された電極端子とＦＰＣ基板上の電極とを接続する場合において、隣接する電極端子間の絶縁性を保ちつつ、相対する電極端子間には良好な電気的接続性を実現して接着させ、電極端子の位置合わせを行うに際しては良好な電極端子の視認性を有する異方導電フィルムの提供。
【解決手段】少なくとも有機バインダー、銅成分を含む合金粒子、及び平均粒径が１０〜１０００ｎｍである無機系フィラーからなる異方導電フィルムであって、異方導電フィルムに対して、該合金粒子が０．１〜１０体積％、該無機系フィラーが０．００１〜０．５質量％であり、かつ膜厚が１０〜６０μｍである異方導電フィルム。 （もっと読む）

【課題】 バンクに対する表面処理（撥液化処理）を不要にし、これにより工程を簡易化して生産性を向上した膜パターンの形成方法と、これによって得られる膜パターン、さらにはデバイス、電気光学装置等を提供する。
【解決手段】 機能液Ｘ１を基板Ｐ上に配置して膜パターンを形成する方法である。基板Ｐ上に膜パターンの形成領域に対応したバンクＢを形成する工程と、バンクによって区画された領域３４に機能液Ｘ１を配置する工程と、機能液Ｘ１を硬化処理して膜パターンとする工程と、を有する。バンクＢを形成する工程では、ポリシラザン液又はポリシロキサン液を塗布し、次いでこれを露光し現像してパターニングした後、焼成することにより、側鎖に疎水基を有し、シロキサン結合を骨格とする材質のバンクを形成するようにし、機能液Ｘ１として、水系の分散媒または溶媒を含有した液状体を用いる。 （もっと読む）

本発明は、下部電極をフォトマスクに利用して、絶縁膜上に下部電極と概ね同一パターン形状の撥液領域と概ね反転パターン形状の親液領域を形成して、親液領域内に導電性インクを塗布焼成して、下部電極に対して概ね反転パターン形状の上部電極を自己整合して形成するため、印刷法を用いても位置ずれが発生しない。このため、アクティブマトリクス型薄膜トランジスタ基板などの半導体装置が印刷法を用いて形成できる。
（もっと読む）

【課題】充分な遮光性を有する一方、光を照射することで充分に硬化させることができるため、滴下工法により製造した場合であっても、光の漏れ出しがなく高いコントラストを有し、優れた画像表示品質を有する液晶表示素子を実現することができる液晶滴下工法用遮光シール剤、上下導通材料及び液晶表示素子を提供する。
【解決手段】環状エーテル基を有する硬化性化合物、光カチオン開始剤、及び、遮光性着色剤を含有する液晶滴下工法用遮光シール剤。 （もっと読む）

【課題】 フォトリソグラフィ法を用いることなく、半導体層をパターニングすることで形成された、半導体装置、電気光学装置、電子機器、半導体装置の製造方法、電気光学装置の製造方法、および電子機器の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の半導体装置は、基板上方に、第１の導電膜と、第２の導電膜と、上記第１および第２の導電膜上に形成された半導体層と、上記半導体層上に形成された絶縁層と、上記絶縁層上に形成された塗布膜と、を有し、上記半導体層と上記塗布膜の幅は等しいことを特徴とする。 （もっと読む）

ディスプレイが、開示される。このディスプレイは、発光する構成とした複数のピクセルを含む。ディスプレイは、それぞれピクセルからの光の照射を調整するように構成された複数のピクセル制御回路もまた含む。このピクセル制御回路は、それぞれ有機半導体を含む１以上の２端子スイッチング素子を含む。
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【課題】ＦＰＣ基板を折り返して表示素子の背面に配置する場合、折り曲げの位置や曲率がばらつき、ＦＰＣ基板のパターンに断線が発生することを防止する。
【解決手段】 表示素子１を保持するフレーム４に出っ張り部５を設けて、この出っ張り部５にＦＰＣ基板２の折り曲げのガイドの役目をさせる。これにより、追加部材、追加工数等のコストアップはなく、個々の作業者による折り曲げ位置、曲率のバラツキをなくすことが可能となる。 （もっと読む）

【課題】歩留まりを向上させることができる表示装置を提供する。
【解決手段】表示装置において、表示パネルはパッドを通じて駆動チップ１２０から駆動信号の入力を受け、駆動信号に応答して画像を表示する。前記駆動チップ１２０は駆動信号を出力する端子ＯＴ１を有する。表示パネルと前記駆動チップ１２０は異方性導電フィルム１３０によって表示パネル上に付着され、表示パネルと電気的に接続される。潤滑層１４０は前記異方性導電フィルム１３０の表面上に形成され、表示パネル上に前記駆動チップ１２０を付着する過程で発生する電気的な接続不良を防止する。従って、表示装置の歩留まりを向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】必要なマスクの数や工程数を更に減少させることで低コスト化や工程時間の更なる短縮を実現させる、薄膜トランジスタ表示パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による薄膜トランジスタ表示パネルの製造方法は：ゲート線、データ線、及びドレイン電極を含む薄膜トランジスタを形成する段階；薄膜トランジスタの上に絶縁膜を形成する段階；絶縁膜の上に第１導電膜を形成し、ドレイン電極と電気的に接続する段階；第１導電膜の上に第２導電膜を形成する段階；第２導電膜の上に、厚さの異なる二つの部分を含む感光膜を形成する段階；感光膜をマスクとして利用し、第１エッチング液で第２導電膜をエッチングする段階；感光膜と第２導電膜とをマスクとして利用し、第２エッチング液で第１導電膜をエッチングする段階；を含む。 （もっと読む）

【課題】生産工程が単純化された薄膜トランジスタ及びそれを用いた液晶表示装置
【解決手段】絶縁基板１１上の光透過型感光性樹脂１２の開口部に形成されたゲート電極１３と、光透過型感光性樹脂及びゲート電極上に形成されたゲート絶縁膜１４と、
ゲート絶縁膜の一部の上に形成された半導体層１５、オーミックコンタクト層１６及び保護膜１７と、ゲート絶縁膜、半導体層、オーミックコンタクト層及び保護膜上の光透過型感光性樹脂１８の２つの開口部に形成されたソース・ドレイン電極１９とを備え、前記ゲート電極及びソース・ドレイン電極が、金属微粒子を含有するインクを用いたインクジェット塗布により形成された電極であることを特徴とする薄膜トランジスタ （もっと読む）

【課題】 高いパターン形成が可能で、かつ生産性の高いアクティブマトリクス基板の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 各画素にＴＦＴ３０が形成されるアクティブマトリクス基板の製造方法において、例えばＴＦＴ３０を構成するゲート電極３１をガラス基板２０上にパターン形成する際、ガラス基板２０上に前駆体２１を塗布し、前駆体２１が塗布されたガラス基板２０の上方から、多孔質のセラミックからなる平板４０に取付けられた鋳型４１を前駆体２１に押し当てて、鋳型４１により前駆体を吸収することでパターン形成する工程が含まれていることを特徴とする。このような押印法によるパターン形成によれば、高いパターン形成が可能であり、また多孔質な平板４０によっても前駆体２１を吸収するため、鋳型４１の交換回数を減らすことができる。 （もっと読む）

【課題】 液相法により導電性に優れた透光性導電膜を形成する方法を提供する。
【解決手段】 導電性微粒子と分散媒とを含む分散液１５０を基体上に配置し、導電性微粒子を含む微粒子膜を基体上に形成し、その後に、導電性微粒子を溶解した有機溶媒１５１を微粒子膜上に配置し、所定の温度の熱処理を行う。 （もっと読む）