【課題】被照射体を傾ける必要がなく、通常の密着露光装置または近接露光装置に被照射体と平行に設置して、１度の露光で複数の異なる角度の斜め露光を、被照射体に対して行うことができるフォトマスクを提供すること。
【解決手段】露光装置より照射されたフォトマスクに垂直な平行光を、被照射体に傾斜させて出射するフォトマスクであって、透明基板の照射面側に、回折光学素子が形成され、透明基板の出射面側に、回折光学素子からの回折光を選択的に透過する光透過部のパターンが形成される。 （もっと読む）

【課題】本発明によれば、露光マスクに基板ステージを接近させプロキシミティ露光を行う場合に、露光マスクの膨らみを制限することにより、露光マスクと被露光基板との隙間が均一な状態を短時間で達成することができる。
【解決手段】本発明の露光方法は、ガラス基板の片面にマスクパターンが形成され、前記マスクパターンの遮光部に該当する任意の位置に前記ガラス基板を貫通する通気孔が単数または複数個形成された露光マスクと、前記露光マスクにより露光される被露光基板との間隙を調整する前後いずれかにて、前記通気孔から前記間隙の気体を真空手段により排出することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
被露光基板の搬送方向の手前側と奥側の端部に２つの観察窓を形成し、それぞれの観察窓にアライメントマークを設けることによって、被露光パターンをそれぞれ二方向に配向して露光することができるフォトマスクを提供する。
【解決手段】
被露光基板の搬送方向Ａと垂直な方向に一定の配列ピッチで形成されたマスクパターン１１と、搬送方向Ａの手前側端部に形成された第１観察窓１２と、奥側端部に形成された第２観察窓１３と、第１観察窓１２及び第２観察窓１３にそれぞれマスクパターン１１の配列ピッチの整数倍に等しい間隔を有して前記垂直な方向に設けられた第１アライメントマーク１４及び第２アライメントマーク１５と、を含んで構成され、第２アライメントマーク１５は、第１アライメントマーク１４に対して前記垂直方向にマスクパターン１１の配列ピッチの整数倍の寸法だけずらして形成されたものである。 （もっと読む）

【課題】位相変調マスクからの距離に依らず、被露光物を所望のパターンで精度良く露光することができる位相変調マスクを提供する。
【解決手段】照明光学系１１からの光は、位相変調マスク２０によって、所定の周期的な変調パターンで位相変調される。被露光物１４は、位相変調された光の回折光相互の干渉を利用して所定の露光パターンで露光される。ここで位相変調マスク２０は、位相変調された光の回折光のうち１次の回折光のみによって被露光物１４が露光されるよう構成されている。 （もっと読む）

【課題】露光用マスクを露光装置から外すことなしにマスクに付着した異物を除去することができる異物除去装置及び露光装置を提供することを課題とした。
【解決手段】異物が付着した露光用マスクを露光装置に搭載した状態で前記異物を除去する露光用マスク異物除去装置であって、静電気を除去するためのイオナイザー１７と、露光用マスクを照射するするためのライト１３と、異物を除去するためのパージ装置１５と、露光用マスクを撮像するためのＣＣＤカメラ１６と、が露光用マスク下部を可動することを特徴とする露光用マスク異物除去装置であって、前記ライトとパージ装置とＣＣＤカメラとが一体的に可動することを特徴とする露光用マスク異物除去装置である。 （もっと読む）

【課題】人為的な設定ミスにより、マスクパターンが異なる複数種のパターン領域から狙いと違うパターン領域が選択されるのを防止する。
【解決手段】同一のマスク基板９上にマスクパターンが異なる複数種のパターン領域１０を並べて設けたフォトマスク８であって、前記各パターン領域１０の外側に、前記マスクパターンを識別するための複数種の識別マーク１１を形成したものである。 （もっと読む）

【課題】人為的ミスにより異なる種類のフォトマスクが取り付けられるのを防止する。
【解決手段】マスクパターンを形成したパターン領域１７外の部分にマスクの種類を識別するための第１の識別マーク１８を形成した。 （もっと読む）

【課題】近接露光を行う際にパターンの転写精度を向上させる。
【解決手段】主表面に転写用パターンを形成してフォトマスクとなすためのフォトマスク用基板であって、主表面上のパターン領域の高さ変動の最大値ΔＺｍａｘが、８．５（μｍ）以下である。 （もっと読む）

【課題】近接露光を行う際にパターンの転写精度を向上させる。
【解決手段】第１主表面に転写用パターンを形成してフォトマスクとなすための、厚さＴ（ｍｍ）のフォトマスク用基板であって、第１主表面の裏面にある第２主表面において、１０（ｍｍ）離間した任意の２点の高低差がΔＺｂ（μｍ）であるとき、第１主表面のパターン形成領域に対応する第２主表面の領域内のΔＺｂが、ΔＺｂ≦（１／Ｔ）×３．０を満たす。 （もっと読む）

【課題】露光装置より照射された平行光７を、被照射体６に傾斜させて出射するフォトマスク１であって、被照射体６を傾ける必要がなく、通常の密着露光装置で、１度の露光で多角度の斜め露光を、被写体６に対して行うことができるフォトマスク１を提供する。
【解決手段】透明基板の出射面側に、光透過部３１のパターンが形成され、照射面の前記パターンに対応した透明基板部位に斜面２１、２２が形成され、あるいは、さらに光透過部に、グレースケール膜が形成されていることを特徴とするフォトマスク。 （もっと読む）

【課題】洗浄処理において、基板への不必要なダメージや回路パターン倒れを防ぎつつ、特定箇所の異物を除去できる洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】洗浄処理に用いるための処理流体を基板５に噴出する処理流体ノズル７と、基板５から処理流体を回収する回収装置８とを具備している。基板５を処理流体ノズル７からの処理流体により局所的に洗浄処理することができるため、基板５に対して不必要なダメージ、回路パターン倒れを防ぎつつ、特定箇所の異物を除去できる。 （もっと読む）

【課題】従来のマルチ波長の露光光源を使用した場合でも、転写パターンの解像度を向上させることが可能なフォトマスクを提供する。
【解決手段】ピーク波長の異なる例えばｉ線、ｈ線、ｇ線を含む露光光を用いる露光装置に使用されるフォトマスクである。このフォトマスクは、透明基板１と、透明基板１上に形成された転写パターン２と、波長選択手段３とを有する。波長選択手段３は、フォトマスクに照射する露光光に含まれる所定波長を反射することにより、前記所定波長の光透過量を低減するものであり、例えば、透明基板上に、それぞれ異なる屈折率を有する複数の誘電体層を交互に積層してなる誘電体多層膜で構成される。 （もっと読む）

【課題】大面積にわたってマスクと被露光物との密着を確保することのできる近接場露光用マスク、レジストパターン形成方法、デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】本実施形態の近接場露光用マスクは、シリコン基板２と、前記シリコン基板２上に形成され、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｓｂ、Ｗ、Ｎｉ、Ｉｎ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｚｎ、Ｐｄ、およびＣの群から選択された少なくとも１つの元素を含む層、もしくはこれらの層の積層膜である近接場光発生膜６と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】ワークを搬送しながらマスクとワークのＸ，Ｙ，θ方向のズレをリアルタイムで補正することができ、露光精度を向上することができるマスク、近接スキャン露光装置及び近接スキャン露光方法を提供する。
【解決手段】マスクＭに形成されたマスク側アライメントマーク４１は、Ｘ方向に対して互いに異なる角度α°、−α°でそれぞれ傾斜した２本の斜線部４２ａ，４２ｂと、Ｘ方向に沿って延びる直線部４３ａ、４３ｂとを有する。また、このマスクＭを使用して、近接スキャン露光装置１では、撮像手段によって検出されたマスク側アライメントマーク４１とワーク側アライメントマークＷａとのズレ量が、ワークＷの搬送中、ワーク搬送機構１０、マスク駆動部１２、照射部１４の少なくとも一つによって補正される。 （もっと読む）

【課題】マスクの位置合わせの作業性を向上させつつ、位置合わせの精度を高め、容易に、かつ高精度に圧電板や電極を形成することができる圧電振動片の製造方法、圧電振動子、発振器、電子機器、および電波時計を提供する。
【解決手段】ウエハ側マーク群７１と、電極マスク側マーク群５２とを検出する電極マーク群検出工程と、ウエハ側マーク群７１と電極マスク側マーク群５２とを位置合わせしながらウエハに電極膜用マスクを配置する電極マスク配置工程とを有し、ウエハ側マーク群７１、および電極マスク側マーク群５２は、それぞれ互いに大きさの異なるマーク５１ａ〜７１ｄにより構成され、それぞれ最も小さいウエハ側マーク７１ｄ、および電極マスク側マーク５２ｄを互いのマークの位置合わせ用として利用し、これ以外のウエハ側マーク７１ａ〜７１ｃ、および電極マスク側マーク５２ａ〜５２ｃを、電極マーク群検出工程に利用する。 （もっと読む）

【課題】近接露光装置による露光転写によって、高解像度なパターンを得る事ができる近接露光用マスク及び近接露光装置ならびに近接露光方法を提供する。
【解決手段】マスクパターンＰは、主開口を有する主パターン部８１と、該主パターン部８１の側方に形成され、現像処理後に解像されない透過性の補助パターン部８３とを備え、主パターン部８１と補助パターン部８３は、位相シフト膜８４によって仕切られる。 （もっと読む）

【課題】マスクを使って露光する露光装置において、露光ムラの発生原因のうち、装置に起因する項目がどの程度影響しているかを精度良く把握することができる露光評価用マスクおよび露光評価方法を提供する。
【解決手段】露光評価用マスクＭａは、設計値に基づくパターンを有する第１の領域ａ１，ａ３，ａ５，・・・と、第１の領域に隣接して、設計値に対して露光量のずれを与えるパターンを有する第２の領域ａ２，ａ４，・・・と、を有する。 （もっと読む）

【課題】
大型のペリクル、フォトマスクあるいはガラス基板のような大型精密部材を極めて清浄な状態を保ったまま保管、輸送できる大型精密部材収納容器を提供する。
【解決手段】
本発明は、大型精密部材を収納し、その全体を覆って嵌合するトレイ３とカバーとを備える大型精密部材収納容器１において、トレイ３およびカバーのうち、少なくともトレイ３を鋳造部材とし、当該鋳造部材の少なくとも大型精密部材を収納する空間を形成する面に導電性塗膜４０を形成し、その導電性塗膜４０の表面を、５μｍ以下の算術平均粗さ（Ｒａ）で、かつ２０μｍ以下の十点平均粗さ（Ｒｚ）とする大型精密部材収納容器１に関する。 （もっと読む）

【課題】アライメントマークの画像を取得する画像取得装置の視野内に、マスクのアライメントマークを短時間で容易に入れる。
【解決手段】フォトマスク２に、複数のアライメントマーク２ａＲ，２ａＧ，２ａＢを設け、アライメントマーク２ａＲ，２ａＧ，２ａＢの周囲に、アライメントマーク２ａＲ，２ａＧ，２ａＢの位置の情報を含む複数の位置情報マーク２ｂ，２ｃを設ける。位置情報マーク２ｂ，２ｃの画像を複数の画像取得装置により取得し、取得した位置情報マーク２ｂ，２ｃの画像に含まれるアライメントマーク２ａＲ，２ａＧ，２ａＢの位置の情報に基づいて、各画像取得装置を移動することにより、画像取得装置の視野内に、マスクのアライメントマークを短時間で容易に入れることができる。 （もっと読む）

【課題】複数種類のテストパターンを異なる時期に形成可能にできるようにしてテスト用フォトマスクを再利用する。
【解決手段】テスト用フォトマスクは、遮光膜の表面に設定され、製造用フォトマスクの転写パターンが形成可能である転写パターン領域５の内側における複数の所定位置５ａ〜５ｅに設けられ、一種類以上のテストパターンを複数の評価テストに対応させて各々個別に形成可能であるように第２所定位置が設定された評価エリア１０〜１４と、遮光膜の表面における転写パターン領域５の外側に、各評価テストに用いられる各テストパターンを位置決めすると共にその各テストパターンと関連付けが可能に形成されたマーク２１〜２４を有する。 （もっと読む）